◦ CAES 분야에 관한 주요국 출원인별 출원성향을 보면, AA(인공저장체 설계 및 시 공) 분야에서는 한국, 미국, 유럽에서 상대적으로 출원량이 많은 기업이 발견되지 않았고, 일본의 TANIGAWA HIROYASU가 출원을 주도하고 있는 것으로 나타났다.
◦ BA(압축공기 주입) 분야에서는 미국에서 GIBBS & HILL, INC가, 일본에서 MITSUBISHI HEAVY IND LTD, HITACHI LTD가, 영국에서는 BBC Brown, Boveri & Company Limited가 출원을 주도하고 있는 것으로 나타났으며, 한국에 서는 상대적으로 출원량이 많은 기업이 발견되지 않았다.
◦ BB(압축공기 활용) 분야에서는 한국에서 개인 출원인인 이상하가, 미국에서 ELECTRIC POWER RESEARCH INSTITUTE가, 일본에서는 MITSUBISHI HEAVY IND LTD, HITACHI LTD가 출원을 주도하고 있는 것으로 나타났으며, 유럽에서는 상대적으로 출원량이 많은 기업이 발견되지 않았다.
◦ BC(열에너지 이용) 분야에서는 미국에서 GIBBS & HILL, INC가, 일본에서는 MITSUBISHI HEAVY IND LTD, HITACHI LTD가 출원을 주도하고 있는 것으로 나타났으며, 한국, 유럽에서는 상대적으로 출원량이 많은 기업이 발견되지 않았다.
◦ CA(저장시설 모니터링) 분야에서는 독일에서 KNORR BREMSE SYST FUR NUTZFAHRZEUGE GMBH가 출원을 주도하고 있는 것으로 나타났고, 한국, 미국, 일본에서는 상대적으로 출원량이 많은 기업이 발견되지 않았다.
그림 2.42 CAES 분야의 연구개발방향 및 기술발전속도
* 그림 설명
1. 분석구간: 미국특허 1986~2010년(등록년도)
2. X축: TCT=미국 등록특허의 발행년도와 그 특허공보상에 기재되는 인용문헌 발생년도의 증간값
Y축: 미국특허의 논문인용수
◦ AA(인공저장체 설계 및 시공) 분야와 BC(열에너지 이용) 분야에서 논문인용 비율 이 높은 것으로 보여지고, 이런 상황으로 볼 때, 기초과학과 관련한 연구개발이 많 이 수행되는 것으로 보여지며, BA(압축공기 주입), BB(압축공기 활용) 분야는 기 초과학보다는 응용개발에 관한 연구가 활발한 것으로 판단된다.
◦ BA(압축공기 주입) 분야 및 BB(압축공기 활용) 분야의 기술순환주기(TCT)가 12~16년 정도로 나타났고, BB(압축공기 활용) 분야가 가장 늦은 기술순환주기 (TCT)를 보이는 것으로 나타났다. 즉, CA(저장시설 모니터링) 분야의 기술 발전 속도가 빠른 것으로 볼 수 있고 상기 기술분야에 한국 등 후발주자들이 단기간 집 중적으로 투자한다면, 기술격차를 좁히기가 비교적 용이한 분야로 분석됨.
나. 미국특허로 본 각국의 기술력 비교
◦ 특허등록국가가 질적으로 우수하고 많은 특허를 출원하였는지에 대한 기술력의 판
단과 등록년도를 구간별로 나누어 기술력의 변화를 분석하여 기술력 변화추이, 그 리고 연구기획단계에서 최근 기술력이 급성장한 국가에 대하여 정책적, 기술적 변 화요인을 분석하고, 우리나라의 현 수준에서 고려할 수 있는 벤치마킹 요소를 도 출하기 위하여 미국에 등록된 특허를 비교하여 기술력을 평가하였다<표 2.10 및 그림 2.43>. 그러나 이 결과 상대적으로 미국에 유리한 결과가 도출되는 단점이 있다.
