PENGARUH LAPISAN PENYANGGA AlN DAN DAYA PLASMA PADA SIFAT OPTIK FILM TIPIS GaN YANG DITUMBUHKAN DENGAN DC MAGNETRON SPUTTERING
Teks penuh
Gambar
Dokumen terkait
Bentuk morfologi film tipis dianggap baik jika mempunyai struktur film yang homogen, dengan kata lain terdapat banyak atom pada permukaan substrat sehingga film
Penumbuhan film tipis CdTe/CdS dengan parameter yang dianggap optimal masih belum menunjukkan hasil yang terlalu baik, sehingga perlu dilakukan studi lanjut yang
Manfaat penelitian ini adalah untuk mengetahui struktur mikro, struktur kristal dan sifat listrik film tipis CdTe:Cu yang ditumbuhkan di atas substrat ITO dengan metode dc
Manfaat penelitian ini adalah untuk mengetahui struktur mikro, struktur kristal dan sifat listrik film tipis CdTe:Cu yang ditumbuhkan di atas substrat ITO dengan metode dc
menunjukkan citra SEM permukaan film tipis ZnO:Al yang ditumbuhkan pada temperatur 400 o C mempunyai ukuran butir lebih besar. Tampak dari citra SEM, film tipis ZnO:Al
menunjukkan citra SEM permukaan film tipis ZnO:Al yang ditumbuhkan pada temperatur 400 o C mempunyai ukuran butir lebih besar. Tampak dari citra SEM, film tipis ZnO:Al
Penambahan tekanan gas argon pada penumbuhan film tipis Ga 2 O 3 :Mn dengan fraksi mol Mn yang sama meningkatkan ketebalan dan orientasi kristal lebih homogen sehingga
Penumbuhan film tipis CdTe/CdS dengan parameter yang dianggap optimal masih belum menunjukkan hasil yang terlalu baik, sehingga perlu dilakukan studi lanjut yang
