• Tidak ada hasil yang ditemukan

A. KESIMPULAN

1. Resistansi film tipis CuPc dipengaruhi oleh arus saat deposisi, hal ini menunjukkan bahwa kecepatan deposisi menentukan resistansi.

2. Penampang melintang film tipis dideposisikan dengan bervariasi waktu, yaitu: (60 , 90 dan 120) menit mempunyai ketebalan masing-masing, berturut-turut: 2,1 μm, 2,4 μm dan 4,8 μm.

3. Analisis Energy Dispersive X-ray Spectroscopy (EDS) tampak bahwa unsur yang dominan adalah C, Si dan Cu dan S, sedangkan unsur Na, Mg dan Ca kurang dominan.

4. Karakterisasi FET berbasis film tipis CuPc diperoleh bahwa daerah aktif untuk VD adalah (2,79 V sampai dengan 3,43 V) dan kuat arus ID (1,95. 10-4 A sampai dengan 16,9. 10-4 A).

5. Mobilitas pembawa muatan untuk daerah liner dan saturasi, berturut-turut: 0,10121664 cm2 V-1 S-1 dan 0.05468465 cm2 V-1 S-1.

B. SARAN

1. Kecepatan deposisi dapat ditingkatkan dengan menambah arus yang diaplikasikan pada vakum evaporasi.

2. Mobilitas pembawa muatan dapat ditingkat dengan membuat sekecil mungkin panjang channel pada FET.

34

DAFTAR PUSTAKA

Adamyan, AZ, Adamyan, ZN dan Aroutiounian,V.M, 2009,

Study of sensitivity and response kinetics changes for SnO2 thin-film hydrogen sensors, International journal of hydrogen energy, 34, 8438-8443.

Ali, M. , Wang,Ch.Y, R¨ohlig,C.C, Cimalla,V, Stauden,Th. dan Ambacher,O, 2008,

NOx sensing properties of In2O3 thin films grown by MOCVD, Sensors and Actuators B 129, 467-472

Brunet,J., Paulya,A.,Mazet,L.,Germain,J.P.,Bouvet,M., Malezieux,B. 2005, Improvement in real time detection and selectivity of phthalocyanine gas sensors dedicated to oxidizing pollutants evaluation, Thin Solid Films 490 (2005) 28 35

Dickert,F.L.,Greibl,W., Rohrer,A. dan G. Voigt, D., 2001, Sol-gel-coated quartz crystal microbalances for monitoring automotive oil degradation, Advanced Materials, 13,1327-1330.

George F. Fine, Leon M. Cavanagh, Ayo Afonja and Russell Binions, 2010, Metal Oxide Semi-Conductor Gas Sensors in Environmental Monitoring, sensors, ISSN 1424-8220. Henning Rost, Jürgen Ficker, Juan Sanchez Alonso, Luc Leenders, Iain McCulloch, 2004. Air-stable all-polymer field-effect transistors with organic electrodes, Synthetic Metals 145, 8385.

Ho-Shik, Lee, Min-Woo,Cheon and Yong-Pil Park, 2011, Electrical Properties of a CuPc Field-Effect Transistor Using a UV/Ozone Treated and Untreated Substrate, Transactions on Electrical and Electronic Materials, 40-42.

Kapse, V.,D, Ghosh, S,A, Chaudhar,G.,N, Raghuwanshi,F.,C., dan D.D. Gulwade,D.,D, 2009, H2S sensing properties of La-doped nanocrystalline In2O3, Vacuum 83 (2009), 346-352. Lyly Nyl Ismail, Habibah Zulkefle, Sukreen Hana Herman and Mohamad Rusop Mahmood, 2012,

Influence of Doping Concentration on Dielectric, Optical, and Morphological Properties of PMMA Thin Films, Advances in Materials Science and Engineering, Volume 2012, Article ID 605673, 5 pages.

Maggionia,G.,Quaranta,A.,Carturan,S.,Patelli,A,,Tonezzera,M.,Ceccato,R.,Della Mea,G., 2005, Deposition of copper phthalocyanine films by glow discharge- induced sublimation for gas sensing applications, Surface & Coatings Technology 200 (2005) 476 480

Maggioni,G.,Carturan,S.,Tonezzer,M.,Quaranta,A.,Della Mea,G., 2008, Plasma- deposited copper phthalocyanine: A single gas-sensing material with multiple responses, Sensors and Actuators B 131 (2008) 496503

Min, Y., 2003, Properties and Sensor Performance of Zinc Oxide Thin Film, Massachusetts Institute of Technology.

