PENUMBUHAN FILM TIPIS Galium Nitrida (GaN)
PENUMBUHAN FILM TIPIS Galium Nitrida (GaN)
DENGAN METODE SOL
DENGAN METODE SOL--GEL DAN APLIKASINYA
GEL DAN APLIKASINYA
PADA FOTODETEKTOR ULTRAVIOLET (UV)
PADA FOTODETEKTOR ULTRAVIOLET (UV)
Oleh :
Usulan penelitian Hibah Pekerti
Yuyu R. Tayubi, dkk
Yuyu R. Tayubi, dkk
Jurusan Pendidikan Fisika FPMIPA UPI
2005
Motivasi
Motivasi--1
1
Mandat penyelenggaraan
program fisika murni
di
institusi kami
Berdasarkan kualifikasi
kepakaran staf pengajar
di institusi kami
dikembangkan KBK
: Fisika bumi,
fisika
material
, dan fisika instrumentasi
Perlu penyusunan :
Struktur kurikulum
Perlu pengembangan :
Lab riset
Motivasi
Motivasi--2
2
KBK Fisika material
bidang material
bidang material
optik
bidang material
superkonduktor
Semikonduktor paduan III-V, Keramik,
oksida, dll
bidang material
semikonduktor
optik
Motivasi
Motivasi--3
3
Para personil belum
berpengalaman
Program riset yang
belum jelas
Fasilitas riset
terbatas
Kendala dalam pengembangan
lab dan penyelenggaraan riset
bidang ini
Perlu
: Mitra pembina yang sarat
dengan pengalaman, memiliki
fasilitas lab lengkap, dan
program riset yang baik
Sebagai tempat
kegiatan magang
Motivasi
Motivasi--4
4
Untuk kepentingan itu, telah dirancang suatu
kegiatan penelitian kerjasama yang lebih bersifat
pada pembinaan dan diusulkan ke proyek :
HIBAH PEKERTI
TPP : Tim dosen
fisika material
jurusan fisika UPI
TPM : Tim dosen
Lab Fismatel Dept.
Target/Sasaran dari kerjasama penelitian
Target/Sasaran dari kerjasama penelitian
Personel TPP mendapat pengalaman dalam mendisain dan
mengem-bangkan peralatan eksperimen
Personel TPP mendapatkan pengalaman eksperimen rekayasa bahan
Personel TPP mendapatkan pengalaman eksperimen rekayasa bahan
dan karakterisasinya
Personel TPP mendapatkan pengalaman dalam memfabrikasi dan
meng-karakterisasi divais semikonduktor
Alasan pemilihan Lab Fismatel
Alasan pemilihan Lab Fismatel
ITB sebagai TPM
ITB sebagai TPM
Memiliki pengalaman luas dalam pengembangan berbagai fasilitas lab
Memiliki peralatan lengkap dan siap pakai untuk kepentingan riset bidang
semikonduktor
Para personilnya berpengalaman dalam merancang dan melaksanakan
berbagai riset bertaraf nasional maupun internasional (RUT, HIBAH
PASCA, RISTEK, TORAY, dll)
Para personilnya berpengalaman dalam mempublikasikan hasil riset baik dalam bentuk jurnal nasional dan
internasional maupun konference
Bentuk kerjasama TPM dan TPP
Bentuk kerjasama TPM dan TPP
- TPM memberikan pelatihan dalam rancang bangun peralatan laboratorium. - TPM memberikan pelatihan tentang penggunaan berbagai peralatan lab,
terutama yang akan digunakan dalam proses penelitian.
- TPM memberikan arahan dan pelatihan tentang strategi serta step-step
Mekanisme pelaksanaan kerja sama
Mekanisme pelaksanaan kerja sama
- TPM memberikan arahan dan pelatihan tentang strategi serta step-step pelaksanaan penelitian, agar prosesnya dapat berjalan efektif, efisien, dan berhasil guna.
- Dibawah pengawasan TPM, TPP melakukan keseluruhan proses penelitian sesuai dengan yang diprogramkan.
- Kerjasama dalam penggunaan berbagai fasilitas yang berada di masing-masing lab. TPP dan TPM.
Hak dan kewajiban TPM dan TPP dalam
Hak dan kewajiban TPM dan TPP dalam
pelaksanaan penelitian
pelaksanaan penelitian
- TPM bertanggung jawab membina dan mengarahkan TPP dalam melaksanakan keseluruhan program penelitian
- TPP bertanggung jawab untuk melakukan keseluruhan program penelitian yang telah direncanakan dengan sebaik mungkin dibawah arahan TPM.
