• Tidak ada hasil yang ditemukan

MOSFET. Struktur dan operasi fisik dari MOSFET jenis enhancement. Gambar 1. Struktrur fisik transistor NMOS jenis enhancement

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

Membagikan "MOSFET. Struktur dan operasi fisik dari MOSFET jenis enhancement. Gambar 1. Struktrur fisik transistor NMOS jenis enhancement"

Copied!
61
0
0

Teks penuh

(1)

MOSFET

• Struktur dan operasi fisik dari MOSFET jenis ‘enhancement’

(2)

• Cara kerja tanpa tegangan ‘gate’

Tanpa tegangan gate akan ada 2 dioda yang diserikan secara ‘back-to-back’ antara source dan drain. Kedua dioda ini akan mencegah adanya arus dari drain ke source jika vDS dipasang. Resistansi pada jalur antara drain dan source sangat tinggi (pada orde 1012 Ω).

(3)

• Pemasangan tegangan vDS yang kecil.

Gambar 3. Transistor NMOS dengan vGS > Vt dengan tegangan vDS terpasang

Konduktansi kanal sebanding dengan vGS – vt

(4)

Gambar 4. Karakteristik iD – vDS dari MOSFET

 MOSFET bekerja seperti resistansi linier yang dikendalikan oleh vGS.

 Untuk vGS ≤ Vt, resistansinya tidak terhingga, dan harganya menurun jika

vGS melebihi Vt.

 Jadi, agar MOSFET terkonduksi harus ada kanal induksi. Dengan bertambahnya vGS melebihi Vt meningkatkan kemampuan kanal, oleh

(5)

• Operasi bila vDS dinaikkan.

Gambar 5. Cara kerja transistor NMOS jenis enhancement dengan meningkatnya vDS

(6)

Gambar 6. Hubungan iD dengan vDS pada transistor NMOS jenis enhancement yang beroperasi dengan vGS > Vt

(7)
(8)

Perhatikan gambar dan sebuah ‘strip’ pada gate yang berjarak x dari source. Kapasitansi strip ini: CoxWdx. Untuk mendapatkan muatan pada strip ini, kalikan kapasitansinya dengan tegangan efektif antara gate dan kanal pada titik x yaitu: [vGS – v(x) – Vt]; v(x) adalah tegangan pada kanal di titik x.

dq = - Cox (W dx)[v\GS – v(x) – Vt]

Tegangan vDS menghasilkan medan listrik sepanjang kanal. Medan listrik pada titik x: dx x dv x E( )   ( )

Medan listrik E(x) menyebabkan muatan elektron dq bergerak ke arah drain dengan kecepatan:

dx dq dt dq i dx x dv x E dt dx n n ) ( ) (     

(9)

Hubungan iD - vDS o x o x o x

t

C

(10)

Walaupun dievaluasi pada titik tertentu, arus i harus konstan pada semua titik di sepanjang kanal. i harus sama dengan arus dari source ke drain dan berlawan arah dengan arus dari drain ke source (iD)

2

2 1 0 0 ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ( DS DS t GS o x n D L v t GS o x n D t GS o x n D t GS o x n D v v V v L W C i x dv V x v v W C dx i x dv V x v v W C dx i dx x dv V x v v W C i i D S                    

   

Harga arus pada ujung daerah trioda atau permulaan daerah jenuh dapat diperoleh dengan menggantikan vDS=vGS – Vt

2 2 1 t GS o x n D v V L W C i        

µnCox disebut parameter transkonduktansi proses. Dituliskan sebagai kn

(11)

(daerah jenuh) ioda) (daerah tr 2 ' 2 1 2 2 1 ' t GS n D DS DS t GS n D V v L W k i v v V v L W k i     

Jadi arus drain sebanding dengan perbandingan lebar kanal dan panjang kanal, yang disebut ‘aspect ratio’ dari MOSFET

MOSFET kanal-p

MOSFET kanal-p jenis ’enchancement’ (PMOS), dibuat pada substrate jenis n dengan daerah p+ pada drain dan source. Cara kerjanya sama dengan

(12)

Complementary MOS atau CMOS

Gambar 9. Rangkaian terintegrasi CMOS

Pada teknologi CMOS, transistor NMOS diimplementasiikan langsung pada substrate jenis p, sedangkan transistor PMOS dibuat pada n-well. Kedua divais diisolasi satu dengan lainnya dengan oksida yang tebal sebagai insulator.

(13)

Karakteristik arus dan tegangan.

