• Tidak ada hasil yang ditemukan

KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK - e-Repository BATAN

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2019

Membagikan "KAJIAN PEMANFAATAN AKSELERATOR ION UNTUK INDUSTRI KOMPONEN MIKROELEKTRONIK - e-Repository BATAN"

Copied!
8
0
0

Teks penuh

Loading

Gambar

Gambar 1.  Gambar sistem proses implantasi ion.
Gambar 2.  Ikatan  elektron ion dopan As dengan wafer Si untuk tipe N dan ion dopan B dengan wafer Si
Gambar 4.  Gambar hubungan antara enegi (keV) dengan jangkauan pene-trasi (µ m) pada bahan silikon (Si)
Tabel 2.  Parameter yang diperlukan dalam industri mikroelektronika.

Referensi

Dokumen terkait

Dengan pengujian sumber elektron yang ternyata menghasilkan arus berkas elektron lebih dari 30 mA, dapat disimpulkan bahwa sumber elektron hasil rancang bangun ini memenuhi syarat

Fungsi keanggotaan pada sinyal masukan digunakan dua buah fungsi yaitu fungsi sinusoidal dan segitiga, untuk sinyal keluaran fungsi segitiga yang dimodifikasi sebagai akibat

Hidrogel superabsorben poli(AAm-ko-AA)- kitosan hasil iradiasi yang dapat mengadsorpsi ion Cu 2+ dan Fe 3+ dalam kondisi swelling ini berpotensi untuk digunakan untuk

Mereka adalah bagian dari kelas tumor disebut tumor neuroectodermal primitif (PNETs) yang dapat terjadi pada otak besar dan di tempat lain dalam sistem saraf

Potensi komersial pemanfaatan reaktor riset perlu digali juga agar dampak sosial-ekonomi dan manfaat teknologi nuklir (bertambahnya jumlah pengguna) dapat dirasakan oleh