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基板温度制御下におけるスパッタ Cu 膜のラフネス成長

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9, 2016 唆されている5.Cysのチオール基は酸化修飾の主要な ターゲットの一つであり,スルフェン酸(‒SOH)また はニトロシル化される.スルフェン酸は不安定であり, さらに酸化され,スルフィン酸(‒SO2H),スルフォン 酸(‒SO3H)に変換されるか,あるいは別のチオール基 と分子内,分子間ジスルフィド結合を形成する6.活性

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