KARAKTERTSASI
LAPISANI
TITANIUM NITRIDA
YAI{G DIDEPOSISI DENGAN METODE
SPUTTERING PADA BAJA
AISI
410
Xander Salahudin,
Sri
Widodo, Nani
Mulyaningsih
Program
studi
reknik Mesin, FakultasTehtik,
(JniversitasTidar
MagelangABSTRAK
AISI 410 is widely used
for
medical equipments. However,corrosion resistqnce
of
martensitic stainless steelsis
at intermediate level (its corrosion resistance is poorer than theothers)- Mechanical and corrosion properties of AISI 410 can be
improved by modifying metal surface.
In
this study, titanium nitride (rcts as coating material due to its high hardness and good corrosion resistance, it is biocompatible also. The purpose of thisstudy is lcnowing the efect of time variation to the titanium nitride layer characteristics after sputtering procces.
Titanium nitride coating process was conducted on currents of 80 mA, voltage of 0,4 kV, substrate and target material distance
of 12 mm, pressure-of 4 x I0-2 torr and Argon : Nitrogen
:
17 : 3.The coating process was done with variation of deposition time
(30 minutes, 40 minutes, 50 minutes, 60 minutes, and 70 minutes).
The metallographic test used EDX.
EDX
test conducted to determine the composition of the coating.The highest hardness value was obtained at a coating time
of
50 minutes, with an increase of 34,75% compared to the base
metal hardness value. EDX tested on the titanium nitride layer
showed an increase of titanium composition on the surface layer.
Increasing of tilanium content will af,fect the hardness increase
Vol.40 No. 2" 15 Februai 2014 : 108-120
compared to the base material (AISf 410 stainless steel without
treatmen! ).
Keywords: AISI 410, layer, EDX.
A.
PENDAHULUAN
Baja
tahankarat banyak
digunakan sebagaimaterial
padaperalatan kedokteran.
Baja
tahan
karat
martensitik
memiliki
kekerasan yang cukupbaik
jika
dibandingkan denganbaja
tahankarat yang
lainnya,
namun
ketahanankorosi baja
tahan
karatmartensitik
beradapada
tingkat
menengah(memiliki
ketahanan korosi yang burukjika
dibandingkan dengan baja tahan karat yanglain).
Peningkatansifat mekanik
dankorosi baja
AISI
410
dapat dilakukan denganmodifikasi
permukaan logam.Proses pelapisan menggunakan
teknik reactive
sputtering merupakan metodemodifikasi
permukaanyang
dapat
dilakukanuntuk
meningkatkansifat dari
logam,baik
sifat mekanik
maupun korosinya. Metode reactivesputtering
akan menghasilkan lapisan pada permukaanlogam,
sehingga akanmelindungt logam
dasar dari kontak langsung terhadap lingkungan. Sifat dari bahan pelapis(titanium nitrida)
yangpemiliki
nilai
kekerasantinggi
juga
akan meningkatkannilai
kekerasan dari permukaan logam.Penelitian
ini
menggunakantitanium nitrida
sebagai bahan pelapis karenatitanium nitrida memiliki
kekerasanyang
tinggi, ketahanankorosi yang
baik,
dan biocompatible, sehingga sangat cocokuntuk
aplikasi peralatan kedokteran.Tujuan dari
penelitianini
yaitu
mengetahui pengaruhvariasi
waktu
pelapisan terhadap karakteristik lapisan titaniumnitrida
yang dihasilkan setelah proses sputtering.Karakterisasi Lapisan Titanium Nitrida (Xander Salahudin, Sri Widodo, Nani Mtrlyaningsih)
Berdasarkan
kajian
yang
dilakukan
terhadap
penelitian tentang pelapisantitanium nitrida
pada baja tahan karat, diperolehfakta bahwa lapisan
tipis titanium nitrida
pada permukaan baja tahankarat
akan meningkatkannilai
kekerasan.Maka
penelitianyang
menggunakanbaja
AISI
410
sebagai
logam
dasar
dantitanium
nitrida
sebagai
pelapis permukaan
akan
dihasilkan peningkatpnnilai
kekerasan.B.