35

Mirwa,A., M.Friedrich, A. Hofman, 1995, Sensors and Actuator B24-25,596.

Patil, L.A., Shinde, M., D., Bari, A.R. and Deo, V.V., 2010, Highly sensitive ethanol sensors based on nanocrystalline SnO2 thin films, Current Applied Physics10, 1249-1254. Yuh-Lang Lee, Chuan-Yi Sheu, Rung-Hwa Hsiao,2004, Gas sensing characteristics of copper

phthalocyanine films: effects of film thickness and sensing temperature, Sensors and Actuators B 99 (2004) 281287

Yuh-Lang Lee and Chi-Hsiu Chang, 2006, NO2 sensing characteristics of copper phthalocyanine films: Effects of low temperature annealing and doping time, Sensors and Actuators B 119, 174-179.

Zhou,R., Josse, F. , Göpel, W., öztürk‡, Z.Z. dan ö.Bekaroglu§, 1996 Phthalocyanine as sensitiv material for chemical sensors, Applied Organometallic Chemistry, Vol.10,557 – 577. www.depkes.go.id

36 LAMPIRAN-LAMPIRAN

Lampiran 1. Instrumen Penelitian

INSTRUMEN PENELITIAN

=====================================================================

Judul

PEMBUATAN SENSOR BERBASIS FILM TIPIS UNTUK DETEKSI

GAS : CO, CO2, NH3, NO, NO2 SEBAGAI UPAYA PEMANTAU

KUALITAS UDARA

--- Peneliti : Dr. Sujarwata,M.T. (Ketua)

Fianti, S.Si., M.Sc., Ph.D. Eng. (Anggota) Dra. Langlang Handayani, M.App.Sc (Anggota)

--- Dalam penumbuhan film tipis CuPc (Copper Phthalocyanine) di atas substrat Si/SiO2 ini menggunakan material semikonduktor organik berwarna biru sebagai lapisan aktif untuk pembuatan sensor gas beracun. Pada eksperimen pendahuluan dengan melakukan penumbuhan film tipis CuPc, kemudian dikarakterisasi menggunakan X-RD, SEM dan SEM-EDX. Pembuatan sensor gas beracun berstruktur FET menggunakan teknik lithography dan penumbuhan film tipis dengan metode vakum evaporasi (VE) pada suhu ruang. Tahapan pembuatan sensor gas beracun sebagai berikut: permulaan dilakukan pencucian substrat Si/SiO2 dengan etanol dalam ultrasonic cleaner, kemudian dilakukan penumbuhan elektroda source dan drain di atas substrat. Selanjutnya penumbuhan film tipis diantara source/drain dan diakhiri dengan penumbuhan gate. A. Penumbuhan Film Tipis CuPc

Penumbuhan film tipis CuPc dilakukan dengan prosedur sebagai berikut : 1. Preparasi sampel

Dilakukan pemotongan kaca preparat dengan ukuran ( 1,5x2,5 ) cm2, kemudian kaca preparat dicuci menggunakan alat Ultrasonic Cleaner Model Core-Parmer.

2. Proses evaporasi untuk penumbuhan film tipis CuPc

Pada alat vacuum evaporator (VE), terdapat beberapa parameter yang dapat mempengaruhi karakteristik film tipis, yaitu: tekanan, arus, waktu deposisi, massa CuPc yang akan dideposisi. Dalam penelitian ini, dilakukan variasi arus pada alat vacuum evaporator (untuk memperoleh variasi laju deposisi lapisan CuPc).

37

3. Variasi waktu/ laju penumbuhan adalah (30, 60, 90 dan 120) menit

i) Sampel (material CuPc) dimasukan ke dalam boat dengan massa 200 mg. j) Selanjutnya sampel dimasukan dalam bell-jar (ruang evaporasi).

k)Substrat kaca yang telah dibersihkan dipasang pada holder tepat di atas boat yang telah berisi CuPc.

l) Alat vacuum evaporator divakumkan sehingga tekanannya turun menjadi 8x10-4 Pa. m) Proses evaporasi dilakukan selama 30 menit dengan kuat arus sebesar 35 A.

n)Sampel yang sudah terdeposisi disimpan dalam wadah kaca yang vakum.

o)Proses dari (a) sampai dengan (f), eksperimen yang telah dilakukan diulangi lagi untuk variasi arus yang lain.

p)Variasi waktu yang akan dilakukan, yaitu: 60 menit, 90 menit, dan 120menit.

