• Tidak ada hasil yang ditemukan

Hasil Penelitian dan Pembahasan

Dalam dokumen PPET LIPI - File Lap Tek 2012 (Halaman 66-78)

Pembuatan Sel Surya Berbasis Polimer Dra Erlyta Septa Rosa, MT 

LEMBAR PENGESAHAN

VIII. Hasil Penelitian dan Pembahasan

Sebagaimana yang telah direncanakan dalam jadwal  kegiatan, kegiatan  yang 

dilaksanakan pada tahun 2012 ini, yaitu : 

 

i. Studi literatur dan pengadaan bahan. 

Sebagian besar  bahan‐bahan yang  digunakan pada  penelitian  ini  merupakan 

bahan impor dan memerlukan waktu lebih dari 2 bulan dalam pengadaannya, seperti  glass coated ITO, PET coated ITO, P3HT, PCBM, pasta PEDOT:PSS, chlorobenzene, dan 

target Al.  Berhubung adanya  pembekuan  sementara dana  DIPA  2012 akibat dari 

realokasi anggaran dari  pemerintah  maka  pemesanan  bahan‐bahan tersebut baru 

dilaksanakan pada bulan April 2012 dan sampai dengan akhir Mei 2012 belum ada 

bahan‐bahan  yang  diterima.  Sampai  dengan  Triwulan  I  dan  II  (Juni  2012)  dapat 

dikatakan belum ada kegiatan penelitian yang selesai dilaksanakan, meskipun semua 

peralatan proses seperti screen printer, spinner, oven vakum, lemari asam, neraca  analitik, peralatan gelas dan masker dalam kondisi baik dan telah siap untuk digunakan, 

bahkan  alat  evaporator  yang  sebelumnya  dalam  kondisi  tidak  beroperasi  telah 

dilakukan tindakan perbaikan oleh anggota peneliti sehingga telah dapat beroperasi 

dengan baik. 

 

ii. Preparasi peralatan dan masker. 

Pembuatan desain masker. 

ƒ masker single ukuran 2,5 x 2,5 cm2 untuk pola ITO, PEDOT:PSS, Polimer, dan  kontak Al. 

ƒ masker array triple ukuran 7,5 x 2,5 cm2 untuk pola ITO, PEDOT:PSS, Polimer, dan  kontak Al. 

 

Hasil desain masker tersebut di atas dapat dilihat pada gambar berikut : 

 

 

 

Gambar 5. Pola masker single ukuran 2,5 x 2,5 cm2 

 

 

 

ITO PEDOT:PSS Polimer Kontak Al

ITO

PEDOT:PSS

 

Gambar 6. Pola masker array triple ukuran 7,5 x 2,5 cm2. 

 

Sampai dengan Triwulan I dan II (Juni 2012) dapat dikatakan belum ada kegiatan  penelitian yang selesai dilaksanakan, meskipun semua peralatan proses seperti screen  printer, spinner, oven vakum, lemari asam, neraca analitik, peralatan gelas dan masker 

dalam kondisi baik dan telah siap untuk digunakan, bahkan alat evaporator yang 

sebelumnya dalam kondisi tidak beroperasi telah dilakukan tindakan perbaikan oleh 

anggota peneliti sehingga telah dapat beroperasi dengan baik. 

 

iii. Percobaan litografi ITO. 

Proses litografi ITO bertujuan untuk menghapus sebagian lapisan ITO di atas  substrat sehingga diperoleh pola sebagaimana yang diinginkan seperti pada gambar 5  dan gambar 6 di atas. Sebelumnya substrat ITO covered glass dan ITO covered PET 

dicuci secara ultrasonic masing‐masing menggunakan larutan aceton dan dikeringkan 

dengan gas N2. Resist positif MA dilapiskan diatas ITO menggunakan teknik spinning dan 

dikeringkan di dalam oven (pre‐bake). Lapisan resist diexpose dengan lampu UV dan  didevelop sehingga terbentuk pola ITO. Setelah dipanaskan di dalam oven (post‐bake), 

selanjutkan  dilakukan  proses  etsa,  yaitu  penghilangan  lapisan  ITO  menggunakan 

campuran larutan HCl/HNO3/DIH2O pada temperatur 60 ºC selamat 3 menit. Setelah 

lapisan ITO hilang, lapisan resist dihilangkan dengan cara dicelupkan ke dalam aceton.  Gambar 7 memperlihatkan hasil etsa ITO. 

 

 

ITO di atas kaca   ITO di atas PET 

Gambar 8. Hasil etsa ITO di atas kaca dan PET. 

