• Tidak ada hasil yang ditemukan

PEMBUATAN DAN KARAKTERISASI FIELD EFFECT TRANSISTOR (FET) BERBASIS POLY 3-HEXYLTHIOPHENE (P3HT) UNTUK MENDETEKSI GAS AMONIA ANDRI GUNAWAN

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

Membagikan "PEMBUATAN DAN KARAKTERISASI FIELD EFFECT TRANSISTOR (FET) BERBASIS POLY 3-HEXYLTHIOPHENE (P3HT) UNTUK MENDETEKSI GAS AMONIA ANDRI GUNAWAN"

Copied!
25
0
0

Teks penuh

(1)

PEMBUATAN DAN KARAKTERISASI FIELD EFFECT TRANSISTOR

(FET) BERBASIS POLY 3-HEXYLTHIOPHENE (P3HT) UNTUK

MENDETEKSI GAS AMONIA

ANDRI GUNAWAN

DEPARTEMEN FISIKA

FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM

INSTITUT PERTANIAN BOGOR

BOGOR

2013

(2)

ABSTRAK

ANDRI GUNAWAN.

Pembuatan dan Karkaterisasi

Field Effect Transistor

(FET)

berbasis

Poly 3-hexylthiophene

(P3HT) untuk Mendeteksi Gas Amonia. Dibimbing oleh

Dr. AKHIRUDDIN MADDU

dan

Dr. IRMANSYAH

.

Piranti FET berbasis P3HT telah dibuat dalam penelitian ini untuk dapat mendeteksi

gas amonia. Lapisan silikon dioksida (SiO

2

) sebagai lapisan dielektrik pada piranti FET

telah ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon dengan metode

thermal

, lalu substrat

silikon dipanaskan menggunakan

furnace

pada suhu 1000

o

C selama 3 jam, kemudian gas

oksigen (O

2

) dialirkan ke dalam

furnace

selama proses pemanasan berlangsung yang

bertujuan agar gas oksigen berikatan dengan silikon sehingga membentuk lapisan SiO

2

.

P3HT sebagai lapisan aktif pada piranti FET ditumbuhkan di permukaan atas lapisan SiO

2

dengan metode

spin coating.

Hasil karakterisasi EDX menunjukkan bahwa dalam substrat

silikon yang telah dioksidasi terdapat kandungan unsur O

2

sekitar 35% dan unsur silikon

sekitar 65%. Hasil pengujian karakterisasi I-V menunjukkan arus

drain-source

(I

d-s

) yang

diperoleh dipengaruhi oleh perubahan tegangan

gate

(V

g

). Semakin besar V

g

yang

diberikan maka I

d-s

yang dihasilkan semakin meningkat. Pengaruh gas amonia terhadap

kurva karakteristik I-V menunjukkan bahwa I

d-s

yang dihasilkan semakin menurun seiring

dengan penambahan konsentrasi gas amonia. Berdasarkan hasil respon dinamik piranti

terhadap gas amonia memperlihatkan bahwa semakin besar V

g

yang diberikan maka

sensitivitas piranti semakin tinggi. Pada saat diberi V

g

= -8 volt, setiap perubahan

konsentrasi 1% maka akan terjadi kenaikkan tegangan sebesar 0,264 volt. Sedangkan

ketika V

g

= 0 volt, setiap perubahan konsentrasi sebesar 1% maka terjadi kenaikkan

tegangan sebesar 0,236 volt.

(3)

PEMBUATAN DAN KARAKTERISASI FIELD EFFECT TRANSISTOR

(FET) BERBASIS POLY 3-HEXYLTHIOPHENE (P3HT) UNTUK

MENDETEKSI GAS AMONIA

ANDRI GUNAWAN

Skripsi

sebagai salah satu syarat untuk memperoleh gelar

Sarjana Sains pada

Departemen Fisika

DEPARTEMEN FISIKA

FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM

INSTITUT PERTANIAN BOGOR

BOGOR

2013

(4)

LEMBAR PENGESAHAN

Judul

: Pembuatan dan Karakterisasi

Field Effect Transistor

(FET) Berbasis

Poly 3-Hexylthiophene

(P3HT) untuk Mendeteksi Gas Amonia

Nama

: ANDRI GUNAWAN

NIM

: G74080069

Menyetujui,

Pembimbing I

Pembimbing II

Dr. Akhiruddin Maddu

NIP. 196609071988021006

Dr. Irmansyah

NIP. 196809161994031001

Mengetahui,

Kepala Departemen Fisika

Dr. Akhiruddin Maddu

NIP. 196609071988021006

(5)

RIWAYAT HIDUP

Penulis dilahirkan di Warungkondang, Kabupaten Cianjur

pada tanggal 7 Januari 1989 dari pasangan Nandan Ruhyat dan

Kartini. Penulis merupakan anak pertama dari tiga bersaudara.

Penulis menyelesaikan masa studi di SD Negeri 1 Kancana

Mulya, SLTP Negeri 2 Warungkondang dan SMA Negeri 1

Warungkondang. Pada tahun 2007 penulis lulus SMA dan di

tahun 2008 penulis melanjutkan pendidikan sarjana strata satu di

Departemen Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan

Alam (FMIPA), Institut Pertanian Bogor (IPB) melalui jalur

Seleksi Nasional Perguruan Tinggi Negeri (SNMPTN).

Selama menjalani pendidikan di IPB, penulis aktif dalam Organisasi Mahasiswa

Daerah (OMDA) Cianjur sebagai pengurus pada tahun 2009 dan 2010, sebagai staf divisi

PSDM Himpunan Mahasiswa Fisika (HIMAFI) periode 2009-2010. Penulis juga aktif

dalam beberapa kepanitiaan Departemen, Fakultas maupun tingkat IPB. Selain itu penulis

juga pernah menjadi asisten praktikum Sensor dan Transduser pada tahun 2012.

(6)

KATA PENGANTAR

Assalamu`alaikum Wr. Wb.

Alhamdulillahhirabbil`alamin,

segala

puji dan syukur penulis panjatkan hanya

kepada-Mu ya Allah, atas segala rahmat dan karunia-Mu serta menunjukkan hamba-Mu

untuk selalu berada di jalan-Mu dan Engkaulah yang telah mengatur segalanya hingga

terselesaikannya skripsi yang berjudul “Pembuatan dan Karakterisasi

Field Effect

Transistor

(FET) Berbasis

Poly 3-Hexylthiophene

(P3HT) untuk Mendeteksi Gas

Amonia”.

Bantuan dan dukungan dari berbagai pihak dalam penulisan skripsi ini sangatlah

berarti bagi penulis. Untuk itu, penulis ingin mengucapkan terima kasih kepada Mamah

dan Papah tercinta yang senantiasa mendo`akan penulis di dalam setiap langkah dan

sujudnya, menyayangi, mengasihi, serta memberikan motivasi kepada penulis agar selalu

bersemangat. Dalam kesempatan ini, penulis juga mengucapkan terima kasih kepada:

Bapak Dr. Akhiruddin Maddu dan Bapak Dr. Irmansyah, selaku Dosen Pembimbing

dalam penelitian ini yang telah memberikan bimbingan, arahan, masukan, serta

motivasi sehingga tersusunya skripsi ini.

Bapak Dr. Tony Ibnu Sumaryada selaku Dosen Penguji atas saran dan masukannya.

Bapak Ir. Hanedi Darmasetiawan, M.S, selaku Dosen Editor atas bantuannya

menyelesaikan skripsi ini.

Bapak Firman (TU Fisika) atas semua kebaikan dan bantuannya, semoga Allah

membalas semua pengorbanan dan kebaikan bapak.

Staf pengajar, Tata Usaha, dan semua Pegawai Departemen Fisika, Institut Pertanian

Bogor. Atas bimbingan, semangat, dan pengetahuannya.

