• Tidak ada hasil yang ditemukan

Pengariih Tekanan Sputtering terhadap Sifat Magnetik Lapisan Tipis CoSm

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

Membagikan "Pengariih Tekanan Sputtering terhadap Sifat Magnetik Lapisan Tipis CoSm"

Copied!
9
0
0

Teks penuh

(1)

Pengariih Tekanan Sputtering terhadap Sifat Magnetik

Lapisan Tipis CoSm

Saktioto, Erwin, Defrianto dan Hera Didana Jurusan F i s i k a F M I P A - U n i v e r s i t a s R i a u Pekanbara 28293

A B S T R A K

Telah dilakukan penelitian tentang morfologi khususnya kekerasan dari lapisan tipis campuran C o S m menggunakan Atomic Force Microscopy ( A F M ) dan hubungannya dengan sifat magnetik dari sampel (Cobalt-Samariimi) seperti interaksi antar partikel magnetik dengan menggunakan Alternating Gradient Force Magnetometry ( A G F M ) . Sampel yang digunakan adalah campuran Cobalt-Samarium yang telah d i buat d i Salford University, United K i n g d o m dengan metode Sputtering. D a y a sputtering untuk Cobalt yaitu 150 Watt sementara daya untuk Samarium 30 Watt, sedangkan tekanan sputtering divariasikan dari 4 x 10""^ mhar sampai 20 x 10'^ mbar. Hasil pengukuran kekasaran permukaan dari lapisan tipis C o S m dengan menggunakan A F M menunjukkan nilai kekasaran bertambah dengan bertambahnya tekanan sputtering yaitu 2,2 mn, 3,1 nm, 3,2 nm, 5,3 nm, 5,8 m n untuk variasi tekanan 4 x 10'^ mbar, 8 x 10'^ mbar, 12 x 10'^ mbar, 16 x 10'^ mbar, 20 x 10'^ mbar. Pertambahan kekasaran i n i disebabkan karena penambahan tekanan pada saat pembuatan sampel (Cobalt-Samarium) sehingga menyebabkan jumlah tumbukan yang terjadi antara atom Cobalt dan Samarium dengan atom argon sebagai gas sputtaring juga meningkat, karena atom Samarium lebih berat dari atom Cobalt maka atom Samarium lebih banyak sampai d i substrat (silikon) dibandingkan atom Cobalt. K o n d i s i i n i juga akan mempengaruhi sifat magnetik dari sampel (Cobalt-Samarium) khususnya nilai koersivitas akan menurun dengan bertambahnya tekanan sputtering. N i l a i koersivitas dari lapisan tipis C o S m menurun daii 1821,1 Oe sampai 342,35 Oe ketika tekanan sputtering saat sampel dibuat diturunkan dari 4 x lO''' mbar sampai 20 x 10'^ mbar.

Key words : coercivity, magnetisasi, tekanan, sputtering dan remanence .,

P E N D A H U L U A N

Lapisan tipis yang unsur utamanya terbuat dari cobalt (cobalt-based) adalah salah satu media penyimpan data secara magnetik yang mampu menyimpan data lebih besar pada saat ini. Kemampuan yang tinggi i n i disebabkan oleh karena bahan tersebut m e m i l i k i nilai magnetocrystalline anisotropy dan coercivity yang tinggi. Sebagai contoh lapisan tipis CoPtCr merupakan bahan media penyimpan data yang potensial dan merupakan subjek dari penelitian saat i n i (Sanders, 1989). Selain m e m i l i k i sifat i n i , agar media i n i dapat menyimpan data dengan kapasitas besar maka media tersebut harus m e m i l i k i ukuran butiran magnetik kecil dari 10 n m dan memiliki interaksi antar butiran magnetik yang kecil. (Doerner, 2000). Interaksi antara pertikel magnetik dalam lapisan tipis telah dipelajari secara intensif oleh Y o g i (Yogi, 1991) . Dalam penelitian ditunjukkan bahwa perbandingan antara signal dan noise (signal to noise ratio) dapat diturunkan. Penurunan nilai ini disebabkan oleh karena penurunan nilai interaksi diantara partikel-paitikel magnetik dalam lapisan tipis. Penurunan nilai interaksi i n i dapat dilakukan melalui pemisahan partikel magnetik dengan menggunakan bahan non magnetik seperti platium. chromium, samarium atau godolinium

(2)

Dalam media penyimpan data magnetik sudah menjadi hal biasa untuk data noise dikorelasikan dengan data magnetik dengan mengukur squareness dari hysteresis loop dari thin film. Penurunan dari nilai noise dalam media penyimpan data magnetik disebabkan oleh penurunan dari nilai loop squareness . Karena sumber dari media noise disebabkan oleh sifat reversal cooperative dain butiran atau partikel magnetik, maka teknik seperti interaksi partikel ( A M ) yang dikembangkan oleh K e l l y (Kelly et. al, 1989) digunakan untuk mempelajari hubungan antara interaksi magnetik dan noise.