 

iv. Percobaan pelapisan PEDOT:PSS. 

Dalam penelitian ini PEDOT:PSS digunakan sebagai hole transporter and exciton  blocker, dan mencegah difusi ITO ke dalam polimer active layer. PEDOT:PSS dilapiskan 

di atas lapisan ITO sebagaimana yang tercantum pada diagaram alir proses pada 

Gambar  3.  Substrat  yang  digunakan  adalah  substrat  fleksibel,  yaitu  Poli  Etilen 

Terepthalat (PET), dimana dalam satu substrat dibuat 3 (tiga) buah sel surya polimer  dengan luas area 2,6 cm2 yang terhubung secara seri. Proses pelapisan PEDOT:PSS 

dilakukan  menggunakan  teknik  screen  printing  dengan  pola  masker seperti  pada 

gambar 9. 

   

Peralatan screen printing  screen untuk pelapisan 

PEDOT:PSS 

Gambar 9. Peralatan Screen printing dan screen untuk pelapisan PEDOT:PSS. 

Sebagai  tahap  awal  dilakukan  proses  printing  suspensi  2.8wt  %  PEDOT:PSS 

(dispersion in H2O, low‐conductivity grade) di atas kaca dan PET. Lapisan yang dihaslkan 

tidak merata seperti yang terlihat pada gambar 10 dan gambar 11 berikut. Oleh karena  itu ke dalam larutan suspensi PEDOT:PSS ditambahkan surfaktan, hasilnya seperti yang  terlihat pada gambar 12, lebih merata untuk di tas permukaan ITO, akan tetapi masih  jauh dari yang diharapkan jika di atas etch ITO. Kegiatan ini masih berlanjut yaitu dicoba 

dengan  penambahan  binder  dan  menggunakan  PEDOT:PSS  dari  produk  lain. 

Karakterisasi lapisan PEDOT:PSS juga belum dilakukan karena menunggu hasil pelapisan  yang terbaik. 

 

Gambar 10. Hasil pelapisan suspensi PEDOT:PSS di atas substrat kaca pemanasan 120  ºC. 

 

   

pemanasan 80 ºC  pemanasan 120 ºC 

Gambar 11. Hasil pelapisan PEDOT:PSS di atas substrat PET. 

   

Di atas ITO pemanasan 80 ºC  Di atas ecth ITO pemanasan 80 ºC 

 

Di atas ITO pemanasan 100 ºC  Di atas ecth ITO pemanasan 100 ºC 

 

Di atas ITO pemanasan 120 ºC  Di atas ecth ITO pemanasan 120 ºC 

Gambar 12. Hasil pelapisan PEDOT:PSS di atas substrat PET. 

Dengan  penambahan  surfaktan  pada  suspensi  2,8%wt  PEDOT:PSS  (aldrich) 

hasilnya masih belum memuaskan, maka dicoba  untuk menggunakan pasta 5%wt 

PEDOT:PSS produk dari Orgacon. Hasilnya dapat pada gambar 12, sedangkan hasil 

pelapisan PEDOT:PSS di atas substrat kaca dapat dilihat pada gambar 13. Adapun hasil 

measurement  dapat  dilihat  pada  Tabel  1,  sedangkan  hasil  karakterisasi  lapisan 

PEDOT:PSS di atas substrat kaca dapat dilihat pada Tabel 2.  

 

Gambar 12. Hasil pelapisan pasta PEDOT:PSS (Orgacon) di atas substrat PET. 

 

 

Gambar 13. Hasil pelapisan pasta PEDOT:PSS (Orgacon) di atas substrat kaca. 

 

Tabel 1. Hasil pengukuran sheet resistance lapisan PEDOT:PSS di atas substrat PET. 

No.  Lapisan  sheet resistance rata‐

rata  kΩ/□ 

1.  PEDOT:PSS annealing 100ºC/10 min  8,309 

2.  PEDOT:PSS annealing 110ºC/10 min  7,955 

3.  PEDOT:PSS annealing 120ºC/10 min  6,969 

4.  PEDOT:PSS annealing 130ºC/10 min  4,643 

5.  PEDOT:PSS annealing 140ºC/10 min  6,320 

6.  PEDOT:PSS annealing 150ºC/10 min  7,386 

7.  ITO di atas substrat PET  0,099 

       

Tabel 2. Hasil pengukuran sheet resistance lapisan PEDOT:PSS di atas substrat kaca. 