Bapak Taufik Jasa Lesmana selaku pendamping dalam melakukan penelitian.

Adikku yang tersayang Siti Nuraeni dan Muhammad Fajar Sidik yang selalu

mendo`akan penulis agar cepat lulus dan balik ke rumah.

Semua keluarga dari Mamah dan Papah yang selalu mendoakan penulis agar cepat

lulus.

Tim FET

(Farqan, Roy, dan Zainal) atas kebersamaan dan kerjasamanya disaat senang

maupun susah.

Teman seperjuangan Fisika 45 atas segala bantuan, semangat, dan kebersamaan yang

indah selama di IPB.

Rekan-rekan Fisika 44 dan 46 terima kasih untuk segala bantuan, kerjasama, dan

kebersaan.

Last but special,

Novi Selvia

thanks

atas perhatian dan pengertiannya.

Semoga skripsi ini dapat bermanfaat dikemudian hari dan semoga Allah SWT

senantiasa melimpahkan rahmat dan karunianya untuk kita semua. Aamiin.

Wassalamu`alakium Wr. Wb.

Bogor, Februari 2013

(7)

vi

vi

DAFTAR ISI

Halaman

DAFTAR GAMBAR ... vii

DAFTAR LAMPIRAN ... vii

BAB I PENDAHULUAN ...

1

1.1 Latar Belakang ...

1

1.2 Tujuan Penelitian ...

1

1.3 Rumusan Masalah ...

1

1.4 Hipotesis ...

1

BAB II TINJAUAN PUSTAKA ...

1

2.1 Transistor ... 1

2.2 Polimer Konduktif ...

2

2.3 Silikon ...

3

2.4 Silikon Dioksida (SiO

2

) ...

3

BAB III METODOLOGI PENELITIAN ...

3

3.1 Waktu dan Tempat Penelitian ...

3

3.2 Alat dan Bahan Penelitian ...

3

3.3 Prosedur Penelitian ...

4

3.3.1 Penumbuhan lapisan SiO

2

di permukaan atas substrat silikon ... 4

3.3.2 Karakterisasi EDX (energi dispersif sinar-X) ...

4

3.3.3 Penumbuhan lapisan aktif

poly 3-hexylthiophene

...

4

3.3.4 Pembuatan kontak ...

4

3.3.5 Karakterisasi arus-tegangan ...

4

3.3.6 Pengujian respon piranti ketika bereaksi dengan gas amonia ...

4

BAB IV HASIL DAN PEMBAHASAN ...

5

4.1 Pembuatan dan Karakterisasi Lapisan SiO

2

...

5

4.2 Karakterisasi I-V FET ...

5

4.3 Interaksi Kimia Antara Gas Amonia dengan P3HT ...

6

4.4 Pengaruh Konsentrasi Gas Amonia terhadap Karakterisasi I-V FET ...

6

4.5 Respon Dinamik Piranti FET terhadap Konsentrasi Gas Amonia ...

7

BAB V KESIMPULAN DAN SARAN ...

8

5.1 Kesimpulan ...

8

5.2 Saran ...

8

DAFTAR PUSTAKA ...

8

(8)

vii

vii

DAFTAR GAMBAR

Halaman

Gambar 1 Struktur FET ...

2

Gambar 2 Karakteristik I-V FET ...

2

Gambar 3 Struktur

poly 3-hexylthiophene

...

2

Gambar 4 Struktur dua dimensi kristal silikon ...

3

Gambar 5 Struktur silikon tipe-p ...

3

Gambar 6 Struktur piranti FET ...

4

Gambar 7 Rangkaian pengujian arus-tegangan ...

5

Gambar 8 Skema pengujian respon dinamik piranti FET ...

5

Gambar 9 Lapisan SiO

2

di permukaan atas substrat silikon ...

5

Gambar 10 Spektrum EDX substrat silikon yang telah dioksidasi ...

5

Gambar 11 Karakteristik I-V FET ...

5

Gambar 12 Interaksi kimia antara gas amonia dengan P3HT...

6

Gambar 13 Hubungan arus

drain-source

terhadap tegangan

drain-source

dengan

berbagai konsentrasi gas amonia ...

7

Gambar 14 Hubungan arus

drain-source

terhadap konsentrasi gas amonia ...

7

Gambar 15 Respon dinamik pada V

g

= 0 V dan V

g

= -8 V...

8

Gambar 16 Hubungan tegangan stasioner terhadap konsentrasi gas amonia pada

V

g

= 0 V dan V

g

= -8 V ...

8

DAFTAR LAMPIRAN

Halaman

Lampiran 1 Diagram alir penelitian ... 10

Lampiran 2 Alat dan bahan yang digunakan ... 11

Lampiran 3 Karakterisasi I-V

field effect transistor

(FET) ... 12

Lampiran 4 Karakterisasi I-V FET dengan konsentrasi gas amonia

(pada Vg=-8 volt) ... 13

Lampiran 5.1 Respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi

gas amonia (Vg=0 volt) ... 15

Lampiran 5.2 Respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia

(Vg=-8 volt) ... 16

(9)

BAB I

PENDAHULUAN

1.1 Latar Belakang

Gas amonia yang berbau tidak sedap dan menyengat dapat membahayakan kesehatan manusia. Efek jangka pendek mengakibatkan iritasi terhadap saluran pernapasan, hidung, tenggorokan, dan mata. Kontak dengan mata dapat menimbulkan iritasi hingga kebutaan total. Kontak dengan kulit dapat menyebabkan luka bakar (frostbite). Efek jangka panjang (kronis) menghirup gas amonia dengan konsentrasi yang tinggi secara terus-menerus dapat mengakibatkan kerusakan pada paru-paru dan bahkan menyebabkan kematian.1 Sehubungan dengan bahaya yang ditimbulkan oleh gas amonia, maka diperlukan suatu sistem atau alat yang dapat digunakan untuk mendeteksi keberadaan gas amonia tersebut.2

Pendeteksian bahan-bahan kimia beracun di lingkungan akan lebih efektif jika menggunakan teknik sederhana dan alat yang mudah digunakan. Alat tersebut harus memiliki kemampuan memonitor lingkungan, seperti lingkungan kerja, pabrik dan rumah secara kontinyu, sehingga dapat melaporkan tingkat pencemaran setiap saat.3 Salah satu bentuk dari alat tersebut ialah berupa sensor. Sensor gas amonia bermacam-macam, salah satunya ialah menggunakan material polimer konduktif.

Penelitian terhadap pembuatan sensor gas berbasis polimer konduktif telah banyak dilakukan mulai dari awal tahun 1980. Polimer konduktif sering digunakan sebagai lapisan aktif sensor yang dapat mendeteksi keberadaan gas sekaligus dengan konsentrasinya. Sensor berbasis polimer konduktif memiliki banyak kelebihan dibandingkan dengan sensor komersial yang terbuat dari oksida logam. Sensor berbasis polimer konduktif memiliki sensitivitas yang tinggi, waktu respon yang singkat dan beroperasi pada suhu ruangan, sedangkan sensor berbasis oksida logam dioperasikan pada suhu yang tinggi.4 Tingginya suhu operasi yang dibutuhkan oleh sensor gas berbasis oksida logam menyebabkan pemakaian piranti ini menjadi tidak efisien, tidak portable, dan menghabiskan energi yang besar. Oleh karena itu dibutuhkan material lain yang tidak memerlukan suhu operasi yang tinggi. Polimer konduktif sebagai lapisan aktif pada sensor gas telah terbukti memiliki sensitivitas yang tinggi dalam mendeteksi gas, meskipun beroperasi pada suhu ruang.

