Pro.dding Pertemuan Ilmiah IImu Pengetahuan don Teknologi Bahan '99
Serpong, 19
-
20 Oktober 1999 ISSN 1411-2213KARAKTERISASI LAPISAN POLIMER URET AN AKRILA T HASIL IRADIASI SINAR ULTRA- VIOLET
Sugiarto Danul, Marsongko Mondjol, Nur Dewanto Tribayangkoro2
.Pusat Penelitian clan Pengembangan Teknologi Isotop clan Radiasi, BAT AN J1..Cinere Pasar Jumat, Kotak Pas 7002 JKSKL, Jakarta 12070 zJurusan Teknologi Nuklir, Fakultas Teknik, Universitas Gadjah Mada '
JI. Grafika 2, Yogyakarta
ABSTRAK
KARAKTERISASI LAPISAN POLIMER URETAN AKRILAT HASIL IRADIASI SINAR ULTRA-VIOLET.
Penelitian karakterisasi lapisan campuran resin uretan akrilat clan monomer tripropilen glikol diakrilat (TPGDA) untuk bahan pelapis permukaan dilakukan menggunakan radiasi ultra-violet (UV) dengan fotoinisiator benzil dimetil ketal. Resin uretan akrilat dicampur dengan TPGDA clan fotoinisiator pacta berbagai perbandingan berat. Konsentrsai TPGDA divariasi menjadi 0, 15,30, clan 45 % berat campuran dengan uretan akrilat; sedangkan konsentrasi fotoinisiator divariasi menjadi 1,2,5, 4, clan 5,5 % berat dari campuran uretan akrilat clan TPGDA. Iradiasi dilakukan menggunakan sumber radiasi UV llampu dengan daya 80 Watt/em, pacta kecepatan konveyor 3 m/menit. Parameter yang diukur meliputi sifat bahan pelapis, yaitu densitas, viskositas, kandungan bahan menguap, clan sifat lapisan hasil 'j'r!idiasi, meliputi fraksi-gel, kekerasan pensil, tegangan putus, kestabilan termal, clan kestabilan terhadap bahan kimia, pelarut &;hoda, Hasil percobaan menunjukkan bahwa pacta umumnya kenaikan konsentrasi TPGDA clan fotoinisiator, meningkatkan fraksi-gel, tegangan putus, clan kestabilan termal, tetapi tidak berpengaruh'terhadap kekerasan pensil. Semua contoh uji tahan terhadap bahan kimia pelarut datI nod a yang diujikan. Kondisi optimum dicapai pacta konsentrasi TPGDA clan fotoinisiator benzil dimetil ketal masing-masing sebanyak 30 clan 2,5 % berat campuran uretan akrilat clan TPGDA.
ABSTRACT
CHARACTERIZA nON OF URETHANE ACRYLATE POLYMER FILMS IRRADIATED USING UL TRA- VIOLET LIGHT. An experiment on characterization offilm made of urethane acrylate resin and tripropylene glycol diacrylate (TPGDA) mixture for surface coating was carried out by using ultra-violet (UV) light radiation and photoinitiator of benzil dimethyl ketal. Urethane acrylate resin was mixed with TPGDA and photoinitiator in a various of weight ratio. Concentrations ofPGDA were 0; 15; 30; and 45 %, whereas the concentrations of photoinitiator were 1; 2.5; 4; and 5.5 % by weight, based on urethane acrylate and TPGDA mixture. Irradiation was conducted by using a one lamp of80 Watts/em intensity UV-radiation source, at the conveyor speed of 3 mlmin. Parameters observed were the properties of coating materials i.e., density, viscosity, and volatile content, and cured films i.e., gel-fraction,pencil hardness, tensile strength, thermal stability, and chemical, solvent and stain resistances. Experimental results showed that in general, increasing ofTPGDA and photoinitiator concentration increase the gel-fraction, tensile strength and thermal stability, but do not affect very much to the pencil hardness. All samples resist to the chemical, solvent, and stain. Optimum condition was obtained at the TPGDA and benzil dimethyl ketal photoinitiator concentration ono and 2.5 % respectively.