No.  Lapisan  sheet resistance rata‐rata 

kΩ/□ 

1.  PEDOT:PSS annealing 100ºC/10 min  19,43 

2.  PEDOT:PSS annealing 110ºC/10 min  19,16 

3.  PEDOT:PSS annealing 120ºC/10 min  11,61 

4.  PEDOT:PSS annealing 130ºC/10 min  10,40 

5.  PEDOT:PSS annealing 140ºC/10 min  10,61 

6.  PEDOT:PSS annealing 150ºC/10 min  20,93 

  ITO di atas substrat kaca  0,061 

 

Dari tabel 1 dan tabel 2 dapat dilihat bahwa annealing pada 130ºC selama10 min  menghasilkan lapisan PEDOT:PSS dengan sheet resistivity terendah. 

 

v. Percobaan pelapisan polimer P3HT dan PCBM. 

Sebagaimana  yang  tercantum  pada  diagaram  alir  proses  pada  Gambar  3, 

pelapisan polimer campuran polimer P3HT dan PCBM dilakukan setelah substrat dilapisi 

dengan PEDOT:PSS. Konsentrasi larutan campuran polimer adalah 1 % berat dalam 

klorobensen,  dengan  perbandingan  antara  P3HT  dan  PCBM  1  banding  1.  Proses 

pelapisan campuran polimer tidak  dapat dilakukan  dengan teknik screen printing 

karena  larutan  polimer  yang  dihasilkan  terlalu  encer.  Oleh  karena  itu  pelapisan 

campuran polimer dilakukan dengan teknik spin coating sebagaimana yang terlihat 

pada gambar 14. Pengamatan morfologi permukaan lapisan polimer di atas kaca pada  berbagai temperatur post annealing dan hasil pengukuran UV‐VIS dapat dilihat pada  gambar 15 dan gambar 16. 

 

 

 

Spin coating 

 

kaca 

Gambar 14. Alat spin coating dan hasil pelapisan campuran polimer P3HT dan 

PCBM  di  atas  substratPET dan  substrat  kaca  dengan  teknik  spin 

coating. 

   

Post annealing 100 ºC  Post annealing 120 ºC  Post annealing 150 ºC 

 

Gambar 15. Foto morfologi permukaan lapisan polimer di atas kaca pada berbagai 

temperatur post annealing. 

   

 

Gambar 16. Hasil pengukuran UV‐VIS lapisan polimer di atas kaca. 

Dari gambar 15 dan gambar 16 dapat diamati bahwa post annealing pada 150 ºC 

menghasilkan permukaan lapisan yang lebih merata dan mempunyai transmisi yang 

terendah atau absorbsi (penyerapan) cahaya tertinggi. 

 

vi. Percobaan pelapisan kontak Al. 

Pelapisan  kontak  Al  dilakukan  dengan  alat  evaporator.  Gambar  17 

memperlihatkan foto alat evaporator dan hasil pelapisan Alumunium di atas substrat  plastik. Pengukuran tebal lapisan Al tidak dapat dilakukan dikarenakan alat thickness 

monitor pada evaporator tidak bekerja sebagaimana mestinya. 

   

Hasil  evaporator  Alumunium  di  atas 

substrat PET.        Alat evaporator   

Hasil evaporator Alumunium di atas  substrat kaca 

Gambar 17. Foto alat evaporator dan hasil pelapisan alumunium di atas substrat  PET dan kaca. 

 

vii. Percobaan pembuatan sel surya polimer. 

Percobaan pembuatan sel surya polimer dilakukan melalui proses sebagaimana 

yang tercantum pada diagaram  alir proses pada Gambar 3. Pembuatan sel surya 

polimer P3HT dan PCBM ini dilakukan di atas substrat kaca. Foto dari sel surya polimer  dengan substrat kaca dapat dilihat pada gambar 18. Selain dilakukan pembuatan sel  surya polimer di atas substrat PET dengan struktur tunggal dan struktur array yang  terdiri dari 3 (tiga) buah sel tunggal yang dirangkai secara seri. Foto dari sel surya  polimer dengan substrat PET dapat dilihat pula pada gambar 15. 

   

Substrat kaca  Substrat PET tunggal 

 

Substrat PET array terdiri dari 3 (tiga) buah sel tunggal 

Gambar 18. Foto prototipe sel surya polimer P3HT dan PCBM di atas substrat kaca dan  substrat PET. 

 

viii. Pengukuran kurva I‐V sel surya polimer. 

Pengukuran kurva I‐V dilakukan dengan menggunakan peralatan sun simulator 

lampu  xenon  pada  radiasi  600  W/m2  dan  temperatur  25  ºC.  Gambar  peralatan 

pengukuran kurva I‐V dapat dilihat pada Gambar 19, sedangkan hasil pengukuran 

karakteristik I‐V sel surya polimer dengan substrat kaca dan substrat PET masing‐masing  dapat dilihat pada Gambar 20, tabel 3, dan gambar 21. 