Gambar 1. Metode evaporasi

Penumbuhan film tipis dengan metode evaporasi dan material berupa serbuk CuPc berwarna biru. Material ditempatkan di ruang (chamber) bersama dengan logam yang akan digunakan sebagai pelapis (Gambar 1.). Ruang tersebut dapat divakumkan dan logam pelapis dipanaskan hingga mendekati titik leleh. Logam sebagai pelapis diletakkan di atas filamen pemanas, dengan cara sebagai berikut: chamber divakumkan yang diikuti dengan pemanas logam pelapis, sehingga atom-atom akan menguap pada permukaan logam.

Ketika sampai pada permukaan material yang memiliki suhu yang rendah, atom-atom logam terkondensasi dan membentuk lapisan film tipis dipermukaan material. Agar proses ini dapat berlangsung efisien maka logam pelapis yang digunakan harus memiliki titik leleh rendah. Power Supply Vacuum System Hot resistance Vacuum chamber Substrates Metal vapour

38 B. Uji karakteristik film tipis CuPc

Karakterisasi film tipis untuk mendapatkan bahan aktif optimum dalam pembuatan sensor gas beracun (FET). Ada 2 macam pengujian karakterisasi film tipis, yakni: pengujian morfologi menggunakan SEM dan struktur kristal dengan XRD.

C. Pembuatan FET berbasis film tipis CuPc

f) FET dibuat dengan struktur bottom-contact dan 2 kontak resistansi, yaitu S dan D. g) Konfigurasi divais FET dengan komponen utama, yaitu: source, drain, gate

elektroda, lapisan dielektrik dan lapisan semikonduktor (CuPc) h) Panjang channel (L) = 100 μm dan lebar channel (W) = 1 mm

i) Tahapan pembuatannya, sebagai berikut: mula-mula dilakukan pencucian substrat Si/SiO2 dengan etanol dalam ultrasonic cleaner, selanjutnya dilakukan pendeposisian elektroda S dan D di atas lapisan SiO2 menggunakan bahan Au dengan teknik lithography dan penumbuhan film tipis dengan metode penguapan hampa udara..

j) Penumbuhan film tipis CuPc di atas S dan D

Gambar 2. FET dengan struktur bottom-contact

Gambar.3 Masker dalam proses pembuatan FET

S D 1 mm 1 mm L 1 mm 1 mm 1 , 5 m m 1 m m 0,25 mm 0,25 mm W 1 mm 2 mm G Drain Source Copper Phthalocyanine Isolator-SiO2 Gate-Si

39

Jarak antar elektroda D dan S didefinisikan L dan panjang kontak D/S adalah lebar saluran (W). Desain masker FET ditunjukkan Gambar.3 dengan panjang L 100 μm. Untuk lebar channel adalah 1 mm, panjang elektroda dan kontak adalah 1 mm. Proses lithograpy pembuatan FET merupakan bagian penting, dimana geometri devais ditentukan pada permukaan SiO2. Pembuatan devais terdiri atas berulang kali proses lithograpy sebagai berikut:

No Proses Equipment Parameter

1 Persiapan substrat Silicon Wafer

(Single Side Polishing) Thickness = 600 µm

Diameter 5 inchi

 Type P 2 Proses Oksidasi pada

silicon wafer

 Si dan O2

 Thermal Dry Oxidation

 Waktu

 Temperatur 3 Proses etching pada

lapisan bawah SiO2  SiO2  Buffer HF  Temperatur  Konsentrasi 4 Pelapisan Au dengan

metode Evaporasi  Au dan SiO2

 Alat vakum evaporasi

 Tekanan (8.10-4 Pa)  Kuat arus (45 A) 5 Pelapisan photoresist positif AZ dengan metode Spinner  Photoresist positif AZ

 Clean Oven dan Alat vakum

 Teknologi spinner

 Kecepatan (400 rpm)

 Waktu (30 detik)

 Temperatur (850 C) 6 Expose dengan sinar

UV ( masker 1 )  Sinar UV

 Masker 1 (source dan drain)

 Larutan Timah dan DiH2O

 Alat Milla Pure (18 m ohm)