TEORI
DASAR
Baja Tahan
Karat
Baja
tahan
karat
merupakanmaterial yang tidak
mudah terkorosijika
dibandingkan dengan baja karbon. perbedaan antarakeduanya
yaitu
kandungan
kromium dalam material
tersebut. Kandungankromium yang cukup
tinggi
pada
baja
tahan
karat menghasilkanlapisan oksida
pasif
cr,o:
pada
permukaan baja tahan karat. Lapisan oksidaini
yang menjadikan baja tahan karat tidak mudah terkorosi.Secara umum, baja tahan karat
dibagi
menjadi4
kelas, yaitu (International Stainless Steel Forum) :1.
Baja tahan Xarat
feritik
Baja
tahan karat
feritik
umumnya
memiliki
kandungankromium
antara 12,5-
rl%io, dantidak
ada kandungannikel.
Bajatahan karat
feritik
memiliki
ketahanan
korosi
dengan
tingkat menengahjika
dibandingkan dengan baja tahan karat yang lain.2.
Baja tahan
karat martensitik
Baja
tahan
karat
pertama
yang
dikembangkan
untukVoL40 No. 2, I5 Februai 2014 : I0B-120
keperluan
komersil
adalah
baja
tahan karat martensitik.
Jika dibandingkan dengan baja tahankarat
yanglain, baja
tahan karat martensitikmemiliki
kandungan karbon yang sangattinggi
(0,2-1%), dengan kandungan
kromium
antara 12-
l8%.
3.
Baja tahankarat
austeniticPenambahan
nikel ke
baja
tahankarat
akan menghasilkan strukturmilro
austenit. Secara umum, baja tahankarat
austenitikmemiliki
komposisi
rata-rata 16-
26% kromium
dan
6
-
12%nikel-
Baja tahan karat austenitikmemiliki
ketahanankorosi
yangsangat baik.
4.
Baja tahankarat
duplex
Baja
tahankarat
duplex
memiliki mikrostruktur
gabungan antaraferitik
dan austenitik, kandungankromium
antara 18-
260 ,serta kandungan
nikel
antara 4-
7%. Kandungannikel
yang terlalu rendahtidak
memungkinkanuntuk
mendapatkanstruklur
mikro
austenitik, sehingga baja tahan karat duplexmemiliki
stukturmikro
feritik
dan austenitik. Baja tahan karat duplexmemiliki
kandungan molibdenum 0-
4%.5.
BajaTahan
Karat Martensitik AISI410
Baja tahan karat martensitik mampu
diberi
perlakuan panas untuk meningkatkan sifat mekaniknya (sama sepertilow-alloy
steelatau plain-carbon steel). Ketahanan korosi yang
dimiliki
baja tahan karat martensitik berada pada tingkat menengah, dimana ketahanan korosinya lebihburuk
dibandingkan dengan baja tahan karat yang lain.Karakterisasi Lapisan Titanium Nitrida ... (xander salahudin, sri lridodo, Nani Mtrryaningsih)
ini
yaitu
baja
AISI
410,
dengankomposisi
sesuaiproduk
yang dikeluarkanPT. Tira
Austenite
Tbk.
Komposisi baja
AISI
410 ditunjukkan pada Tabel 1.Tabel 1. Komposisi baja
AISI410
AISI
410
C Mn Si P S Cr Mo Ni N
Min
Max 0,15 r,oo r,oo 0,04 0,03 11,5
13,5 0,75
6.
Titanium Nitrida
Paduan dengan
dasar titanium banyak
digunakan
untuk peralatan medis karenamemiiiki
ketahanankorosi
yangtinggi
danbio c
ompatible.
P aduan titanium banyak digunakan karenatitanium
mumi
merupakan
material
lunak
dengan ketahanan
geser permukaan rendah,yang
disebabkan karena terbentuknya oksidasecara alami di permukaan titanium (Subramanian et.al, 2011). Paduan titanium nitrida banyak digunakan karena keunggulan sifat yang
dimiliki
yaitu sifat mekanik dankimia
yang baik, sepertinilai
kekerasan yangtinggi,
ketahanankorosi
dan ketahanan ausyang tinggi.