Kata kunci: Uretan akrilat, Sinar-UV, Bahan pelapis.
PENDAHULUAN
Berbagai produk dari kayu, logam, keramik, kertas, plastik dU.,memerlukan proses pelapisan permukaan yang bertujuan untuk melindungi permukaan daTi pengaruh Iliac yang bersifat merusak clan meningkatkan penampilannya. Seeara konvensional, proses pengeringan (curing) lapisan polimer dilakukan dengan bantuan katalisator, panas, clan pelarut. Selain eara konvensional, proses pengeringan lapisan dapat dilakukan dengan bantuan radiasi ultra-violet (UV) atau berkas elektron.
Pacta umumnya komponen utama bahan pelapis permukaan seeara radiasi (radiation curable material) terdiri dari campuran oligomer/prapolimer clan monomer
reaktif sebagai diluen. Fungsi monomer ini selain untuk mengatur viskositas agar menghasilkan lapisan yang rata jika diaplikasikan pacta permukaan bahan, juga menentukan sifat lapisan basil iradiasi. Formulasi bahan pelapis yang terdiri dari oligomer akrilat clanmonomer akrila. mempunyai kecepatan pengeringan yang tinggi sehingga bahan pelapis radiasi yang acta dalam perdagangan sebagian besar merupakan senyawa akrilat [1,2]. MenurutGOLDEN [3],hampir95 % bahanpelapis radiasi merupakan senyawa akrilat clan polimerisasi berjalanmelaluipolimerisasiradikal.
Salah satu senyawa akrilat adalah uretan akrilat.
Uretan akrilat merupakan basil reaksi antara gugus ' isosianat clan gugus hidroksil pacta monomer akrilat atau
Karakterisasi Lapisan Polimer Uretan Akrilat Basil lradiasi Sinar Ultra-Violet (Sugiarto Danu)
metakrilat. Biasanya viskositas oligomer uretan akrilat sangat tinggi meskipun pacta berat molekul rendah.Tripropilen glikol diakrilat(TPGDA)merupakan monomer reaktifyang banyakdipakaisebagaidiluenpacta formulasi bahan pelapis. Monomer TPGDA termasuk monolDerdifungsional(mempunyai2 ikatanrangkaptrap molekul), mempunyai viskositas daD Draize rating rendah, reaktivitas tinggi, daDkemampuan yangtinggi dalam melarutkan sebagian besar oligomer akrilat [4].
Sebelumsuatu formulasibahan kimiadiaplikasikanuntuk pelapisan permukaan suatu bahan, maka perlu diketahui sifatbahan pelapis maupunsifat lapisansetelahdiiradiasi.
Dalampenelitianini dilakukankarakterisasibahan pelapisyangterdiridari campuranoligomeruretanakrilat, monomer tripropilen glikol diakrilat (TPGDA), daD fotoinisiator benzil dimetil ketal dengan radiasi ultra- violet untuk bahan pelapis permukaan. Parameter yang diukur meliputi sifat bahan pelapis, yaitu densitas, viskositas & kandungan bahan menguap, daD sifat lapisan setelah diiradiasi, yaitu fraksi-gel, kekerasan, tegangan putus, kestabilan termal, daD ketahanan terhadap bahan kimia, pelarut, daDnoda.
METODEPERCOBAAN
Bahan
Oligomer uretan akrilat dengan nama komersial Synocure 3132, buatan Cray Valley Product, Inggris.
Monomer tripropilen glikol diakrilat (TPGDA) daD fotoinisiator benzil dimetil ketal dengan nama komersial Lucirin BDK, buatan BASF, Jerman. Fotoinisiator berbentuk serbuk, sedangkan bahan kimia yang lain berbentuk carr. Semua bahan kimia yang dipakai dalam percobaan tanpa diproses lebih lanjut. Struktur bahan kimia tersebut disajikan pactaTabell.
Tabe! 1. Struktur kimia oligomer uretan akrilat,
ManomerTPGDA dan foto inisiator benzil dimetil ketal.
Alat
Sumber radiasi sinar UV terdiri daTi I lampu dengan daya 80 Watt/em, buatan 1ST Strahlentechnik, GmbH,Jerman.