- TPM berhak menggunakan berbagai fasilitas penelitian yang berada di lab. TPP - TPP berhak mendapatkan keleluasaan waktu untuk berkonsultasi dan
menggunakan berbagai fasilitas penelitian yang ada di lab. TPM. - TPP dan TPM berhak diikutsertakan dalam publikasi ilmiah
Lingkup penelitian
Lingkup penelitian
Pengembangan alat
Sesuai dengan target/sasaran penelitian yang ditetapkan, maka
lingkup penelitian yang direncanakan meliputi :
Substansi Penelitian
Substansi Penelitian
Pengembangan alat (spin-coater)
Rekayasa bahan (optimasi penumbuhan film GaN)
Fabrikasi divais fotodetektor UV
Produk materi
Hasil penelitian yang diharapkan
Hasil penelitian yang diharapkan
Produk non materi
Alat spiner untuk penumbuhan lapisan Peningkatan skil anggota TPP dalam merancang, dan melaksanakan
Alat spiner untuk penumbuhan lapisan tipis semikonduktor
Prototipe fototektor UV yang memiliki tingkat detektivitas dan responsivitas yang baik
Artikel-artikel publikasi ilmiah
Terbentuknya suatu lab riset di institusi TPP
merancang, dan melaksanakan penelitian, termasuk di dalamnya pengembangan dan pemeliharaan peralatan, serta mempublikasikan hasilnya
Terjalin kerjasama dengan institusi TPM yang berkelanjutan dalam penyelenggaraan riset bidang semikonduktor.
Mengapa detektor UV ???
Mengapa detektor UV ???
Monitoring sinar UV matahari Pendeteksi plumes dari persenjataan militerDetektor UV
Sistem pendeteksi kebakaran Komponen sistem peralatan navigasi penerbangan Komponen sistem komunikasi ruang angkasaContoh aplikasi detektor UV untuk
Contoh aplikasi detektor UV untuk
pendetksi kebakaran (api)
pendetksi kebakaran (api)
Mengapa material GaN ???
Mengapa material GaN ???
Material semikonduktor untuk fotodetektor UV
Konvensional :
Silikon Karbida (SiC)
Baru :
Galium nitrida (GaN) dan paduannya
Dari SiC Bergeser ke
GaN
GaN memiliki celah pita energi 3,4 eV, tepat pada spektrum UV sehingga fotodetektor yang dibuat akan peka terhadap gel. ultraviolet
GaN memiliki struktur celah pita energi dengan transisi langsung (direct
bandgap) sehingga fotodetektor yg dibuat akan memiliki efisiensi kuantum tinggi
GaN memiliki kestabilan termal, mekanik dan kimiawi yang baik
SiC memiliki celah pita energi 2,9 eV, masih dibawah energi spektrum
ultraviolet, sehingga fotodetektor yang dibuat kurang peka thd gel UV
SiC memiliki struktur celah pita energi dengan transisi tak langsung (indirect bandgap) sehingga efisiensi kuantum dari fotodetektor yang dibuat tidak terlalu tinggi
SiC memiliki kestabilan termal, mekanik dan kimiawi yang kurang baik
Mengapa Struktur M
Mengapa Struktur M--S
S--M ???
M ???
Memiliki dark current yang rendah, sehingga efisiensinya tinggi
Memiliki kecepatan tinggi (high speed), sehingga
responsivitasnya tinggi
Memiliki noise rendah, sehingga sensitivitasnya tinggi
Mudah memfabrikasinya (bahkan dengan teknik penumbuhan
sederhana karena strukturnya hanya berupa satu lapis bahan
semikonduktor yang dilapisi metal)
Diagram skematik fotodetektor UV berstruktur
Diagram skematik fotodetektor UV berstruktur
M
M--S
S--M
M
(Au/GaN/Au)
(Au/GaN/Au)
planar
planar
Lapisan GaN
Kontak metal (Au)
Pola kontak
Substrat
Tampak samping
Tampak atas
Au Lapisan GaN kontak
Mengapa Metode Sol
Mengapa Metode Sol--Gel (Spin
Gel (Spin--Coating) ???
Coating) ???