 Larutan Microposit MF 319 Developer  Waktu expose (30 s )  Temperatur oven (1200C) Selama 15 menit

7 Proses etching emas

(Au)  KJ +J2+DiH2O

 Emas(Au)

Waktu Temperatur 8 Remove resist positif

AZ dengan aceton  Aceton (ZA Acs.150)

 CH3COOH3 (58,08 g/mol )

 Waktu

 Temperatur 9 Proses pelapisan emas

(Au) bagian bawah Si  Au dan SiO2

 Alat vakum evaporasi

Tekanan (8.10-4 Pa)

Kuat arus (45 A) 10 Pelapisan photoresist

positif AZ dengan metode Spinner pada lapisan Au

 Photoresist positifAZ

 Clean Oven dan Alat vakum

 Teknologi spinner

 Alat vakum

 Kecepatan (400 rpm)

 Waktu (30 detik)

 Temperatur(850 C) 11 Expose dengan sinar

UV selama 30 detik menggunakan masker 2 (gate)

 Sinar UV

 Masker 1 (source dan drain)

 Larutan Timah dan DiH2O

 Alat Milla Pure (18 m ohm)

 Larutan Microposit MF 319 Developer  Waktu expose (30 s )  Temperatur oven (1200C) Selama 15 menit

40 12 Proses etching emas

(Au)  KJ +J2+DiH2O

 Emas(Au)

 Waktu

 Temperatur 13 Remove resist positif

AZ dengan Aceton  Aceton (ZA Acs.150)

 CH3COOH3 (58,08 g/mol )

 Waktu

 Temperatur 14 Pelapisan photoresist

positif AZ dengan Au pada lapisan atas (S/D) menggunakan Spinner  Photoresist positif AZ  Clean Oven  Teknologi spinner  Alat vakum  Kecepatan (400 rpm)  Waktu (30 detik)  Temperatur (850 C)

15 Expose dengan sinar UV menggunakan masker CuPc

 Sinar UV

 Masker 1 (source dan drain)

 Larutan Timah dan DiH2O

 Alat Milla Pure (18 m ohm)

 Larutan Microposit MF 319 Developer  Waktu expose (60 s )  Temperatur oven (1200C) , selama 15 menit

16 Proses pelapisan CuPc pada bagian atas silicon

 Au dan SiO2

 Alat vakum evaporasi

 Tekanan (8.10-4 Pa)

 Kuat arus (45 A) 17 Remove resist positif

AZ dengan Aceton. sekaligus lapisan CuPc pada resist tersebut, sehingga pola CuPc terbentuk

 Aceton (ZA Acs.150)

 CH3COOH3 (58,08 g/mol )  Waktu  Temperatur  Konsentrasi larutan 18 Hasil akhir terbentuknya kontak source, drain dan gate.

 Elektrode emas

 Terminal dari emas

 Tekanan (8.10-4 Pa)

 Kuat arus (45 A)

D. Karakteristik FET

Karakterisasi FET dilakukan untuk mengetahui resistansi, konduktivitas dan mobilitas pembawa muatan. Adapun tahapannya, sebagai berikut :

c. Untuk mengkarakterisi FET, elektroda source dihubungkan tanah (grounded), sedangkan elektroda gate dan drain masing-masing dihubungkan dengan panjar mundur (reverse bias). Data yang diperlukan untuk karakterisasi FET dengan panjang channel 100 µm sebagai berikut:

41

No VDS ( V ) VGS ( volt ) IDS ( A ) ROS (Organik Semikonduktor)

1 - 3 2 - 2 3 - 1 4 - 0 5 1 6 2 7 3

d. Untuk mengukur mobilitas pembawa muatan, arus yang mengalir dari source (S) ke drain (D) , yaitu arus (IDS) diukur dengan memvariasi tegangan drain (VD) untuk tiap nilai tegangan gate (VG). Data yang diperlukan untuk menentukan mobilitas pembawa muatan ( µ ) dengan panjang channel 100 µm sebagai berikut:

ID (A) VD (V) VG (V) VT (V) L(m) W(m) C

Sedangkan untuk menentukan VT (tegangan ambang) dapat memanfaatkan grafik (IDS)1/2 versus VGS dengan nilai VDS = VGS

VDS = VGS

E. Alat Uji Kinerja FET

Merencanakan dan membuat alat uji kinerja FET sebagai sensor gas beracun. Adapun tahapannya, sebagai berikut:

g)Merencanakan skema alat uji gas uji untuk menguji kinerja FET sebagai sensor gas. Pada merencanakan skema alat uji gas uji untuk menguji kinerja FET sebagai sensor gas. meliputi : glass chamber, electrometer, tabung gas uji, flow-meter.