Titaniurh
nitrida
banyak digunakan
sebagai bahan pelapis material untuk meningkatkan sifat pada permukaan logam (subramanianet.al,
20ll).
penggunaantitanium nitrida
sebagai bahan pelapis selain bertujuan untuk mendapatkan perbaikan sifat
pada
permukaanlogam,
juga
dapat digunakan
sebagai pelapisdekoratif (Bavadi
et.al, 2012).Karakteristik titanium nitrida
pada temperatur 20"C
dapatdilihat
pada T abel 2.Vol. 40 No. 2" I 5 Febntari 2014 : 108-120
Tabel 2. Karakteristik titanium nitrida (Pierson, 1996)
Karakteristik
Keterangan
Komposisi TiNo,u
-
TiN,,,Berat molekul 64,95
Warna Keemasan
Massa
jenis
5,4glxrf
Titik
leleh 2950"C Kalor spesifik (Cp) 33,74 J/mol.K Thermal expansion 9,35x
iO"/"C
Modulus elastisitas 251 Gpa
7.
DC
ReactiveSputtering
Proses deposisi
lapisan
tipis
menggunakanteknik
PhysicalYapour Deposition
(PVD)
telah banyak
digunakan
di
seklorindustri.
Proses
ini
digunakan pada
industri
logam,
industri pembuatanalat medis, industri
optik,
dan industri
pembuatan komponenelektrik.
Lapisantipis
yang dihasilkan dariteknik PVD
mampu menjawab beberapa kebutuhan
dari
masing-masingaplikasi, seperti
kekerasanyang tinggi,
sampai
dengan gesekan yang rendah (Constantin et.al, 2011).Salah satu
teknik
P\ID
yaitu teknik
sputtering.
Prinsip pelapisan mengunakanteknik
sputtering disajikan pada Gambarl.
K arakt eri s as i Lap is a n Ti t an ium N i t r id a (Xander Salahudin, Sri ll/idodo, Nani Mulyaningsih)
Ar* ion
by
.qcreated
6i-
7eleciron'\t
'
1
sPutteredimpacr
) g';
Ar.ion
rarqer aromez"
\
G
/
Elecrron\e I
@ released\
I
/
fionrtaroet\ *
/
r*s"r ---b
@ @ @ @"@e-o.@ {)@
@ @ @ surfaceatS
@ @@ @ @ a6e\eG*A@@@
:;,?:#"
@ @ @ @ @ @e e,e*e.e@
@ @@e@@@a€@j€.@s@€@
@@@@@@esodc"g@,@@
@@@6@@@@@@@€@@
e@@s@@@@@@@€s@
Gambar
1.
Proses sputtering pada tingkatmolekul
(Kirschbrown, 2007)Teknik
sputtering
memanfaatkantumbukan
ion
berenergitingg
(Ar)
pada permukaan logam target.Atom-atom
target yang terlempar akan menempel pada permukaan substrat(logam
yangakan
dilapis),
sehingga
akan
didapatkan
lapisan
tipis
pada permukaannya (Constantin et.al, 2Al D.Teknik
reactive sputtering merupakanteknik
sputtering yang menggunakanpelapis dalam bentuk gas. penelitian
ini
akan menggunakan gasnitrogen yang
akan bereaksi dengan titanium, sehinggaakan didapatkan lapisan
tipis
titanium nitrida.
proses reactive sputtering ditunjukkan pada Gambar 2.Yol. 40 No. 2. l5 Februai 2014 : 108-120 cathods
ffi??,.W
_
-filrns--,i
wxaman
,'
samPle roir*p
Gambar 2. Proses re(tctive sputtering (Seshan, 2002)
C.
METODE PENELITIAN
Proses pelapisan
titanium nitrida
dilakukan dengan kuat arus 80mA,
tegangan rata-rata 0,4kV, jarak
antara substrat dan bahan targetyaitl
12 mm,tekanan
4x
10" torr dan perbandingan gas Argon : Nitrogen:17
:3.