Dalam penelitiaii i n i akan dipelajari pengaixih tekanan sputtering terhadap interaksi partikel magnetik dalam lapisan tipis cobalt-samarium yang dibuat dengan menggunakan teknik sputtering melalui variasi tekanan dalam ruang sputtering.

M E T O D O L O G I P E N E L I T I A N

Sampel yang digunakan adalah cobalt samarium dengan komposisi Cogo Smao dalam bentuk lapisan tipis dengan ketebalan dalam orde A (400 A - 1000 A ) . Sampel i n i dibuat berdasarkan variasi tekanan. Teknik yang digunakan untuk membuat sampel adalah teknik sputtering. Sampel yang digunakan dalam di Laboraturium Joule Department o f Physics, Salford Univercity England, U K . Pengukuran kekasaran dari permukaan sampel dilakukan dengan menggunakan Atomic Force Microscopy ( A F M ) yang ada d i laboratorium F i s i k a Jurusan Fisika F M I P A Universitas Syiah K u a l a , Banda A c e h . Data tentang sifat magnetic dari sample berupa hubungan antara medan magnetic yang digunakan dengan magnetisasi diukur dengan menggunakan Alternating Gradient Force Magnetometry ( A G F M ) yang ada l i Laboratorium Joule Department o f Physics Salford University, U K .

Pengukuran sifat magnetik dari sampel dengan menggunakan Alternating Gradient Force Magnetometry ( A G F M ) . Data yang diperoleh dalam pengukuran ini berupa data medan magnet yang digunakan versus nilai M d a n medan magnet yang di peroleh versus M , ^ ^ . Data ini tersusun dalam bentuk data base. Selanjutnya d i tentukan nilai MIX:D dan M IRM .

Dalam hal ini M DCD adalah nilai dari M d i bagi dengan nilai Mtertinggi dan dimasukan dengan MDCD temormalisasi. Dengan cara yang sama untuk mendapatkan nilai

MIRM temormalisasi maka dilakukan cara yang sama dengan M , ^ . ^ , . Selanjutnya nilai M ^ ^ . ^ dan M y a n g di peroleh digunakan untuk menghitung nilai interaksi antar partikel magnetik dalam sampel dengan menggunakan persamaan 1 dan persamaan 2. D a r i data yang diperoleh diatas dapat ditulis nilai interaksi antar butiran-butiran magnetik dalam sampel.

T E O R I

Ketika medan magnetik luar diberikan pada bahan ferromagnetik seperti besi (Fe) maka momen magnetik yang ada dalam bahan tersebut akan menyelaraskan daiu medan magnet tersebut. Apabila medan magnet luar tersebut dihentikan (H=0) maka sebagian dari momen tidak kembali kebentuk semula maka material ini dinamakan termagnetisasi. Suatu bahan ferromagnetik apabila sudah termagnetisasi maka bahan tersebut akan tetap termagnetisasi unluk sclamanya. Untuk nicnibual bahan tcrsebul kcmbaii sifal scmula (demagnctisasi) maka bahan tersebut memerlukan medan magnet yang berlawanan arah. M e d a n magnet sebelumnya ini merupakan efek yang dapat memberikan sifat memori dalam hardisk atau C D . Hubungan antara kuat medan magnet (H) dan magnetisasi ( M ) untuk bahan ferromagnetik seperti ditunjukkan pada gambar 1.