Tata kerja
Oligomer uretan akrilat dicampur monomer TPGDA dengan konsentrasi TPGDA dalam campuran divariasi menjadi 0, 15,30, daD45 % berat. Ke dalam campuranditambahkan fotoinisiator benzil dimetil ketal dengan variasi konsentrasi 1, 2,5, 4, daD 5,5 % berat campuran oligomer daD monomer. Campuran diaduk kemudian dibiarkan sampai gelembung yang terjadi, berangsur-angsurhilang. Campuran dilapiskan pactaplat aluminrumberukuran 200 X 100 X.l mm menggunakan silinderkaca untuk mendapatkan teballapisan::t 100 f..lm.
Lapisan kemudian diiradiasi sinar-UV pada kecepatan konveyor 3 m/menit. Kandungan bahan menguap ditentukan sesuai degan ASTM D 2369-1982 [5]. Fraksi gel diukur denganekstraksi selama 16jam menggunakan pelarut aseton. Kekerasan pensil diukur dengan pensil standar Uni Mitsubishi, sesuai dengan JIS K 5400-1970 [6]. Tegangan putus ditentukan menggunakan alat uji tarik ModelInstron 1122menurut ASTM D 2370-68 [7].
Kestabilan termal ditentukan dengan analisis termogravimetrimenggunakanTGA-30buatanShimadzu, yaitu dengan mengukur suhu pacta pengurangan berat 10% (TIO)'Ketahanan terhadap bahan kimia, pelarut daD noda ditentukan dengan metode uji fetes sesuai dengan ASTM D 1308-79[8].Adapun bahan kimia penguji yang dipakai adalah natrium hidroksida 10 %, alkohol 50 %, asam sulfat 10%, asam asetat 5 %, natrium karbonat 1%, thinner, aseton daDspidol permanen wama merah, biru, daDhitam.
HASIL DAN PEMBAHASAN
Densitas. Viskositas dan Kandungan Bahan Menguap. Sifat bahan pelapis yang meliputi densitas, viskositas, daD kandungan bahanmenguap disajikan dalam Tabel 2. Kenaikan konsentrasi TPGDA dalam campuran, menurunkan densitas walaupun tidak begitu besar, sedangkankenaikankonsentrasi fotoinisiatortidak tampak berpengaruh pacta densitas. Densitas bahan pelapis berkisar antara 1,0688daD1,1412grim\.
Viskositas turun drastis dengan kenaikan kandungan TPGDA dalam campuran. Pactakonsentrasi fotoinisiator 1 % daD tanpa penambahan TPGDA, viskositasbahan pelapis sangat tinggi, yaitu 8622 mPa.S.
Penambahan TPGDA sampai konsentrasi 4~ % menyebabkan viskositas turun menjadi 66 mPa.S.
Viskositas yang tinggi akan menghasilkan permukaan yang tidak rata atau bergelombang. Pacta konsentrasi TPGDA 0 daD 15 %, kenaikan konsentrasi fotoinisiator tidak tampak berpengaruh terhadap viskositas,
CD
Nmnakim,a Strukturkinua
Uretanakrilat 0 H H 0
(synocure 3132 II I I II
CH,..c-R-0
-
C-
N-R'-N-C-0-
R-
C=QJ,I I
y y
0 II
R -C -O-(CH,).-CH,- Y: H atauCH, R': diisosianat
Tripropilenglikol 0 CH, 0
Diakrilat(TPGDA) II I II
CH,CH-C-O-(-CH-CH,-O-). -C-CH
-
CH,Benzil dimetil ketal OCH,
(Lucirin BDK) I
@-CO-b,r§)
Prosiding Pertemuan llmiah lIma Pengetahuan dall Teknologi Bahan '99
Serpong, 19
-
20 Oktober 1999 ISSN 141/-2213Tabel 2. Densitas, viskositas (25 "C), dan kandungan bahan menguap campuran uretan akrilat, TPGDA dan
fotoinisiator. '
sedangkan pada konsentrasi TPGDA 30 dan 45 %, kenaikan konsentrasi fotoinisiator menyebabkan kenaikan viskositas. Hal ini disebabkan karena semakin tinggi konsentrasi fotoinisiator dan TPGDA, semakin banyak terjadinya polimerisasi dini antara oligomer dan monomer, dipicu oleh sinar UV yang secara tidak langsung mengenai bahan pelapis.