Proses pelapisan
diawali
mengatur tekanankerja
didalammesin sputtering. Setelah tekanan tercapai,
mesin
sprrttering dihidupkan dan kemudian mengkondisikan sesuai dengan variabel kerja mesin sputtering. Proses pelapisan dilakukan dengan variasi waktu proses pelapisan(30 menit,
40menit,
50menit,
60 menit,dan70 menit).
1.
PelaksanaanPenelitian
Persiapan SpesimenUji
Karakteisasi Lapisan Titanium Nitrida ... (Xaruler salahutlin, sri ll'idodo, Nani Mulyaningsih)
14
mm
dantebal
2
mm. Persiapan spesimenuji
dilakukan untuk mendapatkan permukaanyang halus.
prosesuntuk
mendapatkan permukaanyang halus
yaitu
dengan
mengampelas permukaanspesimen
dan
kemudian dilakukan
pemolesan
menggunakan autosol. Prosesakhir
yaitu pencucian menggunakanalkohol
untuk menghilangkankotoran
dan minyak yang
adapada
permukaan spesimen..2.
Proses PelapisanSpesimen
yang telah melalui tahap
persiapan
kemudiandilapisi titanium nitrida
dengan
variasi lama waktu
pelapisan.Proses pelapisan menggunakan DC Reactive Sputtering.
3.
Pengujian SpesimenSpesimen yang telah
dilapisi titanium nitrida,
kemudiandiuji
pada
permukaannya.
Pengujian
yang
dilakukan
yaitu
uji
metalografi.
Uji
metalografi yang dilakukan
yaitu
uji
EDX. Uji
EDX
dilakukanuntuk
mengetahuikomposisi hasil
lapisan setelah dilakukan proses sputtering. preparasi spesimenuji
EDX
denganmelakukan
pemotongan
melintang spesimen
dan
dihaluskan dengan amplas. Pengamplasandilakukan
dari
nomor
amplas 400,800,
1000
dan
1500 mesh,
setelah
itu
dilakukan
pemolesan spesimen dengan autosol dan pencucian denganalkohor.
Sampel yang telah mengkilat sudah siap untuk dilakukanuji
EDX.
D.
PEMBAHASAN
1.
Nilai
KekerasanBaja tahan karat
AISI
410 yangtelahdilapisi titanium nitrida
Vol.40 No. 2, l5 Februari 20ll : 108-120
memiliki
peningkatannilai
kekerasan dibandingkan dengan tanpa perlakuan" Peningkatannilai
kekerasan baja tahan karatAISI
410yang dilapisi titanium nitrida
selama30,
40,50,
60 dan 70 menit secara berturut-turutyaitu
22,080,
2i,38ya,
34,07oA, 26,050/o, dan 23,2404.Peningkatan
nilai
kekerasantertinggi didapat
denganwaktu
deposisi selama 50menit,
dengan kenaikannilai
kekerasan sebesar 34,07oA.Kenaikan
nilai
kekerasan bajaAISI
410 yang telah
dilapis karena lapisantipis
titanium nitrida
memiliki nilai
kekerasan yanglebih
besar dibandingkan dengan bajaAISI
410.
penurunannilai
kekerasan
setelah mencapai
titik
maksimum karena
adanya perubahan struktur lapisan yang terbentuk setelah proses pelapisanmelebihi waktu
50menit,
yang ditandai dengan adanya perubahan warna pada permukaan lapisan.2.
Ketebalan Lapisan
danPengujian
EDX
Pengamatan posisi melintang dari baja tahan karat
AISI
410 setelahdilapisi titanium nitrida
selama50 menit
disajikan
pada Gambar 4.Karakterisasi Lapisan Titanium Nitrida (Xander Salahudin, Sri I[/idodo, Nani Mulyaningsih)
Proses
deposisi
titanium nitrida
selama
50
menit
akan menghasilkantebal lapisan
antara20
-
25
pm.
