走査 SQUID 顕微鏡を用いた超伝導線材内部の 電流分布の可視化
九州大学大学院システム情報科学府
○中村 知也、井上 昌睦 、木須 隆暢 、今村 和孝、竹尾 正勝 超伝導工学研究所
衣斐 顕、山田 穣、塩原 融
謝辞:本研究は超電導応用基盤技術研究開発の一環として、ISTECを通じて
NEDOからの委託を受けて実施すると共に、文部科学省の科研費(17760255)の助 成を得て行ったものである。
臨界電流密度 J
cの向上が重要な課題 YBCO 線材の実用化
•弱結合、欠陥等がランダムに存在し 電流 がパーコレーション的に流れる
• 非線形な E-J 特性を持つため欠陥近傍 に著しい電界集中
局所的な電流密度分布を評価することが重要
超伝導特性の不均一性 が臨界電流特性を制限
はじめに
局所電流評価
(磁気イメージング)
・高空間分解能、高感度
・定量的測定
欠陥のサイズは数ミクロン〜数百ミクロン 組織観察
TEM, SEM
低温走査レーザ顕微鏡 LTSLM
局所損失評価
走査 SQUID 磁気顕微鏡
走査 SQUID 顕微鏡を用いて局所的な電流分布を評価
はじめに
DMM Current
source XYZ-stage
controller SQUID controller
RP LHe
PC
Temperature
controller
・
SQUIDセンサーは常に約4K
・サンプルはヒーター により 4K~100Kの 温調が可能
SQUIDセンサ
ピックアップコイル 10 µ m
センサ
3mm
走査 SQUID 顕微鏡システム、 SQUID センサー
基板
単結晶基板YBCO 成膜法
PLD法垂直欠陥の長さ
40µm、ブリッジ幅
100µm100µm 40µm
10µm
10µm
試料緒元
均一なYBCO薄膜
電流密度分布の定量性の検証
-80 [uT]85
8.3[mA] 89.0[K]
Defect=40µm
Bz(x, y) 2D Fourier Transform b(kx, ky)
b: 2D Fourier transform of Bz k: wave vector
µ0: permeability of vacuum, i : imaginary unit.
z0: lift-off distance
0
0
( , ) 2 ( , )
kz
x x y y x y
j k k i e k b k k µ k
= −
0
0
( , ) 2 ( , )
kz
y x y x x y
j k k i e k b k k µ k
=
Inverse Fourier Transform
Sheet current vector: Jx(x, y), Jy(x, y) 0
[A/m]165
80 40 20µm
電流密度分布 変換
榊? ? を? 並 自己磁場分布
自己磁場分布、電流密度分布
電流密度分布の理論解析との比較
I
B=8.3mA
x
x x
y
0 0.5 1 1.5 2
-100 -50 0 50 100
J/J 0
y[µm]
IB=8.3mA IB=6.6mA IB=5.6mA IB=4.0mA Theory
0 50 100 150 200
-20 0 20 40 60 80 100 120 Defect=40µm Defect=10µm Defect=0m Theory
Sheet current density J[A/m]
x[µm]
20 40 60 80 100 120 140 160
-100 -50 0 50 100
IB=8.3mA IB=6.6mA IB=5.6mA IB=4.0mA theory
Sheet current density J[A/m]
y[µm]
走査 SQUID 顕微鏡で電流分布を定量的に評価することができる
YBCO Gd2Zr2O7 CeO2
Hastelloy
PLD法 YBCO成膜法
Gd2Zr2O7, CeO2 中間層、キャップ層
IBAD法 基板作製法
0.3µm YBCO膜の厚さ
光学顕微鏡写真
試料緒元
100µm
1mm
YBCO/IBAD 線材内の電流分布評価
‑20 0 20 40 60 80 100 120 140
1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 7.0
V [µV]
I [mA]
IB=2.0[mA]
IB=4.0[mA]
IB=5.0[mA]
62
-62 [µT]
0
T=87. 4 [K]
Percolate
YBCO/IBAD 線材内の自己磁界分布
50 60
20 110
0 40 [A/m]
IB= 5.0[mA]
IB= 4.0[mA]
IB=2.0[mA]
・ 最も早く自己磁界のパーコレーションが観測される箇所で 電流が強く集中し、平均電流の 2 倍以上の電流が流れている
・ 電流密度分布が高空間分解能で得られている
YBCO/IBAD 線材内の電流密度分布
E-J の n 乗則により電流パターンが同じになっている
同じ n 値であれば任意の印加電流の電流密度分布を得られる 89.0[K]
0 0.5 1 1.5 2
-100 -50 0 50 100
J/J 0
y[µm]
IB=8.3mA IB=6.6mA IB=5.6mA IB=4.0mA Theory
均一なYBCO薄膜
0 2.1
1
IB= 5.0[mA]
IB= 4.0[mA]
IB=2.0[mA]
規格化した電流パターン J
x(x,y)/J
0A C B
0 2.1 1
A B C
10-8 10-7 10-6 10-5 10-4
2 109 4 109 6 109 8 109 1010
Voltage Response V [V]
Current Density J [A/m2] 10-8
10-7 10-6 10-5 10-4
2 109 4 109 6 109 8 109 1010 A B C
Voltage Response V [V]
Current Density J [A/m2]
電流密度分布と損失分布両方を考慮して特性を評価 すると真の局所特性を得ることが出来る
7.0E-6 0
Voltage Response [V]
電流密度分布
損失分布 印加電流5点
局所 I-V 特性
走査 SQUID 顕微鏡を用いて YBCO/IBAD 線材内の電流分布の評価を行った
電流密度分布が高空間分解能で得られた
磁界パーコレーション近傍では平均電流の2倍以上の電流が流れている
同じ n 値であれば任意の印加電流の電流密度分布を得られる
レーザー走査顕微鏡による損失分布測定の結果との複合的な評価手法 により真の局所特性が得られる
まとめ