Ukuran mudah tidaknya suatu bahan pelapis menimbulkan bau dan emisi yang tidak diinginkan, ditentukan oleh kandungan bahan menguap. Kandungan bahan mi:mguapdipengaruhi oleh konsentrasi TPGDA, dan tidak dipengaruhi oleh konsentrasi fotoinisiator.
Semakin tinggi konsentrasi TPGDA, semakin tinggi kandungan bahan menguap, karena titik didih TPGDA lebih rendah dibanding titik didih uretan akrilat.
Penambahan TPGDA sampai konsentrasi 45 % meningkatkan kandungan bahan menguap dari antara II dan 12 % menjadi sekitar 15 %. Kandungan bahan menguap suatu bahan pelapis diharapkan serendah
,mungkin karena pengaruhnya terhadap lingkungan dan kestabilan viskositas.
Fraksi-Gel. Fraksi-gel suatu po,limer ditentukan oleh banyaknya polimer ikatan silang. Semakin tinggi densitas ikatan silang, semakin tinggi fraksi-gel. Pengaruh konsentrasi TPGDA dan fotoinisiator terhadap fraksi- gel disajikan pada Tabel3. Pada konsentrasi fotoinisiator I % (konsentrasi rendah), energi sinar UV belum terpakai secara maksimal. Jumlah radikal yang terbentuk pada tahap inisiasi, lebih sedikit jika dibandingkan dengan jumlah bagian reaktif(reactive side) yang ada, sehingga
Tabel. 3. Fraksi gellapisan
kecepatanpembentukangelbelum maksimal.Nilai fraksi gel pada konsentrasi 1 % adalah 97,76 %. Kenaikan konsentrasi fotoinisiator meningkatkan jumlah radikal yang terbentuk sehingga meningkatkan kecepatan pembentukan gel. Kenaikan konsentrasi fotoinisiator sampai 4 % meningkatkan fraksi-gel menjadi 98,85 %.
Jikakonsentrasifotoinisiatorterlalutinggi(5,5 %),jumlah radikal yang terbentuk lebih banyak dibandingkan dengan jumlah bagian reaktif. Akibatnya, radikal tidak lagimampu memacuterjadinyareaksi polimerisasiuntuk berjalan lebih cepat. Menurut HANRAHAN [9], dalam keada'm ini tahap reaksi terminasi lebih ~ominan. Reaksi terminasi ini akan meningkatkan pembentukan polimer dengan berat molekul rendah, yang mudah larut pada waktu ekstraksi, sehingga nilai fraksi-gel cenderung menurun.Fraksi-gelpadakonsentrasi5,5 % turunmenjadi 98,06 %. Konsentrasi fotoinisiator yang optimum dipengaruhi oleh konsentrasi TPGDA. Kenaikan fraksi- gel karena kenaikan konsentrasi TPGDA hanya terlihat padakonsentrasifotoinisiatorI dan 2,5 %. Semakintinggi konsentrasi TPGDA, semakin tinggi peluang terjadinya reaksi pembentukan ikatan silang antara uretan akrilat dan TPGDA. Fraksi-gelmeningkat dari 97,76 % menjadi 99,19 % pada penambahan TPGDA sebanyak 45 % dan konsentrasi fotoinisiator I %. Pad a konsentrasi fotoinisiator yang lebih tinggi yaitu 2,5 % atau lebih, terlihat adanya penurunan fraksi gel dengan kenaikan konsentrasi TPGDA sampai 45 %. Menurut HOFFMAN [10], konsentrasimonomer yang tinggi dalam campuran dengan oligomer menyebabkan viskositas campuran menurun sehingga mobilitas qtakro radikal meningkat.