Kostruksi peralatan sederhana Biaya operasional relatif murah
Dengan penanganan yang baik berpotensi untuk dihasilkan film tipis GaN dengan kualitas cukup baik
(Menguntungkan dari segi ekonomis)
Kelemahan :
Kualitas film yang dihasilkan masih lebih rendah dari film yang ditumbuhkan dengan metode modern seperti MBE dan MOCVD
Sukar digunakan untuk penumbuhan struktur multi lapisan Sukar digunakan untuk penumbuhan struktur multi lapisan
Meskipun tergolong baru, keberhasilan penumbuahan GaN dengan metode sol-gel tidak diragukan lagi, sehubungan dengan adanya beberapa publikasi yang melaporkan keberhasilan penumbuhan GaN dengan metode ini, seperti :
-A. R. Raju, dkk (2001), menggunakan teknik nebulized spray pyrolysis
-H. Parala, dkk (2001), menggunakan teknik chemical solution deposition
Tahap I (tahun 1) :
Tahap I (tahun 1) :
Disain penelitian
Disain penelitian
1. Pengembangan alat spiner untuk lab TPP
Rancangan alat spiner yang akan
dikembangkan
Fokus pengembangan pada
sistem pengontrol laju putaran dan sistem vakum
2. Studi awal penumbuhan lapisan GaN : Fokus pada studi Gel
Penggunaan alat spiner ini nantinya dapat diperluas untuk penumbuhan
lapisan tipis bahan semikonduktor keramik, semikonduktor oksida, serta
bahan-bahan polimer
pipet
Gel
Substrat
Tahap II (tahun 2) :
Tahap II (tahun 2) :
Optimasi kondisi dan parameter penumbuhan laisan tipis GaN
ω MOTOR Deposisi pada tungku pemanas Lapisan film diatas substrat
Fokus penelitian
: optimasi molaritas gel, laju
rotasi spiner, dan temperatur deposisi
Tahap III (tahun 3) :
Tahap III (tahun 3) :
Fabrikasi prototipe fotodetektor UV dengan struktur M-S-M
Film tipis GaN
Resis positip Masker foto SINAR ULTRAVIOLET Metal Resis Positip Metal Metal Substrat
Fokus penelitian :
optimasi ukuran
finger kontak metal
Metal Film GaN Substrat Metal Resis sisa Development ETCHING Resis sisa Metal Stripping Metal Sensor UV struktur MSM
Indikator keberhasilan penelitian
Indikator keberhasilan penelitian
Dihasilkan alat spiner otomatis yang memiliki laju spiner cukup tinggi
Dihasilkan prosedur penumbuhan lapisan GaN dengan metode spin-coating yang menghasilkan film berkualitas baik
Dihasilkan prototipe fotodetektor UV berstruktur M-S-M yang memiliki karakteristik baik
Dihasilkanl publikasi ilmiah tingkat nasional atau bahkan internasional
Peningkatan skil personil TPP dalam hal merancang dan melakukan riset serta mempublikasikan hasilnya
Terwujudnya lab riset bidang semikonduktor di institusi TPP Terjalinnya kerjasama riset yang berkelanjutan dengan TPM
Hal
Hal--hal yang dipandang dapat menjamin
hal yang dipandang dapat menjamin
keterlaksanaan penelitian
keterlaksanaan penelitian
1. Motivasi yang tinggi dari Tim Peneliti Pengusul (TPP) untuk
mendapatkan
pengetahuan
dan
keterampilan
dalam
hal
merancang dan melaksanakan riset berskala nasional serta
mempublikasikannya,
2. Komitmen
TPM
untuk
membantu
sepenuhnya
proses
2. Komitmen
TPM
untuk
membantu
sepenuhnya
proses
pelaksanaan
penelitian
yang
direncanakan
dan
membina
pengembangan Lab. TPP
3. Pengalaman dan
Track record
TPM yang mumpuni dalam bidang
yang diteliti,
4. Peralatan yang cukup lengkap di Lab. TPM baik paralatan untuk
pembuatan sampel maupun untuk karakterisasinya,
Pengalaman penelitian Ketua TPM
Pengalaman penelitian Ketua TPM
No Institusi Jabatan Judul Riset Periode
1 Indonesia Toray Science
Foundation
Principal Investigator
Electrical Properties of GaSb 1997
2 Macquarie University, Visiting Research Involved in research on antimonide semiconductor system and low temperature grown GaAs
June-August 1998
3 RUT VI Peneliti Utama
Semikonduktor Paduan GaSb dan Alloynya untuk Detektor
1997-2000
Foton berkecepatan Tinggi Berderau rendah
4 Centre Grant Programe
Researcher Growth and Characterization of Nitride, Antimonide, and Oxide thin Film 1997-2000 5 Proyek Penelitian Hibah Pasca (HTPP) Ketua peneliti
Penumbuhan Struktur Hetero dan Quantum Well (QW) GaAsSb/GaAs dengan MOCVD
2003-2005
6 RUT X peneliti Pembuatan LED dari GaN dan paduannya
2002-2004
7 RUT XI Ketua peneliti
AlGaN/GaN Heterostructure Field Effect Transistor (FET)
Publikasi ilmiah ketua TPM yang relavan
Publikasi ilmiah ketua TPM yang relavan
No. Karya Ilmiah