Dalam beberapa tahun belakangan ini, piranti field effect transistor (FET) telah banyak diteliti untuk digunakan dalam beberapa aplikasi seperti light emitting field effect transistor, memory devices, smart cards,

dan sensor gas.5-8 Konfigurasi sensor berbentuk FET memiliki parameter pengukuran yang lebih banyak dibandingkan dengan chemiresistor, serta memiliki sensitivitas yang lebih baik.9

Dalam penelitian ini akan dikembangkan FET berbasis polimer konduktif poly 3-hexylthiophene (P3HT) untuk mendeteksi gas amonia. Lapisan polimer konduktif yang telah terbentuk dapat berinteraksi dengan gas amonia, sehingga besarnya konsentrasi gas amonia yang ikut bereaksi dapat diubah dalam bentuk besaran fisika.

1.2 Tujuan Penelitian

1. Menumbuhkan lapisan silikon dioksida (SiO2) sebagai lapisan dielektrik pada piranti field effect transistor (FET) berbasis polimer konduktif poly 3-hexylthiophene (P3HT).

2. Menguji sifat listrik dari field effect transistor (FET) berbasis polimer konduktif poly 3-hexylthiophene (P3HT). 3. Menguji respon piranti ketika bereaksi

dengan gas amonia.

1.3 Perumusan Masalah

1. Apakah polimer konduktif poly 3-hexylthiophene dapat berinteraksi dengan gas amonia?

2. Bagaimana membuat sensor gas amonia yang sederhana dengan sensitivitas tinggi?

1.4 Hipotesis

1. Semakin besar tegangan gate (Vg) yang diberikan maka arus drain source

(Id-s) yang dihasilkan akan semakin besar. 2. Arus drain source (Id-s) akan semakin

menurun seiring dengan penambahan konsentrasi gas amonia.

BAB II

TINJAUAN PUSTAKA

2.1 Transistor

Pada tahun 1951, William Schockley menemukan transistor sambungan pertama, komponen semikonduktor yang dapat menguatkan sinyal elektronik seperti sinyal radio dan televisi. Kumpulan transistor telah banyak menghasilkan rangkaian semikonduktor lain termasuk rangkaian terpadu (IC) yang merupakan suatu komponen

(10)

2

kecil yang mengandung ribuan transistor miniatur.10

Ada dua jenis transistor yaitu transistor sambungan bipolar (bipolar junction transistor, BJT) dan transistor efek medan (field effect transistor, FET), yang karakteristik kerja dan strukturnya berbeda. Transistor efek medan (FET) adalah piranti terkendali tegangan, yang berarti karakteristik keluaran dikendalikan oleh tegangan masukan.11

Konfigurasi FET biasanya dibuat dengan menggunakan teknik deposisi lapisan tipis seperti evaporation, sputtering, chemical vapor deposition, dan spin-coating. FET terdiri dari tiga terminal, dimana pengisian konduksi antara dua terminal source dan drain

dikendalikan oleh modulasi potensial listrik dari terminal ketiga yaitu gate. Struktur FET diilustrasikan pada Gambar 1.

Prinsip kerja dari FET yaitu dengan mengontrol distribusi pembawa muatan dalam semikonduktor dengan menggunakan medan listrik-dalam. Jika polimer organik yang digunakan tipe-p, dengan memberikan tegangan negatif pada elektroda gate akan menghasilkan akumulasi muatan positif pada lapisan aktif di sekitar permukaan dielektrik. Ketika muatan pembawa sudah cukup terakumulasi, konduktivitas daerah akumulasi muatan meningkat secara drastis, akibatnya akan meningkatkan arus antara drain dan

source.12

Gambar 1 Struktur FET.12

Gambar 2 Karakteristik I-V FET.12

2.2 Polimer Konduktif

Polimer konduktif adalah polimer organik yang dapat menghantarkan arus listrik. Bahan-bahan tersebut biasanya merupakan material semikonduktor dengan koduktivitas listrik seperti logam atau oksida logam. Polimer konduktif mempunyai bermacam-macam struktur dengan harga yang relatif murah, mudah dibuat, dan dapat diproses secara mekanik.13

Hampir 30 tahun yang lalu, polimer konduktif telah digunakan sebagai material pembuatan alat-alat elektronik. Konduktivitas listrik polimer dapat diubah-ubah mulai dari yang bersifat insulator sampai bersifat logam melalui reaksi kimia atau pendadahan secara elektrokimia. Konduktivitas listrik polimer berkaitan dengan keadaan redoks (tingkatan

doping) dan tingkatan doping ini dapat dimodulasi oleh interaksi antara polimer dengan bahan lain. Perubahan hambatan, arus, dan potensial kimia sebanding dengan respon polimer terhadap material yang saling berinteraksi.14

Polypirrole (Ppy), polyaniline (PANI),

polythiophene (PTh), dan turunannya merupakan sebagian kecil polimer konduktif yang dapat digunakan sebagai lapisan aktif sensor gas, hidrokarbon, dan polutan di dalam air. Sintesis polimer-polimer konduktif ini dapat dilakukan melalui reaksi oksidasi pada masing-masing monomernya.15

Polimer thiophene relatif stabil di udara bebas maupun di lingkungan air dan memiliki mobilitas hole yang tinggi. Polytiophene dapat dibuat dari monomer 3-metylthiophene secara klasik maupun elektrokimia. Polythiophene

merupakan salah satu polimer konduktif jenis aromatik heterocylic yang hampir mirip dengan pyrrole. Rumus kimianya adalah C4H4S, disini sulfur merupakan heteroatom sedangkan poly 3-hexylthiophene merupakan turunan dari polythiophene. Struktur poly 3-hexylthiophene ditunjukkan pada Gambar 3.

(11)

3

2.3 Silikon

Silikon merupakan salah satu unsur yang melimpah ruah di kerak bumi. Sebagian besar unsur bebas silikon tidak ditemukan di alam. Oleh karena itu, silikon dihasilkan dengan mereduksi kuarsa dan pasir dengan karbon yang berkualitas tinggi. Silikon untuk penggunaan bahan semikonduktor dimurnikan lebih lanjut dengan metode pelelehan berzona kristal czochralski. Kristal silikon ini memiliki kilap logam dan mengkristal dengan struktur intan.17

Struktur atom kristal silikon terdiri dari satu inti atom yang masing-masing terdiri dari 4 elektron valensi. Ikatan inti atom yang stabil adalah jika dikelilingi oleh 8 buah elektron (oktaf), sehingga 4 buah elektron atom kristal tersebut membentuk ikatan kovalen dengan ion-ion atom tetangganya (Gambar 4).

Silikon tipe-p dapat dibuat dengan menambahkan atom trivalen (Aluminium (Al), Boron (B), Galium (Ga) atau Indium (In)) pada silikon murni. Atom pengotor ini mempunyai tiga elektron valensi sehingga secara efektif hanya dapat membentuk tiga ikatan kovalen.18 Penambahan atom pengotor tersebut mengakibatkan timbulnya sejumlah ruang kosong yang dapat dimuati elektron, ruang ini disebut hole (Gambar 5). Hole yang terbentuk akan digunakan sebagai pembawa muatan serta dapat digerakan di dalam susunan atom-atom dengan menerapkan beda potensial pada bahan ini.19

Gambar 4 Struktur dua dimensi kristal silikon.17

Gambar 5 Struktur silikon tipe-p.19

2.4 Silikon Dioksida (SiO2)

Silikon dioksida (SiO2) atau biasa juga disebut silika pada umumnya ditemukan di alam dalam batu pasir, pasir SiO2 atau

quartzite. Zat ini merupakan material dasar pembuatan kaca dan keramik. SiO2 merupakan salah satu material oksida yang keberadaannya berlimpah di alam, khususnya di kulit bumi. SiO2 bisa dalam bentuk amorf dan kristalin. Terdapat tiga bentuk kristal SiO2, yaitu quartz (kuarsa), tridymite, dan cristobalite.20 Kuarsa merupakan SiO2 yang paling umum dan berlimpah dalam sebagian besar jenis batuan, khususnya granit, batu pasir, kuarsit, dan pasir.

