• Tidak ada hasil yang ditemukan

Pengaruh Laju Alir Gas CH2 FCF3 Terhadap Laju Plasma Etching SiO2 Pada Quartz Crystal Microbalance

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2018

Membagikan "Pengaruh Laju Alir Gas CH2 FCF3 Terhadap Laju Plasma Etching SiO2 Pada Quartz Crystal Microbalance"

Copied!
6
0
0

Teks penuh

Loading

Gambar

Gambar 1. Skema Reaktor Plasma
Gambar 2.  Kenaikan Tekanan Reaktor terhadap Laju Alir Gas
Gambar 3.  Gambar hasil scan TMS untuk Permukaan SiO2

Referensi

Dokumen terkait

Berdasarkan hasil temuan dan pengolahan data yang dilakukan dapat disimpulkan sebagai berikut: Terdapat pengaruh yang signifikan antara latihan PukulanServise(X)

Hasil penelitian menunjukan bahwa kondisi fiskal di Indonesia adalah berkelanjutan dan variabel makroekonomi seperti utang dalam negeri, inflasi, kurs, dan harga minyak mentah

Beberapa diagram ada yang rinci (jenis timming diagram ) dan lainya ada yang bersifat umum (misalnya diagram kelas). Para pengembang sistem berorientasi objek menggunakan bahasa

Dengan semakin berkembangnya zaman daerah ini pun semakin maju, sehingga tanah yang telah dikelola oleh orang banyak tersebut, didirikanlah sebuah Nagari yang bernama Nagari

Batasan yang terdapat dalam implementasi perangkat lunak aplikasi Augmented Reality Book pengenalan tata letak bangunan Pura Pulaki dan Pura Melanting yaitu

Berdasarkan hasil pengolahan data hambur balik volume dasar perairan dengan menggunakan program Echoview menunjukan bahwa terdapat perbedaan nilai hambur balik

Berdasarkan hasil penelitian yang diperoleh, dapat disimpulkan bahwa terdapat 6 faktor utama yang paling berpengaruh dalam penjualan antibiotik tanpa resep di apotek komunitas dari

Setiap pengguna yang memiliki ponsel Android , dapat memasang dan menggunakan aplikasi ini untuk berkomunikasi dengan pengguna lain dalam area lokal.. Gambar