Peningkatan mobilitas IDaho radikal ditunjang oleh peningkatan jumlah radikal yang terbentuk karena kenaikan konsentrasi fotoinisiator akan menyebabkan peningkatanlaju terminasirantai bi-molekulerdibanding lajureaksipropagasirantai.Akibatnya,terjadi penurunan efisiensi pembentukan gel atllUpenurunan fraksi gel.
Walaupun terjadi penurunan fraksi gel pada konsentrasi TPGDA45 % dibanding konsentrasiTPGDA30 % (pada konsentrasi fotoinisiator 2:2,5 %) tetapi penurunan ini relatifkecil.
Kekerasan. Pada umumnya sifat kekerasan berkaitan erat denganfraksi-gel. Semakin tinggi densitas ikatansilang,semakintinggifraksi-gel,dan semakinkeras suatu lapisan polimer. Tabel4 menunjukkan kekerasan
Tabel4. Kekerasan pensillapisan. *
Sifat bahan KonsenlTasi KonsenlTasi fotoinisiator, %
pelapis TPGDA, %
I 2,5 4 5,5
0 1,330 1,1360 1,1391 1,1412
Densitas, 15 1,0876 1,0892 1,0936 1,0940
grlml 30 1,0732 1,0718 1,0792 1,0780
45 1,0692 1,0668 1,0692 1,0706
0 8622 8598 8814 8449
Viskositas, 15 1818 1719 1983 1951
mPa,s 30 257 280 480 536
45 66 76 97 184
Kandungan 0 12,33 12,21 11.73 11,08
bahan 15 12,71 12,21 11,88 11,44
menguap, 30 14,38 14,44 14,15 13,53
% 45 15,85 15,44 15,27 15,00
Konsentrasi Konsentrasi fotoinisiator. % TPGDA, %
1 2,5 4 5,5
0 97,76 98,13 98,85 98,06
Konsentrasi Konsentrasi fotoinisiator, % TPGDA, % --- --- --- --- ---
I 2,5 4 5,5
0 H H F F
15 H H H F
30 H H H H
45 H H H H
Karakterisasi Lapisan Polimer Uretan Akrllat Hasil [radiasi Sinar Ultra- Violet (Sugiarto Danu)
lapisan pads berbagai konsentrasi TPGPA clan fotoinisiator. Walaupun fraksi-gel meningkat dengan kenaikan konsentrasi TPGDA clan fotoinisiator (Tabel 3), tetapi tidak terlihat pengaruhnya pads kekerasan pensil. Hal ini disebabkan karena fraksi-gel nilainya tidak begitu berbeda, yaitu berkisar antara 97 da~ 99 %. Penurunan kekerasan I tingkat dari H menjadi F terjadi pads konsentrasi fotoinisiator 4 &
5,5 %, clankonsentrasi TPGDA 0 & 15 %.
Tegangan Putus. Tegangan putus merupakan ukuran kekuatan suatu bOOanjika ditarik sampai putus, dinyatakan dalam gays lisp satuan luas. Tegangan putus suatu poIimertidak hanya bergantungpadsjumlah ikatan silang saja, tetapi juga dipengaruhi oleh berat molekul mula-mula, adanya bahan pengisi (filler), clan kemungkinan kristaIisasi[11]. Jikajumlah ikatan antara rantai-rantai polimer pads pembentukanjaringan ikatan silang meningkat, rantai polimer menjadi tidak mudah bergerak satu terhadap yang lain, sehingganilai tegangan putus akan meningkat [12]. Kurva pads Gambar I, menunjukkan hubungan antara tegangan putus clan konsentrasi TPGDA. KenaikankonsentrasiTPGDA clan fotoinisiator meningkatkan tegangan putus. Kenaikan tegangan putus pads konsentrasi fotoinisiator agak rendah (I %), lebih tinggi dibanding kenaikan tegangan putus pads konsentrasi fotoinisiator tinggi. Sebagai contoh, pads konsentrasi fotoinisiator I %, tegangan putus meningkat dari 629 menjadi 830 kglcm2(naik 20 I kg/cm2), sedangkan pads konsentrasi fotoinisiator sebesar 5,5 %, meningkat dari 727 menjadi 848 kglcm2 (naik 121 kg/cm2) Kenaikan tegangan putus karena pengaruh fotoinisiator terlihat lebih tinggi pads konsentrasiTPGDAyang rendOO.Dengannilai tegangan putusyang tinggiini (> 600 kglcm2),bOOanpelapisuretan akrilatdapatdigolongkanpadapolimeryang mempunyai kekuatan tinggi.