Cristobalite dan tridymite ditemukan dalam batuan volkan. Sedangkan SiO2 non-kristal (amorf) ditemukan di alam sebagai biogenik

SiO2 dan SiO2 gelas yang berasal dari abu

volkan.21

SiO2 digunakan sebagai gate dielektrik karena bentuk amorf yang sesuai untuk insulator yang mempunyai daya tahan terhadap medan listrik yang tinggi (sekitar 10 MV/cm), kesetabilan terhadap panas, dan lebih lagi karena kualitas interlayer Si/SiO2 ini penting karena merupakan bagian utama chanel untuk perlintasan carrier (baik hole atau electron).17

BAB III

METODOLOGI PENELITIAN

3.1 Waktu dan Tempat Penelitian

Penelitian ini dilakukan dari bulan Februari 2012 sampai dengan bulan Januari 2013 di Laboratorium Biofisika Material, Laboratorium Fisika Material, dan Laboratorium Biofisika Membran, Departemen Fisika IPB.

3.2 Alat dan Bahan Penelitian

Alat yang digunakan dalam penelitian ini adalah gelas piala, gelas ukur, kaca preparat, kaca silinder, alumunium foil, penggaris, pipet

volumetric, sarung tangan, maskar, pipet tetes, pemotong kaca, neraca analitik, syringe, chamber, ultrasonic bath, hotplate, furnace,

spin coater, I-V meter Khetley 2400, dan PASCO Science Workshop 750. Bahan-bahan yang digunakan dalam penelitian adalah

silicon wafer, gas oksigen, poly 3-hexylthiophene, chloroform, aquades, dry water, H2O2, H2SO4,aseton, dan gas amonia.

3.3 Prosedur Penelitian

3.3.1 Penumbuhan lapisan SiO2 di

permukaan atas substrat silikon

Lapisan SiO2 ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon dengan metode thermal. hole

(12)

4

Seluruh sampel disiapkan menggunakan substrat silikon tipe-p. Prosedur pembersihan silikon adalah sebagai berikut : Mula-mula silikon dicuci dengan aseton dalam ultrasonic bath selama 30 menit, proses ini bertujuan untuk menghilangkan kotoran organik soluble

yang menempel pada silikon. Selanjutnya silikon direndam dalam asam

peroxymonosulphuric selama 15 menit, perlakuan ini bertujuan untuk melepaskan kotoran organik insoluble pada silikon. Kemudian silikon dibilas dengan dry water. Setelah itu dilakukan proses pemanasan dengan furnace selama 3 jam pada suhu 1000oC. Gas oksigen dialirkan ke dalam

furnace selama proses pemansan.

3.3.2 Karakterisasi EDX (energi dispersif sinar-X)

Karakterisasi EDX dilakukan untuk memastikan SiO2 telah tumbuh pada substrat silikon yang telah dioksidasi. Informasi yang diperoleh dari pengujian komposisi dengan menggunakan EDX adalah spektrum energi sinar-X dan intensitas. Jenis atom-atom atau unsur-unsur yang terkandung dalam sampel dapat diketahui dari spektrum energi sinar-X. Persentase unsur-unsur yang terkandung dalam sampel dapat diketahui dari tingginya intensitas.

3.3.3 Penumbuhan lapisan aktif poly

3-hexylthiophene

Lapisan aktif poly 3-hexylthiophene

(P3HT) ditumbuhkan di permukaan atas SiO2 dengan metode spin coating. Sebanyak 2 mg P3HT dilarutkan ke dalam 4 ml chloroform, proses pelarutan dilakukan dengan menggunakan hotplate dan pengaduk magnetik dengan laju putaran400 rpm selama 10 menit. Larutan yang dihasilkan diteteskan di permukaan atas SiO2, kemudian diputar dengan laju sekitar 1000 rpm menggunakan

spin coater. Selanjutnya dilakukan proses pemanasan dengan hotplate pada suhu 80oC selama 1 jam.

3.3.4 Pembuatan kontak

Pembuatan kontak dilakukan di Laboratorium MOCVD Institut Teknologi Bandung. Pembuatan kontak dilakukan dengan metode evaporation pada tekanan 10-5 barr. Coating alumunium ditumbuhkan di permukaan atas lapisan polimer konduktif sebagai elektroda source dan elektroda drain. Sedangkan elektroda gate, ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon.

3.3.5 Karakterisasi arus-tegangan

Karakterisasi arus-tegangan (I-V) dilakukan dengan menggunakan alat Khetley 2400 source meter dan power supply.

Pengukuran dilakukan dengan

menghubungkan elektroda negatif dari power supply pada elektroda gate dan elektroda negatif dari I-V meter dihubungkan pada elektroda drain. Sedangkan elektroda positif dari power supply maupun I-V meter dihubungkan pada elektroda source.

3.3.6 Pengujian respon piranti ketika bereaksi dengan gas amonia

Pengujian dilakukan di dalam test chamber, selanjutnya diberikan tegangan konstan pada elektroda gate (Vg). Variasi tegangan diberikan pada elektoda drain (Vd), kemudian arus drain (Id) diukur. Pengukuran ini dilakukan dengan memberikan gas amonia ke dalam chamber dengan konsentrasi gas yang berbeda-beda. Arus yang dihasilkan akan berubah ketika piranti berinteraksi dengan molekul gas. Besarnya perubahan arus bergantung pada konsentrasi molekul gas.

Selanjutnya dilakukan pengujian respon dinamik piranti terhadap gas amonia. Pengujian respon dinamik dilakukan dengan menggunakan PASCO Science Workshop 750. Piranti dimasukkan ke dalam test chamber,

selanjutnya piranti dirangkai seri dengan resistor. Rangkaian tersebut dihubungkan dengan baterai 9 volt sebagai sumber tegangan, dan dihubungkan dengan alat PASCO science workshop 750.

(13)

5

Gambar 7 Rangkaian pengujian arus-tegangan.

Gambar 8 Skema pengujian respon dinamik piranti FET .

BAB IV

HASIL DAN PEMBAHASAN

4.1 Pembuatan dan Karakterisasi Lapisan SiO2

Lapisan silikon dioksida (SiO2) sebagai lapisan dielektrik pada piranti FET telah ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon dengan metode thermal, dengan perlakuan substrat silikon dipanaskan dengan

furnace pada suhu 1000oC selama 3 jam. Kemudian gas oksigen (O2) dialirkan ke dalam

furnace selama proses pemanasan berlangsung yang bertujuan agar gas oksigen berikatan dengan silikon sehingga membentuk lapisan SiO2. Lapisan SiO2 yang dihasilkan dapat dilihat pada Gambar 9, tampak terdapat perbedaan warna antara substrat silikon dan lapisan SiO2. Warna lapisan SiO2 yang dihasilkan adalah kuning keemasan, sedangkan warna substrat silikon adalah perak.

Gambar 9 Lapisan SiO2 di permukaan atas substrat silikon.

Gambar 10 Spektrum EDX substrat silikon yang telah dioksidasi.

Gambar 10 menunjukkan spektrum EDX substrat silikon yang telah dioksidasi. Karakteristik EDX dilakukan di Pusat Penelitian Geologi Kelautan (PPGL) Bandung. Karakterisasi EDX digunakan untuk mengetahui persentase unsur oksigen (O2) yang ada dalam substrat silikon. Hasil karakterisasi EDX menunjukkan bahwa dalam sampel terdapat kandungan unsur O2 sekitar 35% dan unsur silikon sekitar 65%. Berdasarkan hasil karakterisasi EDX lapisan SiO2 telah berhasil ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon.