( )

42

h)Membuat alat uji kinerja FET sebagai sensor gas beracun. Kegiatan ini adalah tersedianya alat uji kinerja sensor gas yang siap untuk menguji adanya gas beracun.

i) Pengujian FET dengan alat uji gas yang telah dibuat. Pengujian sensor gas beracun, meliputi: waktu respon dan waktu pulih.

43

Lampiran 2. Biodata Ketua dan Anggota Tim Pengusul Biodata Ketua Peneliti

A. Identitas Diri

1 Nama Lengkap Dr. Sujarwata, M.T. L 2 Jabatan Fungsional Lektor Kepala

3 Jabatan Struktural -

4 NIP 19610104 198903 1 001

5 NIDN 0004016113

6 Tempat dan Tanggal Lahir Yogyakarta, 04 Januari 1961

7 Alamat Rumah Jl. Candi Tembaga Raya 659 Rt.3 Rw.5 Semarang

8 Nomor Telepon/Faks/ HP 081326363687

9 Alamat Kantor Gedung D7 Lt 2 Kampus Unnes Sekaran Gunungpati Semarang 50229

10 Nomor Telepon/Faks 024 -8508112/ 024 -8508112

11 Alamat e-mail [email protected]

12 Lulusan yang Telah Dihasilkan S-1 = 35 Mahasiswa dan S-2 = 1 Mahasiswa 13 Mata Kuliah yg Diampu Elektronika Dasar I

Elektronika Dasar II Elektronika Lanjut

Sistem Fuzzy dan aplikasinya B. Riwayat Pendidikan

S1 S2 S3

Nama Perguruan Tinggi

IKIP Yogyakarta UGM UGM

Bidang Ilmu Pendidikan Fisika Teknik Elektro Fisika Tahun Masuk-Lulus 1982 - 1988 2000 - 2004 2008 - 2015 Judul Skripsi/Thesis /Disertasi Pengaruh Praktikum Alat-alat Ukur Terhadap Pemahaman Konsep Besaran dan Satuan Pada Siswa Kelas II Semester I SMP III Depok Sleman Yogyakarta Tahun 1987

Teknik Pemasangan Sensor Gelombang Ultrasonik Pada Robot Beroda Untuk

Menghindari Benturan

Pembuatan Transistor Efek Medan Organik (OFET) Berbasis Film Tipis CuPc Untuk Deteksi Gas CO2

44 Nama Pembimbing/ Promotor Drs. Sumaji Drs Kartoyo

Dr.Ir. Thomas Sri Widodo,DEA Ir.Samiaji Herdjunanto,M.Sc Prof. Dr. Kusminarto Dr. Eng. Kuwat Triyana, M.Si.

C. Pengalaman Penelitian Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Tahun Judul Penelitian Pendanaan

Sumber Jml (Juta Rp)

1 2008 Studi Penumbuhan Film Tipis CuPc Dengan Metode Penguapan Hampa Udara Pada Suhu Ruang Untuk Aplikasi Sensor Gas (tahun pertama )

HIBAH BERSAING

45

2 2009 Studi Penumbuhan Film Tipis CuPc Dengan Metode Penguapan Hampa Udara Pada Suhu Ruang Untuk Aplikasi Sensor Gas (tahun kedua )

HIBAH BERSAING

45

3 2013 Pengembangan Transistor Efek Medan Organik (OFET) Berbasis Film Tipis Dengan Material CuPc Untuk Mendeteksi Gas Beracun (tahun pertama )

HIBAH BERSAING

42,23

4 2014 Pengembangan Transistor Efek Medan Organik (OFET) Berbasis Film Tipis Dengan Material CuPc Untuk Mendeteksi Gas Beracun (tahun kedua )

HIBAH BERSAING

50,00

5 2015 Deteksi Gas Beracun CO, NH3 Dan Emisi Gas Buang Kendaraan Bermotor Dengan Sensor Gas Berbasis Film Tipis

