• Tidak ada hasil yang ditemukan

SIFAT-SIFAT LAPISAN POLIESTER AKRILAT BASIL IRADIASI DENGAN SINAR ULTRA-VIOLET

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

Membagikan "SIFAT-SIFAT LAPISAN POLIESTER AKRILAT BASIL IRADIASI DENGAN SINAR ULTRA-VIOLET"

Copied!
7
0
0

Teks penuh

(1)

Aplikasi Isotop don Radiasi. 1996

SIFAT-SIFAT LAPISAN POLIESTER AKRILAT BASIL IRADIASI DENGAN

SINAR ULTRA-VIOLET

Sugiarto Danu*, Marsongko*, M. Ardiartsi**, daD lR. Juliati** *Pusat Aplikasi Isotop daD Radiasi, BATAN

**Jurusan Teknik Nuklir, Fakultas Teknik, UGM.

ABSTRAK

SIFAT-SIFAT LAPISAN POLl ESTER AKRILAT BASIL IRADIASI DENGAN SINAR ULTRAVIOLET.

Percobaan cunnI{ oligomer ester akrilat bisfenol A etoksilat diakrilat teJah dilakubn menggunakan fotoinisiator 2-hidroksi-2-metil-I-fenilpropanon dengan iradiasi ultraviolet (UV). Kecepatan konveyor 3 daD S mlmenit. Hasil percobaan menunjuk-bn, bahwa konsentrasi fotoinisiator dalam campuran memberikan pengaruh yang sarna terhadap sifat lapisan yang meliputi ffaksi-gel, kekerasan, tegangan putus, kestabilan termal, serta ketahanan terhadap bahan lcimia, pelarut, daD nods. Konsen-trasi fotoinisiator optimum ialah 1-1,5% daD 1,5-2% masing-masing pada kecepatan konveyor 3 dan S m/menit. Pads kondisi tersebut lapisan mempunyai &aksi gel sarna, yaitu 95%, kekerasan sarna, yaitu F-H, tegangan putus masing-masing 335 daD 270 kglcm2. serta suhu dekomposisi termal pads pengurangan berat 10% ialah masing-masing 360 daD 355°C. Pads umumnya lapisan tersebut tahan terhadap bahan lcimia untuk keperluan sehari-hari (household chemicals), pelarut daD noda, kecuali terhadap NaOH 10%, thinner dan spidol warns hitam.

ABSTRACT 'r\\,J).~

71e1'V"'1

PROPERTIESOF POLYESTERACRYLATEFliM IRRADIATEDBYULTRAVIOLETLIGHT.An

ex-periment on curing of acrylate ester oligomer bisphenol A etoxylate diacrylate has been done by using 2-hydroxy-2-methyl-l-phenilpropanone photoinisiator and UV-light radiation. Curing was conducted at the conveyor speed of 3 and 5 m/min. The experimental result showed that the concentrations of photoinitiator used in the mixture have the same effect on film proper-ties i.e., gel-traction, hardness, tensile strength, thermal stability, chemical and solvent resistance as well as stain resistance. Optimum concentrations of photo initiator were 1-1.5% and 1.5~2% at the conveyor speed of3 and 5 m/min, respectively. At these conditions. the films have gel-traction of 95%, hardness in the range F-H, tensile strength in the range 335 and 270 kg/cm2, and thermal decomposition temperature at 10% weight loss are 360 and 355°C, respectively. In general, the films have good resistance properties against household chemicals, solvent, and stain, except against NaOH 10%, thinner and black marker.

PENDAHULUAN

Pada umumnya bahan pelapis untuk curinJ!;secara radiasi mengandung gugus fungsional akrilat yang mem-bentuk ikatan silang hila diiradiasi dengan sinar-ultravio-let (UV) atau dengan berkas elektron. Bahan pelapis dapat dikelompokkan menjadi 4 jells, yaitu jells kation-ik. thiolene, akrilat, danjenis poliester-stiren (1,2). Jenis akrilat banyak dipakai sebagai baban pelapis yang dipro-ses secara radiasi, karena mempunyai reaktivitas tinggi. lradiasi memerlukan fotoinisiator, yang berfungsi untuk memulai reaksi polimerisasi radiasi, karena energi sinar uv tidak sebesar energi berkas elektron. Salah satu se-nyawa dalam bahan pelapis jells akrilat tersebut ialah po-liester akrilat. Popo-liester akrilat banyak dipakai untuk lapisan bahan cetakan, pelapisan poliuretan, PVC, kolit, dekorasi logam, tinta pewarna sutera, kayo, daD bahan tahan solder (3).