Sel surya polimer dengan substrat kaca mempunyai tegangan sirkit terbuka, arus  hubung singkat, daya, fill faktor, dan efisiensi sebesar 0.510 V; 56,5 mA; 8,66 mW;  0.301; dan 0.0028% untuk sel yang diannealing pada temperatur 120 ºC, sedangkan sel 

yang diannealing pada temperatur 150 ºC mempunyai tegangan sirkit terbuka, arus 

hubung singkat, daya, fill faktor, dan efisiensi sebesar 0.551 V; 49,8 mA; 9,39 mW;  0,343; dan 0.0031%. Efisiensi yang dihasilkan oleh sel yang diannealing pada temperatur  120 ºC maupun yang diannealing pada temperatur 150 ºC hampir sebanding, meskipun  demikian sel yang diannealing pada temperatur 150 ºC mempunyai karakteristik listrik 

yang  lebih  baik,  sedangkan  sel  yang  diannealing  pada  temperatur  100  ºC  tidak 

menghasilkan  karakteristik listrik karena “short”.  Demikian pula  dengan sel  surya 

polimer dengan substrat PET, karakteristik listrik tidak terukur. 

 

Gambar 19. Foto alat pengukuran Kurva I‐V sel surya polimer. 

 

 

Gambar 20. Kurva I‐V sel surya polimer P3HT dan PCBM di atas substrat kaca. 

 

 

Gambar 21. Kurva I‐V sel surya polimer P3HT dan PCBM di atas substrat PET. 

Tabel 3. Hasil karakterisasi listrik sel surya polimer di atas substrat kaca. 

Karakteristik listrik  annealing 

100 ºC 

 annealing  120 ºC 

annealing 

150 ºC  Tegangan sirkit terbuka Voc 

(V) 

0.510  0,551 

Arus hubung singkat Isc (mA) 

0.057  0.050 

Daya maksimum Pm (mWatt) 

0.087  0.094  Fill faktor FF  0.301  0.343  Efisiensi ɳ (%)  Tidak  terukur  (short)  0.0028  0.0031   

ix. Karakterisasi IPCE  sel surya polimer. 

Hasil karakterisasi IPCE (incident photon‐to‐current conversion) sel surya polimer  masing‐masing di atas substrat PET dan kaca dapat dilihat pada gambar 22. Dari hasil  tersebut dapat diamati bahwa kurva quantum efficiency sel surya dengan substrat PET  sebanding dengan substrat kaca. Quantum efficiency sel dengan substrat plastik sedikit  lebih tinggi dibanding dengan substrat kaca pada panjang gelombang antara 300 – 400  nm (biru). 

 

 

Gambar 22. Hasil karakterisasi IPCE sel surya polimer masing‐masing di atas substrat  PET dan kaca. 

   

i. Output :  ƒ Publikasi : 

1. “Optical and Electrical Properties of Conductive Polymer PEDOT:PSS Layer”, 

Seminar Kimia Dalam Pembangunan ,Jasakiai, Yogyakarta 6 September 2012. 

2. “Polymer Solar Cells: Effects of Annealing Treatment and Polymer Blends on I‐V 

Characteristics”,  Internatioal  Conference  on  Chemical  Engineering,  UNDIP, 

Semarang 11‐12 September 2012. (Telah direview dan akan diterbitkan di jurnal  “REAKTOR”, akreditasi DIKTI). 

3. “Fabrication of Polymer Solar Cells on Flexible Substrate”, Joint Seminar IMEN‐ LIPI, IMEN UKM, Kualalumpur 20 September 2012. 

4. “Fabrication of Bulk Heterojunction Polymer Solar Cells”, telah disubmitt di  Jurnal Teknologi Indonesia, IPT‐LIPI. 

5. “Sel Surya Polimer Berbasis P3HT/PCBM”, Seminar Nasional Ilmu Pengetahuan 

Teknik LIPI, Bandung, 28‐29 November 2012. 

Publikasi :  ƒ Prototipe : 

1 buah sel surya polimer berbasis P3HT/PCBM ukuran 2,5 x 2,5 cm2 dengan tegangan  sirkit terbuka, arus hubung singkat, daya maksimum, fill faktor, dan efisiensi masing‐ masing sebesar 0,641 V; 55,20 mA; 9,57 mW; 0,343; dan 0.042%. 

   

Dalam dokumen PPET LIPI - File Lap Tek 2012 (Halaman 66-78)

Dokumen terkait