4.2 Karakterisasi I-V FET

Karakterisasi I-V dilakukan dengan menggunakan alat Khetley 2400 source meter

(I-V meter). Elektroda drain dan source

dihubungkan pada I-V meter, elektroda gate

dihubungkan pada power supply. Tegangan

drain yang digunakan bervariasi dari 0 sampai -10 volt dan tegangan pada elektroda gate

divariasikan dari 0 sampai -8 volt. Karakterisasi I-V field effect transistor (FET) dapat dilihat dari kurva arus drain-source (Id-s) terhadap tegangan drain-source (Vd-s) dengan memberikan variasi tegangan gate (Vg).

Gambar 11 Karakteristik I-V FET.

-250 -200 -150 -100 -50 0 - 1 0 - 8 - 6 - 4 - 2 0 Id-s ( µ A ) Vd-s (V) Vg= 0 volt Vg= -2 volt Vg= -4 volt Vg= -6 volt Vg= -8 volt

(14)

6

Hasil karakterisasi I-V FET ditunjukkan pada Gambar 11, pada saat tegangan gate

diberikan, arus drain-source akan mengalami perubahan. Semakin besar tegangan gate yang diberikan maka arus drain-source yang dihasilkan akan semakin besar. Hal ini dikarenakan lapisan aktif atau polimer yang digunakan merupakan polimer tipe-p, sehingga ketika diberikan tegangan negatif pada elektroda gate terjadi akumulasi muatan positif pada lapisan aktif di sekitar permukaan dielektrik.12 Akumulasi muatan inilah yang menyebabkan arus drain-source meningkat.

4.3 Interaksi Kimia Antara Gas Amonia dengan P3HT

Mekanisme interaksi kimia antara gas amonia dengan P3HT menyebabkan dedoping

pada konsentrasi yang lebih rendah. Pengaruh

dedoping NH3 pada P3HT dijelaskan dalam proses pemurnian P3HT disintesis. Dalam kondisi normal (tanpa paparan NH3) piranti berperilaku sebagai p-channel dengan hole

sebagai pembawa muatan mayoritas. Kenaikkan nilai resistansi P3HT ketika berinteraksi dengan gas amonia terjadi karena pembawa muatan (hole) dari P3HT semakin berkurang, yang mengakibatkan penurunan arus yang mengalir pada P3HT.22

Gambar 12 Interaksi kimia antara gas amonia dengan P3HT.22

4.4 Pengaruh Konsentrasi Gas Amonia terhadap Karakterisasi I-V FET

Pengujian dilakukan dengan memasukkan piranti FET ke dalam test chamber kemudian diberikan tegangan konstan pada elektroda

gate sebesar -8 volt dengan menggunakan

power supply. Piranti FET dihubungkan dengan I-V meter yang sudah terhubung pada

personal computer (PC) dengan menggunakan sebuah interface. Mula-mula I-V meter dijalankan pada kondisi tanpa gas amonia, kemudian diberi gas amonia dengan menggunakan syringe ke dalam chamber I-V meter kembali dijalankan. Setelah itu dilakukan penambahan konsentrasi gas amonia ke dalam chamber yang konsentrasinya sama dengan konsentrasi yang pertama sehingga konsentrasi gas amonia dalam chamber

menjadi 2 kali konsentrasi gas amonia awal dan I-V meter kembali dijalankan. Selanjutnya dilakukan penambahan konsentrasi gas amonia yang sama seperti penambahan yang kedua sehingga konsentrasi gas amonia pada

chamber menjadi 3 kali konsentrasi gas amonia awal, sehingga diperoleh kurva pengaruh konsentrasi gas amonia terhadap karakterisasi I-V FET.

Gambar 13 hubungan arus drain-source

terhadap tegangan drain-source dengan berbagai konsentrasi gas amonia. Ketika diberi gas amonia, arus drain-source mengalami perubahan. Kurva karakteristik I-V menunjukkan bahwa nilai arus drain-source yang dihasilkan semakin menurun seiring dengan penambahan konsentrasi gas amonia. Penurunan nilai arus drain-source

pada tegangan gate konstan (Vg = -8 volt) disebabkan oleh adanya kenaikkan resistansi pada lapisan aktif P3HT.22 Pada Gambar 13, kurva berwarna biru menunjukkan kondisi tanpa ada gas amonia. Kurva berwarna merah menunjukkan kondisi ketika diberi gas amonia dengan konsentrasi 1,887%. Kurva warna hijau menunjukkan kondisi ketika diberi gas amonia dengan konsentrasi 3,774%. Sedangkan pada kurva berwarna ungu menunjukkan kondisi ketika diberi gas amonia dengan konsentrasi 5,660%.

(15)

7

Gambar13 Hubungan arus drain-source terhadap tegangan drain-source dengan berbagai konsentrasi gas amonia.

Gambar 14 Hubungan arus drain-source terhadap

konsentrasi gas amonia.

Gambar 14 memperlihatkan arus drain-source terhadap konsentrasi gas amonia pada tegangan drain-source sebesar -10 volt dengan tegangan gate konstan sebesar -8 volt, yang diperoleh dari kurva hubungan arus drain-source terhadap tegangan drain-source dengan berbagai konsentrasi gas amonia (Gambar 13). Dari data yang diperoleh dapat dilihat bahwa kurva linier pada gas amonia dengan konsentrasi dari 0-3,774%. Kondisi ini menunjukkan bahwa daerah kerja piranti FET yang efektif berada pada rentang konsentrasi 0% sampai 3,774%.

4.5 Respon Dinamik Piranti FET

terhadap Konsentrasi Gas Amonia

Pengujian dilakukan dengan memasukkan piranti FET ke dalam test chamber kemudian diberikan tegangan dengan menggunakan baterai 9 volt. Elektroda gate dihubungkan pada power supply. Piranti FET dihubungkan dengan sensor tegangan yang sudah

dihubungkan pada personal computer (PC) dengan menggunakan sebuah interface. Pengujian dilakukan pada 2 kondisi yaitu pada kondisi tidak diberikan tegangan gate (Vg = 0 volt) dan pada kondisi diberi tegangan gate (Vg = -8 volt). Mula-mula sensor dijalankan pada kondisi tanpa gas amonia, kemudian diberi gas amonia dengan menggunakan syringe ke dalam chamber dan ditahan beberapa saat. Tegangan naik hingga ke keadaan stasioner, hal ini disebabkan oleh adanya kenaikkan resistansi pada lapisan aktif P3HT.22 Setelah itu dilakukan penambahan konsentrasi gas amonia ke dalam chamber yang konsentrasinya sama dengan konsentrasi yang pertama sehingga konsentrasi gas amonia dalam chamber menjadi 2 kali konsentrasi gas amonia awal dan ditahan beberapa saat. Tegangan kembali naik hingga ke keadaan stasioner. Selanjutnya dilakukan penambahan yang sama seperti penambahan yang kedua sehingga konsentrasi gas amonia pada

chamber menjadi 3 kali konsentrasi gas amonia awal dan ditahan beberapa saat. Tegangan kembali naik hingga ke keadaan stasioner. Kemudian tutup chamber dibuka sehingga gas amonia yang ada dalam chamber

keluar dan konsentrasi gas amonia dalam

chamber semakin berkurang, yang mengakibatkan tegangan turun kembali ke keadaan semula, sehingga diperoleh kurva respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia.