Sebelum dipakai untuk proses pelapisan suatu bahan, diperlukan data sifat lapisan hasil curinJ!;. Data tersebut berguna untuk menentukan formulasi bahan pe-lapis dan kondisi iradiasi yang sesuai untuk produk akhir yang diinginkan.

Dalam penelitian ini dipelajari sifat-sifat lapisan poliester akrilat dengan nama kimia bisfenol A etoksilat diakrilat basil curine: dengan radiasi UV, menggunakan fotoinisiator 2-hidroksi-2-metil-I-fenilpropanon. Sifat lapisan yang diukur meliputi fraksi-gel, kekerasan, tegang-an porus, kestabiltegang-an termal, daD ketahtegang-antegang-an terhadap ba-ban kimia, maupun ketahanan terhadap pelarut dan noda.

BAHAN DAN METODE

Bahan. Lempeng aluminium berukuran 200 x 120 x 1 rom3 dipakai sebagai substrat lapisan. Senyawa ester akrilat (bisfenol A etoksilat diakrilat) dengan nama da-gang Pbotomer 4028, buatan Henkel Corporation, Ameri-ka SeriAmeri-kat. Fotoinisiator 2-hidroksi-2-metil-I-fenilpropanon

dengan nama dagang Darocur 1173 produksi Merck,

Jerman.

Alat. Somber radiasi sinar-UV yang dipakai ter-diri dari I lampu dengan daya 80 Watt/em, buatan 1ST Strahlen Tecknik, Jerman.

Percobaan. Lempeng aluminium dibersihkan

(2)

Aplikasi Isotop don Radiasi. J 996

ampelas No. 320. Bahan pelapis dibO3t dengan mencam-pur ester akrilat dengan fotoinisiator. Konsentrasi fotoini-siator dalam campuran divariasi menjadi 0,5; 1; 1,5; 2; 3; dan 5% berat ester akrilat. Viskositas campuran diukur pada waktu-waktu tertentu untuk mengetahui kestabilannya selama penyimpanan. Campuran kemudian dilapiskan pada permukaan aluminium menggunakan silinder kaca. sehing-ga diperoleh teballapisan :t 100 ~. Selanjutnya,

diiradi-asi dengan sinar-UV pada varidiiradi-asi kecepatan konveyor 3 dan

5 mlmenit. Fraksi-gel lapisan basil iradiasi ditentukan dengan cara ekstraksi selama 16 jam menggunakan ase-ton. Kekerasan diukur menggunakan pensil standar Uni-Mitsubishi sesuai dengan TISK 5400-1970 (4). Tegangan porus diukur menggunakan Tensile Tester Model Instron 1122 sesuai dengan ASTM D 2370-68 (6). Kestabilan termal ditentukan dengan analisis termogravimetri meng-gunakan TGA-30 bO3tan Shimadzu. Pengukuran dilaku-kan dalam atmosfer nitrogen dengan kecepatan aliran 40 mVmenit, dan kecepatan pemanasan IO°C/menit.Ketahan-an bahIO°C/menit.Ketahan-an kimia. pelamt, dIO°C/menit.Ketahan-an noda ditentukIO°C/menit.Ketahan-an dengIO°C/menit.Ketahan-an uji fetes (§RQ!test) sesuai dengan ASTM D 1300-79 (6). Ba-han penguji yang dipakai meliputi NaOH 10%, N~CO3 1%, ~SO4 10%, asam asetat 5%, alkohollO%, pengen-eer (thinner), dan spidol permanen WarDamerah, biru, dan hitam. Kestabilan resin ester akrilat selama penyimpanan ditentukan dengan mengukur viskositas pada waktu-wak-tu tertenwaktu-wak-tu. Pengukuran dilakukan menggunakan viskome-tel Visconic EMD Type bO3tan Shimadzu, Jepang, pada subu 25°C.