◦ 미국등록특허에서 기술수준을 측정하는 3가지 지표(특허등록건수, 영향력지수(PI I)1), 기술력 지수(TS)2))를 통해 국가별 분포를 살펴본 결과, 실질적으로 미국이 관련 기술분야에서 양적수준 및 질적 수준 모두 상대적으로 높은 것으로 판단되었다.
◦ 영향력지수(PII)에서는 1구간(‘96년～’00년, 이하 1구간)에서는 미국, 이스라엘 순이 고, 2구간(‘01년～’05년, 이하 2구간)에서는 프랑스, 미국, 스위스 순이며, 3구간(‘06～’10 년, 이하 3구간)에서는 미국이 가장 높은 것으로 나타났고, 미국, 이스라엘이 높은 기술영향력을 가지고 있는 것으로 나타났다.
◦ 기술력지수(TS)에서는 미국이 가장 높은 것으로 나타났고, 그 뒤를 이어 1구간에 서는 이스라엘, 이탈리아 순이며, 2구간에서는 스위스, 프랑스, 영국 순이고, 3구간 에서는 미국이 기술력 지수가 높은 것으로 나타났다.
1) PII(영향력 지수, Patent Impact Index)란 특정특허권자의 특허가 이후 등록된 특허들에 의해 인용되는 회수의 평균값 인 인용도지수(CPP)를 전체 피인용비로 나눈 상대적인 CPP를 나타내므로, 이 값이 클수록 상대적으로 그 이후에 인 용이 많이 되었고 이후 특허에 영향을 많이 주었다는 의미, 즉 질적수준이 높다는 것을 의미함 (PII = 해당국가의 CPP/ 전체 CPP)
2) TS(기술력 지수, Technology Strength)란 영향력지수에 특허건수를 곱한 값으로 질적수준과 양적수준를 동시에 의미
특허등록건수 PII(영향력 지수) TS(기술력 지수)
‘96-’00 ‘01~‘05 ‘06~’10 ‘96-’00 ‘01~‘05 ‘06~’10 ‘96-’00 ‘01~‘05 ‘06~’10
미국 9 미국 16 미국 20 미국 4.02 미국 0.98 미국 0.2 미국 36.15 미국 15.6 미국 .093
일본 1 일본 2 일본 2 일본 0.25 일본 0.38 일본 0 일본 0.25 일본 0.76 일본 0 이스라엘 3 이스라엘 0 이스라엘 0 이스라엘 2.20 이스라엘 0 이스라엘 0 이스라엘 6.60 이스라엘 0 이스라엘 0 덴마크 0 덴마크 1 덴마크 2 덴마크 0 덴마크 0 덴마크 0 덴마크 0 덴마크 0 덴마크 0 프랑스 0 프랑스 0 프랑스 1 프랑스 0 프랑스 1.14 프랑스 0 프랑스 0 프랑스 1.14 프랑스 0 영국 0 영국 1 영국 0 영국 0 영국 0.57 영국 0 영국 0 영국 1.14 영국 0 스위스 0 스위스 2 스위스 1 스위스 0 스위스 0.63 스위스 0 스위스 0 스위스 1.27 스위스 0 캐나다 0 캐나다 2 캐나다 0 캐나다 0 캐나다 0.44 캐나다 0 캐나다 0 캐나다 0.89 캐나다 0 이탈리아 1 이탈리아 2 이탈리아 0 이탈리아 1.27 이탈리아 0 이탈리아 0 이탈리아 1.27 이탈리아 0 이탈리아 0 한국 0 한국 2 한국 1 한국 0 한국 0 한국 0 한국 0 한국 0 한국 0
표 2.10 미국특허로 판단한 국가별 기술수준 순위
* 분석구간: 미국특허 1996~2010년(등록년도)
그림 2.43 국가별 기술영향력(TS)의 구간별 추이 비교