(3)

M

[I.

f

1

J

J

He

Gambar 1. Hysteresis loop dari bahan ferromagnetik

Ketika medan magnet luar diperbesar maka kurva magnetisasinya ditunjukkan dengan w a m a ungu dalam gambar 1. yang disebut dengan kurva magnetisasi mula-mula. Grafik i n i naik dengan cepat ketika medan magnet luar dinaikkan dan mencapai keadaan saturasi (seluruh momen magnetik dalam sampel sudah searah dengan medan magnet luar). J i k a medan magnet luar dikurangi maka kurva magnetisasi tidak mengikuti kurva magnetisasi mula-mula, tetapi mengikuti lintasan yang berbeda seperti ditinjukkan pada gambar 1. K e t i k a medan magnet luar sama dengan n o l (H=0) maka magnetisasi tidak menuju n o l tetapi memiliki nilai tertentu dan itu dinamakan dengan remanance. K e t i k a medan magnet luar diperbesar dalam arah negatif maka magnetisasi menuju nol yang disebut dengan coercivity (He). Jika hubungan H dan M d i plot untuk selumh nilai medan magnet yang digunakan menghasilkan sebuah loop dan loop i n i disebut dengan hysteresis loop.

Interaksi antara partikel magnetik dalam lapisan tipis menunjukkan bahwa perbandingan antara signal dan noise dapat diturunkan (diperkecil). Penurunan nilai i n i disebabkan oleh karena penurunan nilai interaksi magnetik diantara partikel-partikel magnetik dalam lapisan tipis (Yogi, 1991). Menurut (Doerner et al. 2000) media penyimpan data yang memiliki kapasitas yang tinggi dan noise yang rendah membutuhkan material yang terdiri dari butiran-butiran magnet yang kecil sekitar 10 n m atau kurang dan memiliki

magnetocrystalline anisotropi yang tinggi. Untuk mendapatkan sifat-sifat i n i maka lapisan

tipis harus dibuat sedemikian rupa sehingga bisa didapatkan ukuran yang diinginkan dari butiran-butiran lapisan tipis tersebut.

Dalam pengukuran dc demagnctisasi ( D C D ) mula-mula sampel d i magnetisasikan ke arah negatif sampai mengalami keadaaan saturasi. Setelah mencapai keadaan saturasi maka medan magnet nya d i catat atau direkam, kemudian setelah itu medan magnetnya dikurangi dalam range tertentu misalnya pada range 100 Oe, selanjutnya setiap pengurangan medan magnet tersebut, maka nilai magnetisasi remananya dicatat yaiig diukur sebagai fungsi dari pertambahan medan magnet yang digunakan ke arah p o s i t i f .

Menumt (Wohlfarth, 1947) untuk butiran berdomain tunggal yang tidak berinteraksi satu dengan j a n g laimiya dapat dinyatakan sebagai berikut:

M,,,,{H) = \~2M„,{H) (1)

(4)

0.0015 0.0010 00005 -0 -0-0-0-0

-2500 -2000 -1500 -1OO0

Applied Field (Oe)

• 0.0016 0.0014 0 01312 0,0010 0.0008 0.0006 0 0004 0.0002 0,0000 -0 0002 (a) 50O 1000 1500 2000 2500 3000

Applied Field (Oe)

(b)

Gambar 2. (a) Magnetisasi Remanan ( D C D ) dan (b) Isotermal Remanan Magnetisasi ( I R M ) (Erwin, 2004)

Untuk kasus interaksi (Kelly et al, 1989) menulis persamaan (1) .berikut ini.4intuk memperoleh magnetud dari interaksi A A / menjadi:

AM(H) = MDCD (H) - (1 - 2M,m(H)) (2)

Untuk pengukuran isotermal remanance magnetisasi ( I R M ) diukur dari sampel thin film dari keadaan demagnctisasi. Medan magnet dinaikkan ke nilai tertentu misalnya pada titik 100 Oe, kemudian magnetisasi remanance dicatat. Setelah itu medan ma.gnet dikembalikan ke n o l . Selanjutnya medan magnet dinaikkan ketingkat yang lebih tinggi misalnya 200 Oe, kemudian magnetisasi remanannya juga dicatat. Setelah itu medan magnet kembali ke n o l . Dengan cara yang sama medan magnet dinaikkan secara terus menerus dengan mencatat dari setiap nilai remanance magnetisasinya untuk kenaikkan sebelum medan magnet dibawa ke nol. Proses i n i direkam sebagai fungsi. peningkatan medan magnet yang digunakan hingga saturasi remanan tercapai. Grafik yang dihasilkan dari pengukuran i n i berupa kurva antara medan magnet yang digunakan V S magnetisasi remanance yang d i tunjukkan pada gambar 3

Perbedaan nilai antara Md (H) dan Mr (H) dijelaskan dalam persamaan (2) menunjukkan interaksi alamiah antar butiran magnetik d i dalam sampel (thin film). N i l a i dari efek interaksi ini bisa bernilai positif dan negatif tergantung pada tipe interaksi yang terjadi. N i l a i A M bemiali positif artinya nilai interaksinya stabil. Dalam hal i n i interaksi disebabkan oleh couple d i antara butiran magnetik dalam sampel.