BASIL DAN PEMBABASAN

Kestabilan Ester Akrilat. Bisfenol A etoksilat diakrilat merupakan sO3tu monomer akrilat difungsionaI dengan viskositas sekitar 500 cp (25°C ). Senyawa ini da-pat berfungsi sebagai oligomer dasar pada sistem bahan pelapis yang mempunyai viskositas rendah. Fotoinisiator Darocur 1173 berbentuk cairan beRing, tidak lamt dalam air, clan bekerja pada daerah serapan sinar-UV efektif dengan panjang gelombang antara 225 dan 375 om. Den-sitas bahan tersebut ialah 1,08 g/cm2 dan viskoDen-sitasnya 25 cpo Fotoinisiator ini merupakan turunan daTi asetofenon dan membentuk radikal melalui proses abstraksi hidrogen. Struktur kimia ester akrilat dan fotoinisiator tersebut ter-dapat pada Gambar 1.

Pengaruh waktu penyimpanan terhadap kestabil-an ester akrilat ykestabil-ang sudah dicampur fotoinisiator, terli-hat pada Gambar 2. Semakin lama penyimpanan clan semakin tinggi konsentrasi fotoinisiator, semakin cepat penurunan viskositasnya. Hal ini terlihat daTi nilai

~

masing-masing kurva, dengan pendekatan bahwa hubung-an hubung-antara viskositas dhubung-an lama penyimphubung-anhubung-an sampai 26 hari merupakan garis lurus. Penurunan viskositas disebabkan adanya reaksi polimerisasi membentuk gel, yang berjalan lambat akibat pantulan sinar matahari yang mengenai ba-han tersebut. Sebagian besar sinal matahari terletak pada daerah spektrum tampak dan daerah inframerah. Enam persen dari radiasi matahari terletak di daerah UV dengan panjang gelombang antara 290 dan 400 om (7). Daerah

panjang gelombang ini sesuai dengan bekerjanya fotoini-siator Darocur 1173, yaitu antara 225 clan 375 om. Dengan demikian, pantulan sinal matahari tersebut menyebabkan terjadinya polimerisasi daTi bahan yang mempunyai berat molekul lebih tinggi. Polimerisasi ini terlihat pada pembentukan gel yang mengumpui pada dasar wadah, dan semakin lama semakin banyak. Viskositasyang terukur berasal daTi bahan dengan berat molekul lebih rendah, sehingga mempunyai viskositas lebih rendah. Penurunan viskositas lebih cepat terjadi pada konsentrasi fotoinisiator yang lebih tinggi, karena semakin tinggi kon-sentrasi fotoinisiator, semakin banyak gel yang terbentuk, clan semakin cepat penurunan viskositasnya. Dalam aplikasinya suatu bahan pelapis setelah dicampur fotoini-siator segera dipakai untuk proses pelapisan. Walaupun demikian, untuk menjaga kestabilan viskositas bahan pe-lapis selama penyimpanan diperlukan wadah yang kedap sinar UV.

Fraksi-Gel. Fraksi-gel ditentukan oleh banyak-nya polimer ikatan silang yang terbentuk. Reaksi terjadi-nya polimer ikatan silang melalui polimerisasi radikal bebas menggunakari radiasi UV dapat ditulis sebagai berikut (3)

Fotoinisiator hv ". I. (radikal bebas) I-+ CHz=CHOOC-> COOH=CHz+ CHz=CH-I-GI-CH=CHz (Radikal + Monomer + Prapolimer

bebas)

;=fc~

C

I

CHI I I C~ - CHOOC"""""""'OOCH- C~ I C~ I -CH

Ll

C~

-

CH

-Keterangan: I = fotoinisiator

h = konstanta Planck (6,62 x 10-27erg. detik/foton v = frekuensi radiasi, putaran/detik