Gambar 15 menunjukkan respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia. Ketika diberi gas amonia dengan konsentrasi 1,887% dan ditahan beberapa saat, tegangan naik sampai ke keadaan stasioner. Pada penambahan gas amonia sehingga konsentrasinya menjadi 3,774% dan ditahan beberapa saat, juga terjadi kenaikkan tegangan hingga ke keadaan stasioer. Begitu juga pada penambahan konsentrasi gas amonia dengan konsentrasi menjadi 5,660%. Ketika chamber

dibuka gas amonia keluar dari chamber

tersebut, sehingga konsentrasi gas amonia di dalam chamber semakin berkurang, yang mengakibatkan tegangan kembali turun ke keadaan semula. Berdasarkan kurva respon dinamik (Gambar 15), terlihat bahwa variasi tegangan gate (Vg) yang diberikan mempengaruhi tegangan keluaran. Semakin besar tegangan gate yang diberikan, maka tegangan keluaran yang dihasilkan semakin kuat. -150 -130 -110 -90 -70 -50 -30 -10 - 1 0 - 8 - 6 - 4 - 2 0 -120 -100 -80 -60 -40 -20 0 0 1 2 3 4 5 6 Id-s ( µ A ) Vd-s (V) 0 % gas amonia 1,887 % gas amonia 3,774 % gas amonia 5,660 % gas amonia Vg= -8 volt Id-s ( µ A ) Konsentrasi (%) Vg= -8 volt Vd-s= -10 volt

(16)

8

Gambar 15 Respon dinamik pada Vg = 0 V dan Vg = -8 V.

Berdasarkan kurva respon dinamik tersebut, tampak tiga nilai tegangan stasioner yang meningkat seiring kenaikkan konsentrasi gas amonia. Dari data tersebut dibuat kurva tegangan stasioner terhadap konsentrasi gas amonia. Kemudian dapat ditentukan nilai sensitivitas piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia yang diperoleh dari perbandingan perubahan tegangan keluaran dengan konsentrasi gas amonia.

Gambar 16 menunjukkan kurva hubungan tegangan stasioner terhadap konsentrasi gas amonia. Berdasarkan kurva tersebut didapat nilai sensitivitas berbanding lurus dengan tegangan gate yang diberikan. Semakin besar tegangan gate yang diberikan maka sensitivitas dari piranti FET semakin tinggi. Pada saat diberi Vg = -8 volt, setiap perubahan konsentrasi 1% maka akan terjadi kenaikkan tegangan sebesar 0,264 volt. Sedangkan ketika Vg = 0 volt, setiap perubahan konsentrasi sebesar 1% maka terjadi kenaikkan tegangan sebesar 0,236 volt.

Gambar 16 Hubungan tegangan stasioner terhadap konsentrasi gas amonia pada Vg = 0 V dan Vg = -8 V.

BAB V

KESIMPULAN DAN SARAN

5.1 Kesimpulan

Lapisan dielektrik SiO2 telah berhasil ditumbuhkan di permukaan atas substrat silikon dengan menggunakan metode thermal. Hal ini dapat dilihat dari hasil karakterisasi menggunakan EDX, tampak dalam substrat silikon yang telah dioksidasi terdapat kandungan unsur O2 sekitar 35% dan unsur silikon sekitar 65%.

Piranti FET dibuat dengan cara menumbuhkan lapisan aktif poly 3-hexylthiophene di permukaan atas lapisan SiO2 dengan metode spin coating. Kurva karakteristik I-V menunjukkan arus drain-source (Id-s) yang diperoleh dipengaruhi oleh perubahan tegangan gate (Vg). Semakin besar Vg yang diberikan maka Id-s yang dihasilkan semakin meningkat.

Respon piranti terhadap gas amonia dapat dilihat dari pengaruh gas amonia terhadap kurva karakteristik I-V FET dan respon dinamik piranti terhadap gas konsentrasi gas amonia. Pengaruh gas amonia terhadap kurva karakteristik I-V menunjukkan bahwa Id-s yang dihasilkan semakin menurun seiring dengan penambahan konsentrasi gas amonia. Berdasarkan hasil respon dinamik piranti FET terhadap gas amonia memperlihatkan bahwa semakin besar Vg yang diberikan maka sensitivitas piranti semakin tinggi. Pada saat diberi Vg = -8 volt, setiap perubahan konsentrasi 1% maka akan terjadi kenaikkan tegangan sebesar 0,264 volt. Sedangkan ketika Vg = 0 volt, setiap perubahan konsentrasi sebesar 1% maka terjadi kenaikkan tegangan sebesar 0,236 volt

5.2 Saran

Penelitian ini dapat dikembangkan lebih lanjut dengan menyediakan chamber test yang dilengkapi keran pembuangan sehingga gas amonia dapat dikeluarkan dengan mudah dan menggunakan ruang vakum yang khusus untuk penumbuhan lapisan aktif agar tidak terkontaminasi.

DAFTAR PUSTAKA

1 Christopel, D. P. 2009. Pembuatan dan karakterisasi sensor gas amonia berbasis polianilin [skripsi]. Bogor : Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Institut Pertanian Bogor.

2 Muliadi, L. O. 2006. Pembuatan sensor fiber optik dengan cladding polianilin untuk mengukur gas amonia [skripsi].

0 1 2 3 4 5 6 0 20 40 60 80 100 120 140 2 3 4 5 6 0 1 2 3 4 5 6 waktu (S) Vg= 0 volt Vg= -8 volt 1,887 % 1,887% 3,774 % 5,660 % 3,774 % 5,660% NH3 Te g an g an ( V ) Vg= 0 volt Vg= -8 volt Te g an g an ( V ) Konsentrasi (%) V = 0,264x + 3,668 V = 0,236x + 3,462

(17)

9

Bogor : Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Institut Pertanian Bogor.

3 Flueckiger, J., Frank, K., Karen, C. Cheung. 2009. Microfabricated formaldehyde gas sensors. Sensors, 9, 9196-9215.

4 Bai, H., Gaoquan, Shi. 2007. Gas sensors based on conducting polymers. Sensors,

7, 267-307.

5 Ahn, T. et al. 2008. Hybridization of a low temperature processeble polymide gate insulator for high ferformence pentacene thin film transistor. Electron, 9, 711-720.

6 Facchetti, A., Yoon, M. H., Marks, T. J. 2005. Gate dielectrics for organic field-effect-transistor: new opportunities for elektronics. Mater, 17, 1705.

7 Sirringhaus, H. 2005. Device physics of solution-processed organic field-effect-transistior. Mater, 17, 20, 2411-2425. 8 Forrest, S. R. 2004. The path to

ubiquitous and low-cost organic elelctronics appliences on plastic. Nature, 428, 911-918.

9 Janata, J., Mira, J. 2003. Conducting polymer in electronic chemical sensor.

Nature Materials Vol 2.

10 Malvino, A. P. 2003. Prinsip-Prinsip

Elektronika. Jakarta: Salemba Teknika.

11 Widodo, T. S. 2002. Elektronika Dasar.

Jakarta: Salemba Teknika.

12 Chang, J. B. 2006. Functionalized polytiophene thin-film transistor for low-cast gas sensor array [desertasi]. California : Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California at Berkley.

13 Wati, I. A. 2010. Pembuatan sensor gas berbahan polimer konduktif lapisan rangkap poliperol, politiofena dan poli 3-metiltiofena untuk uji minyak tanah, bensin dan biosolar [skripsi]. Surabaya : Departemen Kimia, Institut Teknologi Sepuluh November.

14 Laranjeira, J. M. G. et al. 2002. A silicon-polymer heterostructure for sensor applications. Brazilian Journal of Physics, vol. 32, no. 1.

15 Soloducho, J., Joanna, C., Agnieszka, S. 2009. Structure and sensor properties of thin ordered solid films. Sensors, 9, 7733-7752.

16 Yani, S. 2011. efek fotovoltaik pada persambungan CdS/P3HT-Kitosan

[tesis]. Bogor : Fakultas Matematika dan

Ilmu Pengetahuan Alam, Institut Pertanian Bogor.