PENELITIAN DISERTASI DOKTOR

41.00 6 2015 Sensor Field Effect Transistor Berbasis Film

Tipis Copper Phthalocyanine Untuk Deteksi Gas CO2

DIPA PNBP UNNES

27,5 7 2016 Perancangan KIT Robot Mobil Untuk

Membantu Mahasiswa Menyelesaikan Tugas Akhir Bidang Mikrokontroler

PENELITIAN PENINGKAT AN PROSES PERKULIAH-AN FMIPA UNNES 5

D. Pengalaman Pengabdian Kepada Masyarakat Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Tahun Judul Pengabdian Kepada Masyarakat Pendanaan

Sumber Jml (Juta Rp)

45

E. Pengalaman Penulisan Artikel Ilmiah Dalam Jurnal Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Judul Artikel Ilmiah Volume/ Nomor/Tahun Nama Jurnal 1 Studi Penumbuhan Film Tipis CuPc

dengan Metode Penguapan Hampa Udara pada Suhu Ruang untuk Aplikasi Sensor Gas

Oktober 2009 Vol.32/ No.2 /ISSN: 0215-9945 hlm. 118-125

JURNAL MIPA

2 Pembuatan dan Karakteristik OFET Berbasis Film Tipis CuPc Dengan Panjang Untuk Aplikasi Sensor Gas, 0853 – 0823) Tanggal 10 April 2010, halaman 87-93, ISSN 0853 – 0823) Prosiding Pertemuan Ilmiah XXIV HFI Jateng

dan DIY 3 Pengendali Motor Servo Berbasis

Mikrokontroler Basic Stamp 2SX Untuk Mengembangkan Sistem Robotika

Mei 2013, Vol.V/ No.1 No. ISSN: 2085 –

9503; hlm. 47 - 54.

JURNAL ANGKASA 4 Mobilitas Pembawa Muatan Pada

OFET (Organic Field Effect Transistor) Berbasis Film Tipis.

Oktober 2013, vol. 36/ No. 2/ ISSN: 0215-9945; hlm. 151 – 156.

JURNAL MIPA 5 Sensor Gas Berbasis Film Tipis Dengan

Konfigurasi Transistor Efek Medan (FET) Untuk Deteksi Gas CO

Desmber 2013. Vol. 11 No. 2/ ISSN: 0216-4566; hlm. 197 – 202.

JURNAL Sainteknol 6 Fabrication and Characterization of

CuPc Thin Film-Based Organic Field-Effect Transistor (OFET) for CO2 Gas Detection ISSN:2224- 3224 (Print), ISSN : 2225- 0956 (Online), Vol.7 No.5, 2015 Journals Chemistry and Materials Research 7 Alat Deteksi Gas Buang Kendaraan

Bermotor Berstruktur Transistor Efek Medan ISSN : 2088-1509 V Vol 5, No 1 (2015), hlm. 7 - 11 Jurusan Fisika, FMIPA UNNES 8 Critical Condition in CuInAlSe2

Growth of Solar Cell Absorber

ISSN: 1693-6930, Vol. 14, N0. 3, hlm. 867-872

TELKOMNIKA (Scopus, Q3) 9 Thin Film Based Sensor For Motor

Vehicle Exhaust Gas, NH3, And CO Detection p-ISSN: 1693-1246 e-, Vol 12, No. 2, hlm. 142-147 Jurnal Pendidikan Fisika Indonesia (Jurnal Nasional Terakreditasi) F. Pengalaman Penyampaian Makalah Secara Oral Pada Pertemuan/ Seminar Ilmiah

Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Nama Pertemuan Ilmiah/ Seminar

Judul Artikel Ilmiah Waktu dan Tempat 1 Seminar Nasional Hasil

Penelitian Multi Tahun 2010

Studi Penumbuhan Film Tipis CuPc Dengan Metode Penguapan Hampa Udara Pada Suhu Ruang Untuk Aplikasi Sensor Gas

30 -07- 2010 DP2M-Ditjen

Dikti, Kemendiknas

46 2 Seminar Hasil Penelitian

MIPA 2012

Karakteristik Keluaran I/V dari OFET Berbasis Film Tipis CuPc

28-29 September 2012 FMIPA UGM 3 Seminar Hasil Penelitian

MIPA 2013

Mobilitas Pembawa Muatan Pada OFET (Organic Field Effect Transistor) Berbasis Film Tipis