Jika konsentrasi fotoinisiator terlalu rendah (0,5%), energi UV tidak terpakai secara efisien. Jumlah radikal yang terbentuk terlalu sedikit jika dibandingkan jumlah bagian reaktif yang ada, sehingga kecepatan pem-bentukan gel menjadi rendah. Akibatnya, proses polimer-isasi tidak sempurna clan nilai fraksi-gel relatif rendah, yaitu antara 93 clan 94%. Fraksi-gel ditentukan oleh ban-yaknya polimer ikatan silang yang terbentuk. Semakin ting-gi densitas ikatan silang, semakin tingting-gi fraksi-gelnya. Pada konsentrasi yang lebih tinggi (l-2%),jumlah radikaI

(3)

Aplikasi Isotop don Radiasi. J 996

yang terbentuk meningkat, sehingga kecepatan pemben-tukan gel juga meningkat. Jika konsentrasi terlalu tinggi (> 2%), terdapat kelebihan radikal dibanding bagian

reak-tif yang ada. Dengan demikian, radikal tidak lagi mampu

memacu reaksi polimerisasi berjalan lebih cepat. Dalam keadaan ini, reaksi terminasi lebih dominan (8). Reaksi terminasi ini membentuk polimer dengan berat molekul rendah, yang lamt pada waktu ekstraksi. Hal ini terlihat dari nilai fraksi-gel yang cenderung menurun dengan meningkatnya konsentrasi fotoinisiator. Fraksi-gel juga dipengaruhi kecepatan konveyor. Semakin rendah kece-patan konveyor, semakin lama lapisan menerima radiasi, dan semakin banyak radikal yang terbentuk, sehingga frak-si-gel meningkat (9). Penurunan frakfrak-si-gel pada kecepat-an 3 mlmenit lebih cepat dibkecepat-anding 5 mlmenit, karena kelebihan radikal menyebabkan penurunan fraksi-gel.

Kon-sentrasi optimum pada kecepatan 3 daD 5 m/menit,

masing-masing adalah 1-1,5% dan 1,5-2%.

Kekerasan Lapisan. Sifat kekerasan suatu

polimer dipengaruhi oleh densitas ikatan silang. Semakin tinggi densitas ikatan silang, semakin tinggi kekerasannya. Histogram pada Gambar 4 menunjukkan bahwa kekerasan pensil identik dengan kurva fraksi-gel sebagai fungsi kon-sentrasi fotoinisiator. Konkon-sentrasi fotoinisiator 1% meng-hasilkan kekerasan maksimum H pada kecepatan 3 mI meDii,sedangkan kekerasan maksimum F-H dicapai pada konsentrasi 2% jika kecepatannya 5 mlmenit.

Tegangan Putus. Tegangan pUllS sebagai fungsi konsentrasi fotoinisiator disajikan pada Gambar 5. Kecenderungan sifat tegangan putus juga mirip dengan fraksi-gel. Menurut CHARLESBY (10), tegangan putus tidak hanya bergantung pada densitas ikatan silang, tetapi juga dipengaruhi oleh kemungkinan kristalisasi, adanya bahan pengisi (filler), daDberat molekul mula-mula. Pada proses pembentukan rantai menjadi struktur jaringan berikatan silang, mobilitas polimer menurun. Rantai polimer menjadi tidak mudah bergerak satu terhadap yang lain, sehingga nilai tegangan pUllS menjadi semakin ting-gi. Apabila tegangan PUllS dikaitkan dengan densitas ika-tan silang, maka kurva tegangan putus sesuai dengan kur-va fraksi-gel, karena fraksi-gel ditentukan oleh densitas ikatan silang. Nilai tegangan PUllS pada kecepatan 3 mI meDii lebih tinggi dibanding 5 mlmenit. Tegangan pUllS maksimum pada kecepatan 3 daD 5 m/menit masing-masing ialah 335 daD 70 kglcm2. Dengan nilai tersebut lapisan dapat digolongkan ke dalam bahan yang mempu-nyai kekuatan sedang.

