Perkembangan Film Tipis Zirkonia: Sifat, Sintesis dan Aplikasi
Teks penuh
Dokumen terkait
Bagi yang akan melanjutkan penelitian ini diharapkan untuk menggunakan substrat yang lebih tahan terhadap suhu tinggi karena diharapkan film akan membentuk struktur kristalin
Film tipis ditumbuhkan dengan metode chemical solution deposition (CSD) dan spin coating, dengan kelarutan prekursor 1.00 M denga kecepatan putar 3000 rpm selama 30 detik..
Deposisi film tipis superkonduktor MgB 2 pada substrate dengan teknik PLD, bergantung pada banyak parameter yakni : target, tekanan udara dalam kamar deposisi sebelum proses
Berdasarkan hasil yang didapatkan dapat disimpulkan bahwa nilai konduktivitas listrik film tipis meningkat seiring dengan kenaikan intensitas cahaya sebaliknya nilai
menunjukkan citra SEM permukaan film tipis ZnO:Al yang ditumbuhkan pada temperatur 400 o C mempunyai ukuran butir lebih besar. Tampak dari citra SEM, film tipis ZnO:Al
Proses pengujian konduktivitas ini dilakukan dengan memasukan film tipis kedalam furnace, dengan menggunakan rangkaian jembatan wheatstone, maka akan didapat nilai
Pada pengambilan data dielektrik pada setiap sampel film tipis LF dan LFT digunakan osiloskop dengan menggunakan rangkaian yang hambatannya adalah 1000 ohm.Hasil
menunjukkan citra SEM permukaan film tipis ZnO:Al yang ditumbuhkan pada temperatur 400 o C mempunyai ukuran butir lebih besar. Tampak dari citra SEM, film tipis ZnO:Al