H A S I L D A N P E M B A H A S A N

Hasil pengukuran kekasaran permukaan sampel sebagai fungsi tekanan sputtering dari campuran cobalt samarium (CoSrn),dengan menggunakan Atomic Force Microscope ( A F M ) ditampilkan dalam bentuk 2 dan 3 dimensi. Gambar berikut i n i hanya ditampilkan 2 hasil pengukuran yaitu untuk tekanan paling rendah dan paling tinggi yang dilakukan dalam experiment ini. D a y a sputtering untuk cobalt yaitu 150 Watt sementara daya untuk Samarium 30 Watt.

(5)

Topograph) - Scan foward

I

Topography - Scan forward

(a) (b) Gambar 3. H a s i l A F M untuk lapisan tipis cobalt samarium (CoSm) dengan tekanan

4 x 1 0 " ^ mbar dalam (a) dua dimensi (2-D) dan (b) tiga dimensi (3-D).

Topography - Scan foiward

- Topography - Scan forward

(a)

Gambar 4. H a s i l A F M untuk lapisan tipis C o S m dengan tekanan 20 x 10"^ mbar dalam (a) dua dimensi (2-D) dan (b) tiga dimensi (3-D).

Gambar 3 menunjukan hasil pengukuran kekasaran permukaan dari lapisan tipis C o S m dalam bentuk 2 dimensi dan 3 dimensi yang diamati menggunakan Atomic Force

Microscope ( A F M ) . Pada gambar i n i kekasaran permukaan sampel ditandai dengan

menggunakan dua wama, yaitu gelap dan terang. Daerah yang gelap menunjukkan sampel yang tipis sedangkan yang putih menunjukkan daerah atau permukaan sampel yang lebih tebal. Penampilan yang lebih jelas dari permukaan sampel dapat dilihat dalam bentuk 3 dimensi seperti ditunjukkan pada gambar 3 (b). N a m u n area yang gelap hanya terdapat satu area dan pada permukaan lapisan tipisnya terlihat hanya sedikit area yang lebih gelap dibandingkan terang. Dari analisis menggunkan A F M kekasaran rata-rata permukaan lapisan tipis i n i adalah 2,2 nm.

Pengamh tekanan sputtering yang lebih besar pada saat pembuatan sampel yaitu 12 x lO''^ mbar menyebakan permukaan sampel semakin kasar. Hasil A F M untuk sampel yang dibuat pada tekanan i n i ditunjukkan pada gambar Gambar 4.3. D a l a m gambar tiga dimensi (4 (b)) terlihat sangat jelas b a h u a permukaan sampel i n i sangat kasai'jika dibandingkan dengan sampel-sampel sebelumnya yaitu pada gamabr 3. Kekasaran rata-rata permukaan sampel yang dibuat pada tekanan 20 x 10'' mbar adalah 5,8 run. Pada permukaan sampel ini terlihat dengan jelas bahwa wama putih jauh lebih dominan dibandingkan dengan wama gelap. Ini berarti bahwa permukaan sampel jauh lebih kasar dibandingkan dengan sampel yang dibuat

(6)

0

-0 1 2 3 4

Tekanan (Mbar)

5 6

Gambar 5. Kekasaran permukaaan lapisan tipis C o S m sebagai fungsi tekanan sputtering.

Dari gambar 5 diatas dapat dilihat dengan jelas bahwa kekasaran permukaan dari sampel bertambah dengan bertambahnya tekanan sputtering. Pertambahan kekasaran i n i sesuai dengan harapan bahwa ketika sampel dibuat dengan tekanan yang lebih besar mengakibatkan semakin sedikit jumlah atom cobalt yang sampai d i substrat karena mengalami tumbukan dengan atom - atom argon sebagai gas sputtering. Sementara atom samarium yang ukurannya jauh lebih besar dibandingkan dengan atom cobalt dan akan sedikit mengalami hambatan untuk sampai d i substrat. Akibatnya lebih banyak atom samrium yang sampai d i substrat yang nantinya akan mempengaruhi sifat magnetik dari sampel khususnya interaksi antara pertikel magnetik dalam sampel.