Kestabilan Termal. Kestabilan termal lapisan ditentukan dengan mengukur perubahan berat secara kon-tinu pada kecepatan pemanasan tetap menggunakan ana-lisis termogravimetri. Pengukuran suhu awal terjadinya dekomposisi (T), dan suhu pada pengurangan berat sebe-sar 10% (T10)merupakan faktor penting untuk mengetahui kestabilan termal polimer (II). T,Olebih mudah daD lebih teliti ditentukan dari termogram dibanding To' Dari ter-mogram Gambar 6a (kecepatan konveyor 3 mlmenit), nilai T,Opada konsentrasi fotoinisiator 0,5; I; 1,5; 2; 3; dan 5%, masing-masing ialah 356, 360, 348, 315, 310, daD 348°C. Pada konsentrasi fotoinisiator yang sarna (kecepatan kon-veyor 5 mlmenit) diperoleh T,Omasing-masing ialah 375,

355, 355, 340, 365, daD 365°C (Gambar 6). Dekomposisi termal terjadi 2 tahap, kecuali pada konsentrasi 0,5 dan I%. Hal ini menunjukkan bahwa semakin tinggi konsentrasi fotoinisiator, semakin banyak fraksi polimer dengan berat molekul rendah, sehingga mudah terdekomposisi.

Ketahanan Kimia. Lapisan tidak begitu tahan terhadap NaOH 10%, thinner, dan noda dari spidol war-na hitam, daD mempunyai ketahawar-nan yang baik terhadap Na2CO31%, H.zSO410%, asam asetat 5%, alkohol 50%, serta spidol warna merah daD biru, pada kecepatan kon-veyor 3 mlmenit. Ketahanan lapisan terbaik diperoleh pada konsentrasi fotoinisiator antara 1,5 daD 2%. Pada kecepat-an 5 mlmenit lapiskecepat-an tidak tahkecepat-an terhadap NaOH 10%, H2SO410%, thinner, serta spidol warDa birD dan hitam. Ketahanan terbaik dicapai pada konsentrasi fotoinisiator 2%. Ketahanan bahan kimialpelarut dan noda pada kece-patan 3 mlmenit lebih baik dibanding pada kecekece-patan 5 mI meRit.

KESIMPULAN

Lapisan poliester akrilat bisfenol A etoksilat di-akrilat yang diiradiasi dengan sinar-UV menggunakan fo-toinisiator 2-hidroksi-2-metil-I-fenilpropanon mempunyai sifat-sifat, kekerasan antara F dan H, tegangan pUllS 335 daD 270 kg/cm2, serta suhu dekomposisi termal pada pengurangan berat 10% ialah 360 daD 375°c. Sifat terse-but diperoleh pada konsentrasi optimum fotoinisiator

1-1,5% daD 1,5-2% pada kecepatan konveyor masing-masing 3 daD 5 mlmenit. Lapisan tidak begitu tahan ter-hadap NaOH 10%, thinner, daD spidol WarDahitam.

UCAPAN TERIMA KASIH

Penulis mengucapkan terima kasih kepada selu-rub operator di Instalasi Fasilitas Iradiasi mesin berkas elektron yang telah melaksanakan iradiasi terhadap con-toh uji dalam penelitian ini.

PUSTAKA

I. ANONYMOUS, National Paint & Coatings Association, Save Handling and Use of Ultra- VioletlElectron Beam (UVIEB) Curable Coatings, NPCA, Washing-ton (1980) 1.

2. SENICH, G.A., and FLORIN, RE., Radiation Curing of Coating, Rev. Macromol. Chern. Phys. C24 2 (1984) 277.

3. HOLMAN, R, and OLDRING, P., UV & EB Curing Formulation for Printing Inks Coatings & Paints,

SITA, London (1988) 39.

4. JAPANESE INDUSTRIAL STANDARD, Testing Meth-ods for Organic Coatings (TISK 5400), TIS, Japan (1970) 72.

(4)

Aplikasi Isotop dan Radiasi, J 996

5. AMERICAN SOCIETY FOR TESTING AND MATE-RIALS, Annual Book of ASTM Standards, part 27, ASTM, Philadelphia (1982) 477.

6. AMERICAN SOCIETY FOR TESTING AND MATE-RIALS, Annual Book of ASTM Standards, part 21, ASTM, Philadelphia (1972) 474.

7. VAN LANDUYT, D.C., and LEYLER, S.P., Physical and electrical properties of acrylic oligomers, Radi-ation Curing (1982) 10.

8. HANRAHAN, M.J., "The effect of photoinitiator con-centration on the properties of UV Formulations", Proceedings Radtech '90 North America, Vol I, Chicago (1990) 249.