Kestabilan Termal. Kestabilan termal dapat ditentukan dari suhu dekomposisi terma!. Menurut CHIANG clan CHIANG [13], suhu awal terjadinya dekomposisi termal (To) clan suhu pada pengurangan berat 10 % (T.J merupakan suhu terpenting untuk mengetahuikestabilantermalpolimer. SemakintinggiTo clanTIO'semakintinggi kestabilantermalnya. Penentuan T.omelalui termogram dekomposisi termallebih mudOO clan lebih teIiti dibanding penentuan To' Hubungan antara TIOclankonsentrasi TPGDA seperti terlihat pads Gambar 2 menunjukkan bahwa terjadi peningkatan kestabilan termal pads kenaikan konsentrasi TPGDA.
MenurutTHALACKERdanBOETTCHER[14],semakin tinggi densitas ikatan silang, semakin tinggi kestabilan termal polimer. Walaupun pads konsentrasi TPGDA 45 % menghasilkan fraksi gel relatif lebih rendah dibanding pads konsentrasi 30 % (Tabel 3), tetapi penurunan initidakterlihatmenurunkankestabilantermal seperti terlihat pad a T1O Seharusnya T.o pads konsentrasi 45 % lebih rendah dibanding konsentrasi 30 %. Hal ini disebabkanpenurunan fraksigel yang keci!
tidak terlihat pengaruhnya pads pengukuran kestabilan termal, atau adanya perbedaan tebal contoh uji lapisan pads pengukuran fraksi gel daDpengukuran kestabilan terma!. Kenaikan konsentrasi fotoinisiator tidak begitu terlihat pengaruhnya pads kestabilan term a!. Pads konsentrasi fotoinisiator 1 %, penambahan TPGDA sebanyak45 % meningkatkanT.odari313 menjadi 327"C, sedangkan pads konsentrasi fotoinisiator 5,5 %, T,O meningkatdari303 menjadi 324%. .
Ketahanan Bahan Kimia. Pelarut, don Noda.
Semua lapisan yang dihasilkan pads berbagai variasi konsentrasi TPGDA clan fotoinisiator tOOan terhadap semua bahan kimia, pelarut clan nods yang diujikan. Dari pengamatan secara visual tidak terlihat adanya perubahan wama, penurunan kilap, pelunakan, pengelupasan, stall bekas noda dari spidel pads lapisan. Hal ini menunjukkan bahwa bOOankimia penguji tidak bereaksi dengan lapisan poIimer clantidak terjadi penetrasi ke dalam jaringan ikatan silang polimer.
Dari data basil pengukuran clan pengujian
900
800
}
700~
c. 600" 500
J
400Fotoinisiator, %
-0-
1..
2,S-a-
4300 200
.
0
-A- S,S
10 20 30 40 50
Konsemui TPGDA, %
Gambar 1. Tegangan putus lapisan uretan akrilat sebagai fungsi konsentrasi TPGDA pada berbagai konsentrasi fotoinisiator
400
350
~
300Fotoinisiator, %
-0-
10
~ 250
200
..
2,S-a-
4-l:Jr. S,S 150
0 10 20 30 40 50
Konsentrasi lPGDA, %
Gambar 2. Kestabilan termal lapisan yang ditunjukka oleh suhu pada pengurangan berat 10% (TIO) sebagai fungsi konsentrasi TPGDA pada berbagai konsentrasi fotoinisiator. Kecepatan pemanasan : 10 "C/men.