Lama
waktusputtering
mempengaruhi ketebalan
lapisan
titanium
nitrida,dimana
ketebalanlapisan
titanium
nitrida
akan semakin tinggi
dengan semakin lamanya proses sputtering, dikarenakan
atom target yang terdeposisi semakin banyak.Hasil
uji
EDX
pada
baja
tahankarat
AISI
410
setelahdilapisi
titaniumnitrida
selama 50 menit disajikan pada Gambar 5.Elemer* CK NK AIK SiK PK SK IK CrK FeK NiK CUK NbL MoL Tmi mass% Cation K 0,3289 4 7)18 0.0271 8.2102 9.m12 2.toa 0.rI]35 12-6916 0.7562 7A 0574 0.5141 0.49Ilt 0 u96s 0.293s 0.0831
(kP\4 m6s% Emr96 Al% Compound
0.271 1.il 0.02 4.60 0.391 2.48 o.o4 0.79 1.486 0.85 0.03 0.0s 1.739 A.2S 0.03 0.52 2381 0.02 0.04 0.03 4508 2.02 0.06 2.09 4.S4S 0.0! 0.08 0 0s 5411 t1A1 0.09 10.89 5.894 0.78 D 12 0 ?0 6.398 79.97 0.14 71.00 7 A'11 0.55 0.25 048 8 040 0.55 0.36 0.43 2.166 8.13 0.0S 0.07 2.2.s'3 0.3S 0.15 0.20 1.774 0 15 0.12 0 04 .10000 10000
Gambar 5. Hasil
uji
EDX
E.
2.
Vol.40 No. 2. 15 Februai 2014 : 108-120
Gambar diatas menunjukkan bahwa terdapat
peningkatan unsur titanium pada permukaan lapisan hasil deposisiTiN.
Hal
ini
menunjukkan
bahwa lapisan
mengandungunsur titanium
yang semakin tinggi. Peningkatan kandungantitanium
akan berpengaruh terhadap peningkatannilai
kekerasanjika
dibandingkan
dengan materiai dasar (baja tahan karatAISI410
tanpa perlakuan).1.
KESIMPULAN
Kesimpulan yang dapat
ditarik
dari penelitianini
yaitu:Hasil
terbaik
pelapisan
titanium
nitrida
dengan
variabel proses sesuai penelitianyaitu
padawaktu
pelapisan selama 50 menit;Hasil
uji
EDX
pada lapisantitanium
nitrida
dengan waktupelapisan
50
menit
membuktikan
terjadinya
peningkatan kandungan unsur titanium pada lapisan.DAFTAR PUSTAKA
Bavadi,
R.,
and Valedbagi,
S.,
2012, Physical
Properties
Of
Titanium Nitride
Thin
Film
PreparedBy Dc
Magnetron Sputtering, Materials Physics and Mechqnics, page 167 -172. Constantin,D.G.,
Apreutesei,M., Awinte,
R., Marin,
A.,
Andrei,O.C.,
and
Munteanu,
D.,
2011, Magnetron
Sputtering Technique Used For Coatings Deposition; TechnologiesAnd
Applications, 7th International
Conference
on
Materials
Science and Engineering, Romania.Karalderbasi Lapisan Titanium Nitrida . (Xander Solahudin, Sri Widodo, Nani Mutyaningsih)
Intemational stainless
SteelForum,
The stainless
steel
Family,
Belgium.Kirschbrown, J ., 2007, kF/D C Magnetron Sputtering.
Pierson,
H.o.,
1996,
Handbook
of
Refractory
carbides
and Nitrldes, Noyes publications, USA.Salahudin,
x.,2011,
Pengaruhvariasi waktu
pelapisanTiN
HasilDeposisi
DC
Reactive Magnetron Sputtering
TerhadapKekerasan,
Laju
Korosi,
KeausanAbrasi Dan
Kekasaran Baja Tahan Karat MartensitikAISI410,
Tesis,yogyakarta. Seshan,K.,2002,
Handbook of Thin-film Deposition processes andTe chnique s, Noyes Publications, California. Subramanian, B., Brindha,
G.,
Makoto, T.,K., 20i1,
Evaluationof
plasmaIon
TiAIN
Multilayers on
Steel
for
Bio
JWfuLVol.
40 No. 2.Hiroshi,
N.,
andAkira,
Beam SputteredTiN
/
Implant
Applications,