9. SENG, H.P., Test methods for the characterisation of UV-and EB cured printing varnishes, Part 2, Beta-gamma! (1989) 25.

10. CHARLESBY, A., Atomic Radiation and Polymers, Pergamon Press, London, (1972) 154.

II. CHIANG, W.J., and CHIANG, W.C., Condensation polymerization of multifunctional monomers and properties of related polyester resins, J. Appl. Pol. Sc. 35 6 (1988) 1433.

(5)

Aplikasi Isotop dan Radiasi. 1996

T~

~

C-[~-O-(CH CH 0) C-CH=CH 1

I

~

2 2 n ~2

C~

bisfenol a etoksilat diakrilat (photomer 4028)

j

H3

~

{; -OH

"=/

g t~

2-hidroksi-2-metil-l-fenilpropanon (Darocur 1173)

Gambar 1. Struktur kimia ester akrilat Photomer 4028 dan fotoinisiator Darocur 1173 D. u 03600 fJ 650

.

0

""i== B 1:1 e-' 0=1.5 0,5 ~50 ° If 6 12 16 20 2~ 28

Lama penyimpanan (hari)

Gambar 2. Pengaruh lama penyimpanan terhadap viskos-itas bahan pelapis pada berbagai konsentrasi fotoinisiator (0,5): y = 551,0

-

0,585 x; r = 0.937 (0,5): y = 551,0 - 0,585 x; r = 0,937 (1): y = 553,3

-

0,440 x; r = 0,914 (1,5): y = 548,3 -0,529 x; r = 0,852 (2) : y = 554,4

-

1,912 x; r = 0,898 (3) : y = 576,9

-

3,238 x; r = 0,790 (5) : y = 569,7

-

3,425 x; r = 0,935 2 3 I, Konsentrasi fotoinisiator (%)

Gambar 3. Fraksi-gel sebagai fungsi konsentrasi fotoini-siator

ij

96 '-' 1)

~

~

9" ~ 2 3 5 ~ r oM to ~"B ,.. '" :; B to.. .. ~21! 1<:39 100 98 Kecepatan: 0

=

3 mlmenit .

=

5 mlmenit I,B 92 0

I

O~~

l"

0

~

'-0

°

5 6 - .--.---.--..----fI .. ',5 2 3 Kon~cntrnni rotoininiotor, %

Gambar 4. Kekerasan pensil sebagai fungsi konsentrasi fotoinisiator

Kecepatan = 03 mlmenit; . 5 mlmenit

rv a 0 ...

!2

1,00 rl +' it 300 d .. "" d <II "" t. 200 500 Kocepnln.. : 0 3 m/me..i t . 5 m/monH 0 0 100-a 2 5 ~ 5 Konoe..lrnni rntoininintor, % 6

Gambar 5. Tegangan putus sebagai fungsi konsentrasi fo-toinisiator

(6)

Aplikasi Isotop dan Radiasi, J 996 ~ 0 I - ""-,~ ~ 10 --- -.~;:;;':;;~.;.~~-:;:'";::-:t:~~: .. ', .. --I ":-.:,'\ ~ I \\ . '.\ '\ . I \\

,

\

"

.

Konsontrosi fotoiniGi~tor, % \\ -0,5 I' 1 -'- 1 5

I

-,..., 2' :,:~:

§

I

'1'10\1 100 ~-~--' ~ ~-0 100 :')() 300 1,:)0 ... 01 k ~ 1,0 ~ bO ~ 60 k ~ <I ~ 80 500

Gambar6a. Dekomposisi termal lapisan pactakecepatan konveyor3 mlmenit a I ~," ~:::-:"C::'::'~'::::~::-::='~c~-::;';-;-~o-,.-",-~_.~.,~..,.,~..,.~."...>

"-I

~\' 10 (~ '1/'. ;J) I

'

\

I ~. t ..jrotnII1IG1ntor'% 1 '\. . '{onG~n I nf, . \. I

\

~ I ~\'; T10

I

~. 300 ... rJ k .~ 1,0 ".. t.O ~ 60 <-'" bO " QI P. eo -0,5 - --- I -'.- 1,5 2 ".." 3 --" 5 100 0 100 200 0,\111\1, °c 1,00 ~oo

Gambar 6b, Dekomposisi termal lapisan pacta kecepatan konveyor 5 mlmenit

Kecepatanpemanasan : lOoC/menit Kecepatanaliran N2 : 40 ml/menit

(7)

RAHAYUC.