17 Pratama, E. 2008. Studi efek fotovoltaik dan piroelektrik Ba0,75Sr0,25TIO3 (BST) yang didadah galium (BGST) di atas substrat Si (100) tipe-p [skripsi]. Bogor : Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Institut Pertanian Bogor.

18 Soga, T. 2006. Nanostructred Materials

for Solar Energy Conversion.

Amsterdam: Elsevier BV.

19 [Anonim]. “Silikon tipe-p”. 2012. Web. 12 Januari 2012. <http://teknik-elektro.net/silikon-tipe-p.html>

20 Hadiyawarman, et al. 2008. Fabrikasi nanomaterial komposit superkuat, ringan, dan transparan menggunakan metode simple mixing. Nano sainstek 1 : 14-21. 21 Sardi, I. 2006. Identifikasi silika amorf

dari sekam padi [skripsi]. Bogor: Fakultas Pertanian, Institut Pertanian Bogor.

22 Tiwari, S., at al. 2012. Poly-3-hexylthiophene based on organic field-effect-transistor: Detection of low concentration of ammonia. Sensor and Actuators B.

(18)
(19)

10

Lampiran 1 Diagram alir penelitian

Metalisasi

Pembuatan lapisan SiO

2

Penumbuhan lapisan P3HT

Pengujian piranti FET

terhadap gas amonia

Persiapan alat dan bahan

Pengolahan dan analisis data

Karakterisasi I-V

Penulisan laporan

TIDAK

YA

Mulai

Karakterisasi EDX

Selesai

(20)

11

Lampiran 2 Alat dan bahan yang digunakan

(a)

(b)

(c)

(d)

(e)

(f)

(g)

(h)

(i)

(a)

Silikon

(f)

Tabung berisi gas oksigen

(b)

Poly 3-hexylthiophene

(g)

Furnace

(c)

Neraca analitik

(h)

Ultrasonic bath

(d)

Chloroform

(i)

Spin coater

(21)

12

Lampiran 3 Karakterisasi I-V

field effect transistor

(FET)

Vg = 0 volt

Vg = -2 volt

Vg = -4 volt

Vg = -6 volt

Vg = -8 volt

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

-1,00E+01

-1,75E+02

-1,00E+01

-1,80E+02

-1,00E+01

-1,96E+02

-1,00E+01

-1,97E+02

-1,00E+01

-1,99E+02

-8,95E+00

-1,59E+02

-8,95E+00

-1,77E+02

-8,95E+00

-1,86E+02

-8,95E+00

-1,82E+02

-8,95E+00

-1,88E+02

-7,90E+00

-1,38E+02

-7,90E+00

-1,48E+02

-7,90E+00

-1,55E+02

-7,90E+00

-1,50E+02

-7,90E+00

-1,55E+02

-6,84E+00

-1,11E+02

-6,84E+00

-1,19E+02

-6,84E+00

-1,25E+02

-6,84E+00

-1,21E+02

-6,84E+00

-1,24E+02

-5,79E+00

-8,58E+01

-5,79E+00

-9,34E+01

-5,79E+00

-9,70E+01

-5,79E+00

-9,43E+01

-5,79E+00

-9,62E+01

-4,74E+00

-6,65E+01

-4,74E+00

-6,89E+01

-4,74E+00

-7,14E+01

-4,74E+00

-6,97E+01

-4,74E+00

-7,07E+01

-3,69E+00

-4,59E+01

-3,69E+00

-4,75E+01

-3,69E+00

-4,96E+01

-3,69E+00

-4,88E+01

-3,69E+00

-4,98E+01

-2,63E+00

-2,93E+01

-2,63E+00

-3,02E+01

-2,63E+00

-3,16E+01

-2,63E+00

-3,10E+01

-2,63E+00

-3,16E+01

-1,58E+00

-1,57E+01

-1,58E+00

-1,56E+01

-1,58E+00

-1,74E+01

-1,58E+00

-1,67E+01

-1,58E+00

-1,68E+01

-5,29E-01

-4,14E+00

-5,29E-01

-4,11E+00

-5,29E-01

-5,00E+00

-5,29E-01

-4,54E+00

-5,27E-01

-4,48E+00

(22)

13

Lampiran 4 Karakterisasi I-V FET dengan konsentrasi gas amonia (pada Vg=-8 volt)

0% Gas Amonia

1,887% Gas Amonia

3,774% Gas Amonia

5,660% Gas Amonia

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

-5,87E-03

-3,26E-01

3,82E-03

-4,27E-02

-1,07E-03

6,15E-01

4,58E-03

6,44E-01

-5,24E-01

-6,40E-01

-5,10E-01

-3,09E-01

-5,13E-01

4,00E-01

-5,09E-01

4,37E-01

-1,03E+00

-2,15E+00

-7,64E-01

-1,05E+00

-1,03E+00

-7,30E-01

-1,03E+00

-8,91E-02

-1,54E+00

-3,08E+00

-1,54E+00

-1,58E+00

-1,54E+00

-1,42E+00

-1,54E+00

-4,00E-01

-2,05E+00

-4,59E+00

-2,05E+00

-3,33E+00

-2,05E+00

-1,21E+00

-2,05E+00

-8,96E-01

-2,57E+00

-1,48E+01

-2,57E+00

-4,56E+00

-2,57E+00

-2,07E+00

-2,56E+00

-2,23E+00

-3,08E+00

-1,93E+01

-3,08E+00

-1,26E+01

-3,08E+00

-2,99E+00

-3,08E+00

-2,63E+00

-3,59E+00

-2,25E+01

-3,59E+00

-1,50E+01

-3,59E+00

-4,22E+00

-3,59E+00

-3,08E+00

-4,10E+00

-2,68E+01

-4,11E+00

-1,74E+01

-4,10E+00

-5,83E+00

-4,10E+00

-3,43E+00

-4,62E+00

-3,33E+01

-4,62E+00

-2,06E+01

-4,62E+00

-7,60E+00

-4,62E+00

-5,07E+00

-5,13E+00

-3,85E+01

-5,13E+00

-2,40E+01

-5,13E+00

-8,99E+00

-5,12E+00

-5,84E+00

-5,64E+00

-4,49E+01

-5,64E+00

-2,67E+01

-5,64E+00

-1,19E+01

-5,64E+00

-6,16E+00

-6,16E+00

-5,19E+01

-6,16E+00

-2,98E+01

-6,16E+00

-1,29E+01

-6,16E+00

-7,36E+00

-6,67E+00

-5,85E+01

-6,67E+00

-3,29E+01

-6,67E+00

-1,39E+01

-6,67E+00

-9,21E+00

-7,18E+00

-6,43E+01

-7,18E+00

-3,65E+01

-7,18E+00

-1,53E+01

-7,19E+00

-1,02E+01

-7,69E+00

-7,04E+01

-7,69E+00

-3,97E+01

-7,69E+00

-1,67E+01

-7,69E+00

-1,08E+01

-8,21E+00

-7,75E+01

-8,21E+00

-4,36E+01

-8,21E+00

-1,79E+01

-8,21E+00

-1,23E+01

-8,72E+00

-8,47E+01

-8,72E+00

-4,72E+01

-8,72E+00

-1,88E+01

-8,72E+00

-1,28E+01

-9,23E+00

-9,03E+01

-9,23E+00

-5,14E+01

-9,23E+00

-2,09E+01

-9,23E+00

-1,37E+01

-9,75E+00

-9,81E+01

-9,75E+00

-5,45E+01

-9,75E+00

-2,25E+01

-9,75E+00

-1,49E+01

-1,03E+01

-1,05E+02

-1,03E+01

-5,81E+01

-1,03E+01

-2,35E+01

-1,03E+01

-1,62E+01

-1,08E+01

-1,13E+02

-1,08E+01

-6,21E+01

-1,08E+01

-2,50E+01

-1,08E+01

-1,70E+01

(23)

