DEPOSISI DAN KARAKTERISASI FILM TIPIS CdS CdTe Cu YANG DITUMBUHKAN DENGAN METODE DC MAGNETRON SPUTTERING
Teks penuh
Gambar
Dokumen terkait
Berdasarkan hasil penelitian dapat diketahui hubungan antara struktur dan sifat optik film tipis CdS doping Zn yang ditumbuhkan dengan metode DC magnetron sputtering
Permasalahan yang dikaji dalam penelitian ini adalah bagaimana struktur kristal lapisan tipis ZnO:Al yang ditumbuhkan diatas substrat corning glass dengan metode
Pengukuran dengan EDAX dari ketiga sampel film tipis GaN hasil penumbuhan di atas substrat safir (0001) dengan perbedaan rasio laju alir gas argon dan nitrogen terlihat adanya
PERSAMBUNGAN M-S-M PADA FILM TIPIS Al x Ga 1-x N YANG DITUMBUHKAN DI ATAS SUBSTRAT SILIKON (111) DENGAN METODE DC MAGNETRON SPUTTERING ”.. Shalawat dan
Ini artinya film tipis CdTe yang ditumbuhkan dengan daya plasma 25 W hanya mampu mengabsopsi cahaya pada panjang gelombang lebih kecil 350 nm sehingga kurang sesuai untuk
Film tipis yang dihasilkan dari bahan semikonduktor, Silikon yang didop dengan Fospor dan Boron akan menghasilkan p-n junction untuk berfungsi untuk menghasilkan aliran
Hal ini terjadi karena waktu deposisi selama 120 menit menghasilkan kerapatan atom-atom SnO 2 yang tersputter pada permukaan substrat kaca lebih tinggi dan homogen bila dibanding
Citra morfologi Scanning Electron Microscopy (SEM) dan hasil analisis struktur dengan X-Ray Diffraction (XRD) menunjukkan bahwa film CdTe:Cu(2%) mempunyai citra permukaan dan