Sifat Magnetik

Berikut i n i ditampilkan gambar histeresis loop untuk 5 lapisan tipis cobalt-samarium yang dibuat berdasarkan variasi tekanan yaitu 4 x 1 0 " mbar sampai 20 x 10'^ mbar.

MQMJ-m -MQMJ-m -MQMJ-m MQMJ-m ' — ^ 118G m Bwo -m WSJ TSXB yXB 40)

J

2'

\

m -xa -MO m 191 3ooe sea on

1 "j ^ 4 (a; , sflOfcain

k r — '

, ' • I. \ i

\

^ \ 1 MOD -3000 -2000 -'A) 4000 3X10 3C0G 4000 M^.,; • -Midm Nagnal f>n4 diqunaliin 10*1

• '5 T

m -m -an m [ m m m m

1 T

(C)

G a m b a r 6. Hysteresis loop lapisan tipis C o S m dibuat l)erdasarkan variasi tekanan (mbar) (a) 4 X ]0'\ (b) 8 X 10•^ (c) 12 X 1 0 " l (d)16 x 10"^ dan (e) 20 x 10"^

Dari gambar 6 diatas maka dapat ditentukan nilai coersivitas daii lapisan tipis tersebut. Gambar berikut i n i menunjukkan grafik hubungan antara tekanan sputtering pada saat sampel dibuat dengan coercivitas.

(7)

20CX> 1800 -20CX> 1800 _ 14O0 « , ^ _ 14O0 « , ^ 5 800 * 800 400 5 800 * 800 400 \ 5 800 * 800 400 V ^ - • • • 1 Tekunan Sputtering (Mtmr)

Gambar 7. Grafik hubungan antara tekanan gas argon dalam ruang sputtering terhadap coercivitas dari lapisan tipis C o S m

Dari gambar diatas dapat dilihat dengan jelas bahwa nilai coercivitas dari lapisan tipis menurun dengan bertambahnya tekanan gas argon ketika lapisan tipis dibuat. Penurunan nilai coercivitas ini disebabkan oleh bertambahnya j u m l a h atom samarium dalam sampel ketika tekanan sputtering dinaikkan dari tekanan 4x10"-^ mbar sampai 20x10'-' mbar. Penambahan jumlah atom samarium mengakibatkan berkurangnya interaksi antar partikel magnetik yang

disebabkan oleh sifat dari samarium yang merupakan bahan n o n magnetik. Adapun mekanisme pertambahan atom samarium ketika tekanan sputtering dinaikkan adalah sebagai berikut: Ketika tekanan rendah terjadi sedikit turrtbiikan antara atom cobalt dan atom samarium dengan atom argon. Sedangkan ketika tekanan sputtering dinaikkan maka akan terjadi banyak tumbukan antara atom cobalt dengan atom samarium didalam ruang sputtering sehingga menyebabkan berkurangnya jumlah atom cobalt yang sampai pada substrat karna atom cobalt jauh lebih kecil dibandingkan atom samarium.

Kurva Remanance M.^jr, dan Remanance Mj^y^i

Gambar berikut i n i menampilkan kurva remanance untuk D C D ( D C Demagnctisasi) dan kurva remanance I R M (Isothermal Remanance Magnetisasi) yang diperoleh dari hasil pengukuran dengan menggunakan A G F M (Alternating Gradient Force Magnetometer). K u r v a ini merupakan kurva M ^ ^ ^ dan kurva untuk cobalt samarium yang dibuat pada tekanan 4x 10"^ mbar dan 2 Ox 10'^ mbar.

M e d ^ magnet yang digtauditrn VS M i m i a.6ti&<i3i l 0,006M» l 0,006M»

^ :

H(Oe)

Gambar 8. K u r v a M , ^ „ dan M , , ^ lapisan tipis C o S m dibuat pada tekanan 4 x l 0 ' ' ' mbar

Unluk mcnentukan interaksi antar butiran magnetik didalam sampel yang dibuat berdasarkan variasi tekanan maka terlebih dahulu diukur M dan M . K u r v a i n i

memperlihatkan hubungan D C D dan I R M dengan medan magnet luar yang digunakan. Kui'va

^ixi) diperoleh dengan mensaturasikan sampel kearah negatif Selanjutnya nilai remanance

(8)

kemudian nilai remanance dicatat sebagai fungsi penambahan medan yang digunakan sampai film tersebut tersaturasi.