20-21 September 2013 FMIPA UGM 4 Seminar Nasional Hasil

Penelitian Desentralisasi Tahun 2013

Pengembangan Transistor Efek Medan Organik (OFET) Berbasis Film Tipis Dengan Material CuPc Untuk Mendeteksi Gas Beracun

05 -12 - 2013 LP2M UNNES 5 Seminar Nasional Hasil

Penelitian MIPA Tahun 2014

Transistor Efek Medan Organik (OFET) Untuk Deteksi Gas CO

26 September 2014 FMIPA UGM 6 Seminar Nasional MIPA

Untuk Pengembangan Ilmu Pengetahuan dan Peningkatan Mutu Pendidikan Tahun 2015

Sensor Gas Berstruktur FET Untuk Deteksi Gas Buang Kendaraan Bermotor

47 Biodata Anggota Peneliti (1)

A. Identitas Diri

1. Nama Lengkap Dr. Fianti, S.Si., M.Sc.

2. Jenis Kelamin Perempuan

3. Jabatan Fungsional Asisten Ahli

4. NIP 197901212005012002

5. NIDN 0021017905

6. Tempat dan Tanggal Lahir Yogyakarta, 21 Januari 1979

7. E-mail [email protected]

8. HP 062-81391-334433

9. Alamat Kantor Jurusan Fisika Gedung D7 Universitas Negeri Semarang, Jalan Raya Sekaran, Semarang, Jawa Tengah.

10. Nomor Telepon/Fax. 062-24-8508034

11. Lulusan ygna Telah Dihasilkan S-1= - orang; S-2= - orang; S-3 = - orang 12. Mata Kuliah yg Diampu Kecerdasan Buatan

B. Riwayat pendidikan S-1 S-2 S-3 Nama Perguruan Tinggi Universitas Gadjah Mada Universitas Gadjah Mada Yeungnam University

Bidang Ilmu Fisika Fiasika Material

Tahun Masuk - Lulus 1997 - 2003 2007 - 2009 2010 – 2015 Judul Skripsi/Thesis/ Disertasi Pembangunan Perangkat Lunak Sistem Kendali Berlogika

Samar untuk Proses Pemanasan pada Ruang Telaah Teoritis Elektromagnetika metamaterial The effect of Al addition on the properties of Cu(In,Al)Se2 solar cell absorber prepared by pulsed laser deposition and selenization

Nama

Pembimbing/Promotor

48

C. Pengalaman Penelitian Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Tahun Judul Penelitian Pendanaan

Sumber* Jml (Juta Rp) 1. 2010 Pembangunan Perangkat Lunak

Sistem Kendali Berlogika Samar untuk Proses Pemanasan pada Ruang Penetasan Telur

DIPA PNBP

6

D. Pengalaman Pengabdian Kepada Masyarakat dalam 5 Tahun Terakhir No. Tahun Judul Pengabdian Kapada

Masyarakat

Pendanaan

Sumber* Jml (Juta Rp)

- - - - -

E. Publikasi Artikel Ilmiah Dalam Jurnal Ilmiah 5 Tahun Terakhir

No. Judul Artikel Ilmiah Nama Jurnal Volume/Nomor

/Tahun 1 Growth of Single-phase CuInAlSe2

Thin Films by Using Pulsed Laser Deposition and Selenization

Journal of the Korean Physical Society

60/12/2012

2 Influence Of The [Cu]/[In] Ratio on

The Properties of CuInSe2 Thin Films Chalcogenide Letters 11/11/2014 3 Investigation on structural

modification of CuInSe2 solar cell absorber by Al addition

Journal of Ceramic and Process

Reaseach

16/3/2015

4 Investigation of Deposition Parameters Dependence on Sputtered Cu2ZnSnSe4 Thin Films Properties

Advanced Materials Research

50 Biodata Anggota Peneliti (2)

A. Identitas Diri

1 Nama Lengkap Dra. Langlang Handayani, M.App.Sc 2 Jabatan Fungsional Lektor Kepala

3 Jabatan Struktural -

4 NIP 196807221992032001

5 NIDN 0022076807

6 Tempat dan Tanggal Lahir Semarang, 22 Juli 1968

7 Alamat Rumah Jl. Banteng Raya No. 20 RT 05/04 Semarang 8 Nomor Telepon/Faks/ HP 081390095494

9 Alamat Kantor Gedung D7 Lt 2 Kampus UNNES Sekaran Gunungpati Semarang 50229

10 Nomor Telepon/Faks 024 -8508034/ 024 -8508034

11 Alamat e-mail [email protected]

12 Lulusan yang Telah Dihasilkan S-1= +/- 43 mahasiswa 13 Mata Kuliah yg Diampu Fisika Dasar

Bahasa Inggris untuk Fisika

Dasar Proses Pembelajaran Fisika 1 Dasar Proses Pembelajaran Fisika 2 B. Riwayat Pendidikan