1 P. Arifin, T.L. Tensley, and E.M. Goldys, Conduction Mechanism in a Metal-Insulator-Semiconductor Structure with a Low Temperature GaAs Insulating Layer,Solid State Electronic, 41, 1075 (1997)
2 P. Arifin, M. Barmawi, R. A. Sani,Gallium Nitride Based Devices,NEDO-BPPT International Electronic and Information Technology Seminar, Jakarta (1998)
3 Sugianto, R. A. Sani,P. Arifin, M. Budiman, M. Barmawi,Growth of GaN film on a-plane sapphire substrate by plasma assisted MOCVD,J. Crystal Growth, Vol. 221, p.311 (2000)
4 P. Arifin, Sugianto, E. Suprianto, N. Wendri, H. Sutanto, M. Budiman, and M. Barmawi,Growth of AlGaN by Plasma Assisted MOCVD,Conference on Optoelectronic and Microelectronic Materials and Devices, Sydney, Australia, 11-13 December (2002)
5 M. Budiman, H. Sutanto, Sugianto, E. Supriyanto,P. Arifin, M. Barmawi,Au/n-GaN Schottky Diode Grown
5 M. Budiman, H. Sutanto, Sugianto, E. Supriyanto,P. Arifin, M. Barmawi,Au/n-GaN Schottky Diode Grown on Si(111) by Plasma Assisted MOCVD, Conference on Optoelectronic and Microelectronic Materials and Devices, Sydney, Australia, 11-13 December (2002)
6 M. R. Hashim, S. A. Oh, S. S. Ng, Z. Hassan, K. Ibrahim, A. Abdul Aziz, M. Barmawi, Sugianto, M. Budiman, P. Arifin, Optical properties of GaN on Si substrate using plasma assisted MOCVD technique in the infrared and visible regions, International Meeting on Applied Physics 2003 (APHYS 2003), Spain 15-18 October (2003)
7 F. K. Yam, Z. Hassan, K. Ibrahim, A. Abdul Aziz, M. Barmawi, Sugianto, M. Budiman,P. Arifin, Properties of GaN epilayers grown on sapphire by plasma anhanced metalorganic chemical vapor deposition,
International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT) 2003 and IUMRS-ICA 2003, Singapore 7-12 December (2003)
8 Y. C. Lee, Z. Hassan, F. K. Yam, M. J. Abdullah, K. Ibrahim, M. Barmawi, Sugianto, M. Budiman, P. Arifin, A comparative study of the electrical characteristics of metal-semiconductor-metal (MSM) photodiodes based on GaN grown on silicon, International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT) 2003 and IUMRS-ICA 2003, Singapore 7-12 Dec. (2003)
Peralatan di Lab. TPP dan TPM yang
Peralatan di Lab. TPP dan TPM yang
diperlukan untuk penelitian
diperlukan untuk penelitian
A. Peralatan yang tersedia di lab. TPP :
1. Seperangkat alat spiner sederhana
2. Seperangkat sistem karakterisasi X-ray diffractometer (XRD) 3. Hot-plate (pemanas 0-300oC)
4. Peralatan untuk preparasi gel dan substrat
B. Peralatan yang tersedia di lab. TPM :
1. Sistem peralatan untuk preparasi substrat dan Gel
2. Berbagai perangkat metode penumbuhan lapisan tipis seperti MOCVD, 2. Berbagai perangkat metode penumbuhan lapisan tipis seperti MOCVD,
PECVD, PLAD, Sputtering, dan Spiner
3. Programable furnace (tungku pemanas) ~ 120oC
4. Sistem peralatan untuk metalisasi (Evaporator)
5. Berbagai sistem peralatan karakterisasi sifat fisis film tipis semikonduktor, seperti : sistem pengukuran sifat listrik; efek Hall, I-V, C-V, sistem
pengukuran sifat optik; photoluminiscence (PL) dan Dektak II-A 6. Sistem pengukuran detektivitas dan responsivitas fotodetektor.
Peralatan lainnya seperti : alat litografi, SEM dan UV-Vis spektroskopy tersedia pada lab-lab lain di lingkungan ITB
Potret peralatan untuk penumbuhan film dan
Potret peralatan untuk penumbuhan film dan
fabrikasi divais yang tersedia di lab TPM
fabrikasi divais yang tersedia di lab TPM
Ultrasonic Bath (alat pencuci substrat)
Millipore
(penghasil deionized-water)
Pengontrol laju rotasi
Tungku pemanas yang dapat diprogram (~ 1200oC)
Alat Spiner (metode spin-coating)
(alat pencuci substrat) (penghasil deionized-water)
Evaporator
(alat untuk pelapisan metal)
Sistem vakum
rotor laju rotasi spiner
Potret peralatan karakterisasi film dan
Potret peralatan karakterisasi film dan
divais yang tersedia di lab TPM
divais yang tersedia di lab TPM
Sistem pengukuran karakteristik I-V film Sistem pengukuran efek
Hall Van der Pauw Dektak IIA (Sistem
pengukuran ketebalan film) Hall Van der Pauw
Photoluminiscence (Sistem Pengukur sifat optik film) pengukuran ketebalan film)
SEM (Sistem pencitraan morfologi film)
Sistem pengukuran tingkat responsivitas detektor