Interaksi Antar Butiran Magnetik

Gambar berikut i n i menunjukkan grafik hasil perhitungan interaksi antara-butiran magnetik dalam sampel yang dibuat berdasarkan variasi tekanan sputtering.

Efek Interaksi (Delta M )

5.00E-01

-3S00 -3000 -1000 -500

• • • •• 1.00E01

-M*<I«n magnat yang digunakan (0«)

Efek interaksi (Dftlta M)

-3500 ,-30QQ-!Il!SoaZ^^2QQQ "*^^^SsOQ r1 OOP _ -SQ%floE-«-f

M a d a n fTMonet yang dlguniritan (Oa)

(a)

Efek Interaksi (Datta M)

Madan magnet yang digunakan (Oe)

(b)

(c)

Gambar 9. K u r v a AAf lapisan tipis C o S m dibuat pada tekanan (mbar) (a) 4 x l O ' ' ^ ,

( b ) 8 x l O " ^ dan (c) 2 0 x 1 0 -3

N i l a i efek interaksi antar partikel magnetik dalam lapisan tipis diperoleh dengan

membanding kan dua kurva remanance utama yaitu M^^^.^ dan Mseperti yang ditunjukkan pada gambar 8 diatas. Dengan menggunakan nilai i n i maka dapat ditentukan

interaksi antara butiran magnetik dengan menggunakan persamaan 2.

Dari gambar 9 dapat dilihat dengan jelas bahwa semua interaksi yang terjadi antar partikel magnetik dalam sampel bernilai positif, i n i berarti bahwa interaksi bersifat stabil yang disebabkan oleh pasangan (Excange Coupling) diantara butiran-butiran magnetik didalam sampel. Untuk sampel yang dibuat pada tekanan rendah 4 xlO"^ mbar dapat dilihat bahwa medan magnet yang digunakan dalam experimen i n i terlihat menampilkan perpindahan (Switching Field) yang tajam atau turun dengan cepat. Sedangkan untuk sampel yang dibuat dengan tekanan besar yaitu 20 xlO'^ mbar menampilkan (Switching Field) yang berubah secara berangsur-angsur. Hasil yang diperoleh i n i menunjukkan tingkah laku yang sama seperti apa yang telah dilakukan oleh peneliti sebelumnya (Ma>'o et; al. 1991).

Gambar berikut ini menampilkan grafik hubungan antara tekanan sputtering terhadap A M (interaksi antar partikel magnetik dalam sampel) Dari gambar 10 dapat dilihat jelas bahwa nilai interaksi antar partikel magnetik dalam sampel berkurang dengan bertambahnya tekanan sputtering. Penurunan nilai interaksi i n i disebabkan oleh penambahan j u m l a h atom samarium dalam sampel sehingga ruang diantara atom-atom cobalt diisi blehbahan samarium yaitu bahan non magnetik, sehingga penambahan j u m l a h samarium tersebut menyebabkan berkurangnya nilai interaksi antar partikel magnetik dari sampel.

(9)

0.6 y~ 0.5 — 0.4 2 0,3 0.2 -0.1 0 0 1 2 3 4 5 6 T«kNniHi'(MlM0

Gambar 4.16. Grafik hubungan antara tekanan sputtering terhadap A M (interaksi antar partikel magnetik dalam sampel)

K E S I M P U L A N

Dari hasil penelitian yang dilakukan dapat diambil beberapa kesimpulan antara lain : 1. Hasil pengukuran kekasaran permukaan sampel cobalt samarium dengan

menggunakan A t o m i c Force M i c r o s c o p y ( A F M ) menunjukan bahwa kekasaran permukaan dari sampel bertambah dengan bertambahnya tekanan sputtering. H a l J n i disebabkan oleh ukuran dari atom Samarium yang jauh lebih besar dibandingkan dengan atom cobalt sehingga atom-atom cobalt sedikit yang sampai ke stibstrat sementara atom samarium lebih banyak. sampai ke substrat.

2. N i l a i interaksi antar partikel magnetik dalam sampel berkurang dengan bertambahnya tekanan sputtering. Penurunan nilai interaksi ini disebabkan oleh penambahan jumlah atom samarium dalam sampel sehingga ruang diantara atom-atom cobalt diisi oleh bahan samarium yaitu bahan non magnetik, sehingga penambahan jumlah samarium tersebut menyebabkan berkurangnya nilai interaksi antar partikel magnetik dari sampel.