S1 S2 S3

Nama Perguruan Tinggi IKIP Semarang UNSW Sydney Australia

-

Bidang Ilmu Pendidikan Fisika Sistem Informasi

Geografis

-

Tahun Masuk-Lulus 1986 – 1991 1995 – 1996 -

Judul

Skripsi/Thesis/Disertasi

Studi Komparasi Prestasi Belajar Siswa Masuk Pagi dan Masuk Siang

The Applications of Geographical Information Systems in School Planning Problems: Selected Examples - Nama Pembimbing/Promotor Drs. Sanyoto K Drs. Sri Hendratto

51 C. Pengalaman Penelitian Dalam 5 Tahun Terakhir

No Tahun Judul Penelitian Pendanaan

Sumber Jml (Juta Rp)

1 2010 Improvement of students hypothetical-deductive thinking skill in constructivism learning model by using concept mapping

PTK PGSBI

20 2 2011 Application of Problem Based Instruction Learning

Model on Science Class: An Effort to Increase RSBI Students Creativity in Designing Science Work

PTK PGSBI

20

3 2013 Developing students application thinking skill in reading through the use of content and language integrated learning (CLIL) Approach

PTK PGMIPA BI

20 4 2014 Pengembangan Metacognitif Self-Assessment

untuk Mengukur Keterampilan Berpikir Tingkat Tinggi Mahasiswa dalam Membaca Teks Sains Berbahasa Inggris

DIPA FMIPA

8

D. Pengalaman Pengabdian Kepada Masyarakat Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Tahun Judul Pengabdian Kepada Masyarakat Pendanaan

Sumber Jml (Juta Rp)

1 2015 Meningkatkan kompetesi guru TK ABA melalui pelatihan ensembel angklung di kecamatan gayamsari kota semarang.

DP2M Dikti 5

2 2015 Pendampingan Praktikum Bagi Guru SMP di Kabupaten Wonosobo

DIPA Fakultas

- 3 2013 Pelatihan Pengembangan Profesi Pendidikan

Melalui Ptk Dan Implementasi Pembelajaran Inovatif Bagi Guru Sma 1 Pati

Mandiri 1,9

E. Pengalaman Penulisan Artikel Ilmiah Dalam Jurnal Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Judul Artikel Ilmiah Volume/ Nomor/Tahun Nama Jurnal

- - - -

F. Pengalaman Penyampaian Makalah Secara Oral Pada Pertemuan/ Seminar Ilmiah Dalam 5 Tahun Terakhir

No. Nama Pertemuan Ilmiah/ Seminar

Judul Artikel Ilmiah Waktu dan Tempat 1 3rd International Seminar

of Nusantara Heritage 2014. (FSRD – ITB)

Arts-Based Scientific Communication For Science Teacher

08 -12- 2014 FSRD-ITB

53 Lampiran 3. Justifikasi penggunaan anggaran 100%

57 Lampiran 4.

Artikel Ilmiah yang akan dipublikasikan ke Jurnal Internasional bereputasi TELKOMNIKA (Q3), baru dalam proses revisi.

OFET FABRICATION WITH LITHOGRAPHY AND THIN FILM DEPOSITIONS PROCESS

Sujarwata*1, Fianti2, Langlang Handayani3, Susilo4, Mosik5, Aji Purwinarko6 1, 2, 3, 4, 5

Department of Physics, Universitas Negeri Semarang 6

Department of Computer Science, Universitas Negeri Semarang Kampus Sekaran Gunungpati Semarang 50229, Indonesia, fax: +62248508034

*

E-mail of the corresponding author: [email protected]

Abstrak

Panjang channel OFET (Organic field effect transistor) berbasis film tipis ditentukan pada saat fabrikasi berlangsung menggunakan teknik lithography dan masker selama proses deposisi logam. Teknik lithography merupakan tahapan proses dasar dalam pembuatan devais

Dokumen terkait