Kecepatan aliran N2: 40 ml/men
1:1
Prosiding Pertemuan llmiah limu Pengetahuan dan Teknolog/ Bahan '99
Serpong, 19
-
20 Oktober 1999 ISSN UlJ-2213terhadap sifat bahan pelapis, maupun sifat lapisan hasil iradiasi misalnya kandungan bahan menguap, penampilan lapisan, kekerasan, kekuatan clan kestahilan fermat, dapat ditentukan bahwa kondisi optimum dicapai pada konsentrsai TPGDA 30 %, clan konsentrasi fotoinisiator benzil dimctil ketal sebesar 2,5 %. Formulasi bahan pelapis ini dapat diaplikasikan untuk produk akhir yang memerlukan pelapisan permukaan dengan sifat kekerasan, kekuatan clan kestabilan termal yang cukup tinggi misalnya mebel, mebel untuk dapur clan lantai parket.
KESIMPULAN DAN SARAN
1. Penambahan monomer tripropilen glikol diakrilat (TPGDA) pada resin uretan akrilat dengan nama komersial Synocure3132, berpengaruhpositif,yaitu meningkatkan penampilan daTIsifat lapisan hasil iradisi UV, tetapi meningkatkan kandungan bahan menguap.
2. Kondisi optimum berdasarkan penampilan lapisan, sifat kekerasan, kekuatan, clan kestabilan termal lapisan basil iradiasi dicapai pada konsentrasi TPGDAclanfotoinisiatorbenzildirnetilketalmasing- masingsebanyak30 clan2,5 % berat campuranuretan akrilatdan TPGDA.
Disarankan bahwa berdasarkan sifat lapisan campuran resin uretan akrilat daDTPGDA yang cukup tinggi tersebut, bahan pelapis ini dapat dipakai misalnya untuk pelapisan produk mebel, mebel dapur dan lantai parket..
UCAP AN TERIMA KASIH
Ucapan terima kasih penulis sampaikan kepada Sdr. Sungkono dari Bidang Proses Radiasi, dan seluruh operator di Instalasi Fasilitas Iradiasi, PAIR-BATAN, yang telah membantu penelitian ini mulai dari persiapan bahan, layanan iradiasi, daD pengujian sifat lapisan, sehingga penelitian ini dapat diselesaikan dengan baik.
DAFT AR rUST AKA
[J]. G.A. SENICHandR.E.FLORIN, Rev. Macromol.
Chern. Phys.~242(1984)277
ANONYMOUS, Save Handling and Use ofUltra- Violet / Electron Beam (UV/EB) Curable Coatings, National Paint & Coatings Association, Washington (1980)
R. GOLDEN, "Overview and trends in radiation curing technology", Proceedings RadTech Europe '89, Florence (1989) 11
R. HOLMAN and P. OLDRING, UV & EB Curing Formulationfor Printing Inks Coatings & Paints, Selective Industrial Training Association, London (1988)55
ANONYMOUS, American Society for Testing and Materials, Annual Book of ASTM Standards part [2].
[3].
[4].
[5].
27 ASTM,Philadelphia(1984)474
[6]. ANONYMOUS, Testing Methods for Organic Coatings,Japanese Industrial StandardJIS K 5400 (1970)72
[7]. ANONYMOUS,American Societyfor Testingand Materials,Annual Book of ASTM Standards,part 27, ASTM,Philadelphia(1982)477.
[8]. ANONYMOUS,AmericanSocietyfor Testingand Materials,Annual Book of ASTM Standards, part 21, ASTM,Philadelphia(1972) 474
[9]. M. ], HANRAHAN, "The effect ofphotoinitiator concentration on the properties of UV formulations ", Proceedings ofRadTech '90North
America,Vol.I,Chicago(1990)249
[10]. A. S. HOFFMAN, "Electron curingof coatings:
Present status" A Panel on Radiation Processing Techniques of Special Interest to Developing
Countries,IAEA, Seoul(1970) .
[11]. A.CHARLESBY, Atomic Radiation and Polymers. Pergamon Press, London- Oxford-New York, Paris, (1972)
[12]. R. W. WALDRON, H. F. Me RAE and J. D MADISON, Radiation Curing, November (1985)9
[13]. W. ], CHIANG and W. C. CHIANG, J. Appl. Pol.
Sc. 35 6(1988) 1433
[14]. V. P. THALACKER and T. E. BOETTCHER, Radiation Curing, November (1985) 2
Ke Daftar Isi