3. N i l a i coercivitas dari lapisan tipis menurun dengan bertambahnya tekahan gas argon ketika lapisan tipis dibuat. Penurunan nilai coercivitas i n i disebabkan oleh bertambahnya j u m l a h atom samarium dalam sampel ketika tekanan sputtering dinaikkan dari tekanan 4x10"^ mbar sampai 20x10'^ mbar.

D A F T A R P U S T A K A

A . Erwin. 2004. Magnetic and Microstructural Properties of CoSm Alloy and Multilayer Thin

Film. Institute for Material Research University of Salford, U K .

Doerner, M . F . , Tang,, K . , Amoldussen, T., Zeng,, H . , Toneyand, M . F., Weller, D . , ( 2000), I E E E Trans. M a g n . , 36.

E . G . Stoner, and E . P . Wohlfart, Nature 160, 650 (1947).

I. L . Sanders, T. Y o g i , J. K . Howard, S. E . Lambert. G . L . Gorman and C . Hwang, I E E E Trans. M a g n . , 25. 3869 (1989)

Jiles, D . (1998), Introduction to Magnetism and Magnetic Materials

P . E . K e l l y , K . O ' G r a d y , P.I. M a y o , R . W . Chantrell, I E E E Trans. M a g n . , 25, 3881, 1989. P. 1. M a y o , K . O ' G r a d y , R . W . Chantrell, J. A . Cambridge, I. L . Sanders, T. Y o g i , and J.

K . Howard, .1. M a g n . Magn. Mater. 95, 109 (1991). P.J. Grundy, J. Phys. D : A p p l . Phys., 31, 2975, 1998.

Reitz, J. R , M i l f o r d , Christy 1993, Dasar Teori Listrik Magnet, Edisi Ketiga. Penerbit 1TB, Bandung.

Tadashi Y o g i , Thao A . Nguyen, Steven E . Lambert, Grace L . Gorman and G i l Castillo, J. A p p l . Phys., 70, 1837(1991)

Gambar

Gambar 1. Hysteresis loop dari bahan ferromagnetik
Gambar 4.  H a s i l  A F M untuk lapisan tipis  C o S m dengan tekanan 20 x 10&#34;^ mbar  dalam (a) dua dimensi (2-D) dan (b) tiga dimensi (3-D)
Gambar berikut  i n i menunjukkan grafik hubungan antara tekanan sputtering pada saat  sampel dibuat dengan coercivitas
Gambar 7. Grafik hubungan antara tekanan gas argon dalam ruang sputtering  terhadap coercivitas dari lapisan tipis  C o S m
+3

Referensi

Dokumen terkait

Seorang wanita, usia 50 tahun, datang ke puskesmas dengan keluhan kaki tidak dapat berjalan sejak 3 minggu yang lalu. Riwayat sebelumnya pasien sering keputihan berbau

Kesimpulan hasil penelitian ini adalah (1) Melalui siklus tindakan kemampuan membaca dapat ditemukan langkah-langkah yang efektif dalam meningkatkan kemampuan

Konfrontasi dengan Malaysia disebabkan karena adanya anggapan Indonesia mengenai pembentukan federasi Malaysia sebagai negara boneka bentukan Inggris. Akibatnya,

Jakarta: Diterbitkan atas kerja sama AIPI dan LIPI dengan Gramedia.. Jurnal

Adanya Fasilitas (berupa icon-icon tertentu) untuk melakukan proses pengulangan simulasi dari materi yang dimaksud. Adanya ilustrasi dalam bentuk animasi dari penjelasan materi yang

Tidak pernah menjadi anggota Direksi, anggota Dewan Komisaris, anggota Dewan Pengawas Syariah atau menduduki jabatan 1 tingkat dibawah Direksi pada perusahaan Asuransi yang

Agar lebih terarahnya pembahasan terhadap masalah yang terdapat pada koperasi, maka penulis membatasi pembahasan pada data yang diperoleh dari Laporan keuangan Koperasi

Jika anda atau ahli keluarga terdekat anda memperoleh kelebihan atau kepentingan kewangan dalam harta tanah, hak paten, sekuriti, peluang keuntungan atau hak atau harta lain