• Tidak ada hasil yang ditemukan

Pengaruh Waktu Deposisi dan Tekanan Gas Argon Proses PVD RF Sputtering pada Silver Thin Film untuk Aplikasi Antimicrobial Coating pada Orthopedic Devices - ITS Repository

N/A
N/A
Info
Unduh - Bebas
Protected

Academic year: 2019

Membagikan "Pengaruh Waktu Deposisi dan Tekanan Gas Argon Proses PVD RF Sputtering pada Silver Thin Film untuk Aplikasi Antimicrobial Coating pada Orthopedic Devices - ITS Repository"

Copied!
102
0
0

Memuat.... (Lihat teks lengkap sekarang)

Unduh sekarang ( 102 Halaman )

Teks penuh

Loading

Gambar

Gambar 2.1. Pathogenesis dari FBRIs: langkah pembentukan biofilm pada permukaan polimer
Gambar 2.3. Mekanisme antibakteri dari logam. (a) Logam reactive oxygen speciesmerusak fungsi membrane, (d) mengganggu serapan nutrisi, menyebabkan disfungsi protein, (b) menginisiasi produksi (ROS) dan penipisan antioksidan, (c) serta (e) bersifat genoto
Gambar 2.6. Skema pembentukan lapisan tipis pada
Gambar 2.7. Tipe dari Interfacial regions (Mattox, 2010)
+7

Referensi

Unduh sekarang ( PDF - 102 Halaman - 7.85 MB )

Garis besar

KESIMPULAN DAN SARAN Pengaruh Waktu Deposisi dan Tekanan Gas Argon Proses PVD RF Sputtering pada Silver Thin Film untuk Aplikasi Antimicrobial Coating pada Orthopedic Devices - ITS Repository

Dokumen terkait