• Tidak ada hasil yang ditemukan

Pengaruh Waktu Deposisi Dan Tekanan Gas Argon Proses Physical Vapour Deposition (PVD) Pada Lapisan Tipis Ag-Cu Untuk Aplikasi Sifat Antimicrobial Pada Orthopedic Device - ITS Repository

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2019

Membagikan "Pengaruh Waktu Deposisi Dan Tekanan Gas Argon Proses Physical Vapour Deposition (PVD) Pada Lapisan Tipis Ag-Cu Untuk Aplikasi Sifat Antimicrobial Pada Orthopedic Device - ITS Repository"

Copied!
100
0
0

Teks penuh

Loading

Gambar

Gambar 2.1  Mekanisme antibakteri Ag+ (Sotya, 2013)
Gambar 2.2  Mekanisme pembentukan biofilm (Mario, 2014)
Gambar 2.3  sekema mekanisme antibakteri pada silver nano partikel (Reidy, G., dkk, 2013)
Gambar 2.6  Zona inhibisi antibiotic terhadap mikroba (Hudzicki,
+7

Referensi

Dokumen terkait

Laporan penelitian yang berjudul “ Pengaruh Suhu pemanasan Terhadap Sifat optik Lapisan Tipis MnS Yang Ditumbuhkan dengan Metode Chemical Bath Deposition ” ini disusun

Metode difusi gradien dalam film tipis pada prinsipnya menggunakan peralatan sederhana berupa plastik bulat dengan diameter 2,5 cm yang diisi dengan gel lapisan pengikat,

a) Ultra Violet Visibel (UV-Vis) digunakan untuk menganalisis sifat optik berupa nilai band gap hasil preparasi bahan sampel lapisan tipis TiN dengan metode sputtering

Berikut ini akan diperlihatkan hasil pengukuran UV-VIS lapisan tipis µc-Si:H tipe-p yang ditumbuhkan dengan menggunakan metode HW-PECVD pada reactor PECVD ganda

Jumlah konsentrasi silikon pada lapisan tipis masih berada dalam kondisi silikon dominan (x<0.5) dan peningkatan konsentrasi karbon yang mengurangi dangling bond pada atom

Profil permukaan lapisan tipis YSZ pada baja feritik dengan menggunakan teknik PLD ditunjukkan pada gambar 2 dan gambar 3. Pada gambar 2a), 2b) dan 2c) adalah