14

Lanjutan lampiran 4 Karakterisasi I-V FET dengan konsentrasi gas amonia (pada Vg=-8 volt)

0% Gas Amonia

1,887% Gas Amonia

3,774% Gas Amonia

5,660% Gas Amonia

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

Voltage

_1(1)

(V)

Current

_1(1)

(µA)

-1,13E+01

-1,20E+02

-1,13E+01

-6,58E+01

-1,13E+01

-2,73E+01

-1,13E+01

-1,77E+01

-1,18E+01

-1,27E+02

-1,18E+01

-6,93E+01

-1,18E+01

-2,83E+01

-1,18E+01

-1,90E+01

-1,23E+01

-1,34E+02

-1,23E+01

-7,33E+01

-1,23E+01

-2,98E+01

-1,23E+01

-1,98E+01

-1,28E+01

-1,42E+02

-1,28E+01

-7,71E+01

-1,28E+01

-3,08E+01

-1,28E+01

-2,08E+01

-1,33E+01

-1,53E+02

-1,33E+01

-8,08E+01

-1,33E+01

-3,36E+01

-1,33E+01

-2,13E+01

-1,38E+01

-1,59E+02

-1,38E+01

-8,46E+01

-1,38E+01

-3,45E+01

-1,38E+01

-2,33E+01

-1,44E+01

-1,62E+02

-1,44E+01

-9,28E+01

-1,44E+01

-3,58E+01

-1,44E+01

-2,42E+01

-1,49E+01

-1,71E+02

-1,49E+01

-9,30E+01

-1,49E+01

-3,95E+01

-1,49E+01

-2,57E+01

-1,54E+01

-1,78E+02

-1,53E+01

-9,69E+01

-1,54E+01

-4,26E+01

-1,54E+01

-2,71E+01

-1,59E+01

-1,85E+02

-1,59E+01

-9,99E+01

-1,59E+01

-4,13E+01

-1,59E+01

-4,35E+01

-1,64E+01

-1,93E+02

-1,64E+01

-1,05E+02

-1,64E+01

-4,27E+01

-1,64E+01

-4,64E+01

-1,69E+01

-2,27E+02

-1,69E+01

-1,17E+02

-1,69E+01

-4,37E+01

-1,69E+01

-4,87E+01

-1,74E+01

-2,10E+02

-1,74E+01

-1,13E+02

-1,74E+01

-4,58E+01

-1,74E+01

-4,98E+01

-1,80E+01

-2,42E+02

-1,79E+01

-1,16E+02

-1,80E+01

-5,10E+01

-1,80E+01

-5,27E+01

-1,85E+01

-2,34E+02

-1,85E+01

-1,20E+02

-1,85E+01

-4,92E+01

-1,85E+01

-5,50E+01

-1,90E+01

-2,34E+02

-1,90E+01

-1,25E+02

-1,90E+01

-5,13E+01

-1,90E+01

-5,82E+01

-1,95E+01

-2,63E+02

-1,95E+01

-1,29E+02

-1,95E+01

-5,24E+01

-1,95E+01

-6,00E+01

-2,00E+01

-2,80E+02

-2,00E+01

-1,33E+02

-2,00E+01

-5,88E+01

-2,00E+01

-5,75E+01

(24)

15

Lampiran 5.1 Respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia

(Vg=0 volt)

Voltage, ChA,

Run

#1

Voltage, ChA,

Run

#1

Voltage, ChA,

Run

#1

Voltage, ChA,

Run

#1

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

0

2,697

31

2,748

62

4,399

93

3,48

1

2,703

32

2,795

63

4,43

94

3,433

2

2,705

33

2,805

64

4,441

95

3,41

3

2,668

34

2,923

65

4,397

96

3,368

4

2,672

35

3,078

66

4,375

97

3,286

5

2,665

36

3,244

67

4,415

98

3,207

6

2,661

37

3,396

68

4,434

99

3,113

7

2,667

38

3,528

69

4,447

100

3,04

8

2,678

39

3,634

70

4,394

101

2,983

9

2,671

40

3,739

71

4,439

102

2,932

10

2,691

41

3,775

72

4,456

103

2,875

11

2,694

42

3,822

73

4,527

104

2,872

12

2,697

43

3,858

74

4,605

105

2,821

13

2,698

44

3,894

75

4,674

106

2,77

14

2,719

45

3,919

76

4,698

107

2,672

15

2,708

46

3,936

77

4,693

108

2,634

16

2,677

47

3,95

78

4,701

109

2,592

17

2,684

48

3,954

79

4,744

110

2,57

18

2,675

49

3,964

80

4,78

111

2,588

19

2,67

50

3,964

81

4,807

112

2,525

20

2,683

51

3,967

82

4,782

113

2,471

21

2,674

52

3,96

83

4,751

114

2,437

22

2,684

53

3,966

84

4,746

115

2,467

23

2,709

54

4,033

85

4,787

116

2,445

24

2,702

55

4,117

86

4,806

117

2,467

25

2,708

56

4,233

87

4,816

118

2,469

26

2,708

57

4,292

88

4,396

119

2,482

27

2,711

58

4,327

89

4,003

120

2,471

28

2,692

59

4,318

90

3,815

121

2,475

29

2,708

60

4,334

91

3,682

30

2,723

61

4,373

92

3,645

(25)

16

Lampiran 5.2 Respon dinamik piranti FET terhadap konsentrasi gas amonia

(Vg=-8 volt)

Voltage, ChA,

Run

#2

Voltage, ChA,

Run

#2

Voltage, ChA,

Run

#2

Voltage, ChA,

Run

#2

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

Time

( S )

Voltage

( V )

0

2,703

30

3,733

60

4,774

90

3,094

1

2,694

31

3,844

61

4,841

91

3,033

2

2,696

32

3,953

62

4,912

92

2,938

3

2,714

33

4,017

63

4,968

93

2,899

4

2,684

34

4,118

64

5,079

94

2,725

5

2,698

35

4,109

65

5,086

95

2,741

6

2,701

36

4,124

66

5,04

96

2,681

7

2,702

37

4,141

67

5,111

97

2,716

8

2,687

38

4,132

68

5,116

98

2,742

9

2,687

39

4,142

69

5,085

99

2,687

10

2,681

40

4,183

70

5,08

100

2,751

11

2,691

41

4,191

71

5,09

101

2,749

12

2,708

42

4,16

72

5,086

102

2,762

13

2,665

43

4,238

73

5,138

103

2,779

14

2,706

44

4,343

74

5,072

104

2,811

15

2,708

45

4,447

75

5,111

105

2,858

16

2,704

46

4,52

76

5,112

106

2,778

17

2,712

47

4,617

77

5,076

107

2,691

18

2,707

48

4,692

78

4,681

108

2,687

19

2,712

49

4,723

79

4,273

109

2,745

20

2,702

50

4,709

80

4,033

110

2,786

21

2,744

51

4,763

81

3,864

111

2,792

22

2,789

52

4,765

82

3,763

112

2,726

23

2,799

53

4,767

83

3,594

113

2,715

24

2,907

54

4,774

84

3,476

114

2,723

25

3,066

55

4,774

85

3,361

115

2,716

26

3,15

56

4,813

86

3,269

116

2,714

27

3,264

57

4,812

87

3,286

117

2,716

28

3,405

58

4,829

88

3,262

118

2,715

29

3,558

59

4,714

89

3,207

119

2,723

Gambar

Gambar 1 Struktur FET. 12
Gambar 6  Struktur piranti FET.
Gambar 8  Skema pengujian respon dinamik    piranti FET .
Gambar 12  Interaksi kimia antara gas amonia   dengan P3HT. 22
+2

Referensi

Dokumen terkait