1. Mengapa penelitian ADda menggunakan Mesin Ultra-violet?

2. Apa perbedaan yang mendasar treatment dengan U.V dan EBM?

SUGIARTO

1. Radiasi ultra violet dipakai karena tidak memerlukan nitrogen yang harganya cukup mahal di mana nitrogen mutlak diperlukan untuk curing menggunakan radiasi berkas elektron (BE).

2. Perbedaan pokok treatment dengan ultra violet dan ber-kas elektron adaIah: (a) Bahan pelapis ultraviolet me-merlukan fotoinisiator sedangkan dengan berkas elek-troDtidak. (b) Radiasi ultraviolet tidak memerlukan ni-trogen sedangkan dengan berkas elektron memerlukan. (c) Radiasi dengan ultraviolet relatiflebih murah diband-ingkan dengan berkas elektron.

YANTI S.

1. Mengapa fraksi gel menurun sampai drastis dengan kenaikan konsenttrasi fotoinisiator pada kecepatan kon-veyer 3m/min ?

DISKUSI

AplikasiIsotop danRadiasi. 1996

2. Apakah monomer reaktif sebagai crosslink-agent tidak akan dipakai dalam coating yang anda lakukan ?

SUGIARTO

I. Fraksi gel menurun drastis dengan kenaikan konsentrasi fotoinisiator pada kecepatan konveyer 3m/min, schab semakin tinggi konsentrasi fotoinisiator dan semakin rendah kecepatan konveyor semakin banyak radikal yang terbentuk tiap satuan waktu. Jumlah radikal yang terlalu banyak menyebabkan reaksi terminasi lebih dom-iRandibanding reaksi propagasi. Akibatnya, polimer BM rendah lebih banyak terjadi, sedangkan polimer ini mudah larot dalam ekstraksi, sehingga menurunkan fraksi gel.

2. Dalam sistem bahan pelapis radiasi suatu senyawa dap-at berfungsi sebagai oligomer dasar yang mempunyai viskositas rendah.

Dengan viskositas rendah sekitar 500 cp dan sifat oligomer yang polifungsional, maka oligomer ini sudah dapat dipakai untuk coating tanpa penambahan mono-mer sebagai crosslink agent

Gambar

Gambar 1. Struktur kimia ester akrilat Photomer 4028 dan fotoinisiator Darocur 1173 D

Referensi

Dokumen terkait

Dengan ini saya menyatakan bahwa tesis berjudul Pengaruh Pertumbuhan Ekonomi, Ketimpangan Pendapatan, dan Pengangguran Terhadap Tingkat Kemiskinan di Kabupaten/Kota

Hasil penelitian menunjukkan bahwa try out ujian sekolah 2014/2015 Mata Pelajaran Matematika buatan tim guru tingkat SD di Gugus 30 Wilayah IV Kecamatan Donri-donri Kabupaten Soppeng

HUBUNGAN ANTARA DUKUNGAN SUAMI TERHADAP IBU DALAM MENGHADAPI TEMPER TANTRUM ANAK DENGAN KONTROL DIRI IBU DALAM MENGHADAPI.. TEMPER

Maryani (2018) menyatakan bahwa mata kuliah bahasa Inggris untuk keperawatan pada dasarnya adalah untuk menjawab tuntutan dunia kerja bagi para calon perawat yang

yang dikemukakan oleh David Kolb merupakan sebuah kerangka kerja yang dapat digunakan untuk mengetahui kecenderungan serta gaya belajar seseorang berdasarkan dari

Naskah Skripsi yang berjudul Pengaruh Konsentrasi Kluwak (Pangium edufe Reinw.) Dan Lama Penyimpanan Bumbu Rawon Terhadap Total Bakteri, Kapang Dan Khamir, Serta

Bagaimanapw1 baiknya mutu minyak pelumas yang digunakan untu melumasi mesin, keausan komponen mesin selama operasi akan tetap terjad meskipun keausan yang te~ jadi