Lambang rangkaian

Gambar 10. Lambang MOSFET kanal n jenis enhancement

(14)
(15)

Kurva karakteristik menunjukkan 3 daerah kerja: 1. daerah ‘cutoff’

2. daerah trioda 3. daerah jenuh.

• Daerah jenuh dipakai bila FET bekerja sebagai penguat.

• Daerah cutoff dan trioda digunakan bila FET bekerja sebagai saklar. FET pada daerah cutoff jika: vGS < Vt

Pada daerah trioda:

vGS ≥ Vt (induced channel)

vGD > Vt (continuous channel)

vGD = vGS – vDS vGS – vDS > Vt

vDS < vGD – Vt (continuous channel)

Jadi MOSFET kanal –n jenis ‘enchancement’ berkerja di daerah trioda jika vGS lebih besar dari Vt dan tegangan pada drain lebih rendah dari tegangan gate minimal sebesar Vt volt

(16)

o x n n DS DS t GS n D C k v v V v L W k i

    ' 2 2 1 '

Jika vDS cukup kecil, vDS2 dapat diabaikan.

GS t

DS n D v V v L W k i  ' 

rDS adalah resistansi linier yang dikendalikan oleh vGS. Jika vGS = VGS, maka

                         OV n DS t GS OV GS GS DS t GS n D DS DS V L W k r V V V V v v V V L W k i v r ' 1 ' 1 ) dan kecil (untuk

(17)

Batas antara daerah trioda dan daerah jenuh:

vDS = vGS – Vt

Arus iD pada keadaan jenuh '  2 2 1 t GS n D v V L W k i  

Pada keadaan jenuh:

arus iD tidak tergantung dari tegangan drain, vDS

arus iDditentukan oleh tegangan gate, vGS

MOSFET menjadi sebuah sumber arus ideal yang harganya dikendalikan oleh vGS

Catatan: ini adalah model rangkaian ekivalen sinyal besar Pada batas antara daerah trioda dan daerah jenuh:

2 ' 2 1 DS n D v L W k i

MOSFET bekerja di daerah jenuh jika:

vGS ≥ Vt (induced channel)

vGD ≤ Vt (pinched-off channel)

vDS ≥ vGS – Vt (pinched-off channel)

Jadi MOSFET kanal –n jenis ‘enhancement’ bekerja pada daerah jenuh jika vGS lebih besar dari Vt dan tegangan drain tidak lebih kecil dari tegangan gate melebihi Vt volt

(18)

Gambar 12. karakteristik iD - vGS transistor NMOS jenis enhancement pada keadaan jenuh (Vt = 1 V dan kn’(W/L) = 1,0 mA/v2

(19)

Gambar 13. Rangkaian ekivalen model sinyal besar dari NMOS pada daerah jenuh

(20)

Gambar 14. Level relatif tegangan terminal transistor NMOS yang beroperasi pada daerah trioda dan daerah jenuh.

(21)

Resistansi keluaran pada keadaan jenuh

Gambar 15. Kenaikan vDS melebihi vDSsat yang menyebabkan titik ‘pinch-off’ sedikit menjauh dari drain

vDS naik melebihi vDSsat, titik ‘pinched-off’ dari kanal bergeser menjauhi drain

menuju source, sehingga ada daerah ‘depletion’ antara drain dan ujung kanal. Akibatnya panjang kanal akan berkurang.

 Keadaan ini disebut ‘channel-length modulation

 Karena iD berbanding terbalik dengan panjang kanal, maka iD naik dengan naiknya vDS.

 Untuk menghitung ketergantungan iD pada vDS pada keadaan jenuh, ganti L dengan (L – ΔL)

(22)

 

2 ' 2 1 2 ' 2 1 2 ' 2 1 1 1 1 t GS n t GS n t GS n D V v L L L W k V v L L L W k V v L L W k i                  Diasumsikan (ΔL/L) << 1

Jika ΔL sebanding dengan vDS :

ΔL = λ’vDS

λ’ parameter teknologi proses dengan dimensi µm/V

 

t GS DS n D v V v W k i L V v v L L W k i                  1 ' ' 1 2 ' 1 2 ' 2 1

(23)

23

Gambar 15. Efek vDS pada iD pada daerah jenuh

Ektrapolasi garis lurus pada kurva karakteristik iD – vDS akan memotong sumbu vDS pada titik vDS = - 1/λ ≡ -VA.

vA = 1/λ

Untuk suatu proses tertentu, VA sebanding dengan panjang kanal L. VA = VA’L

(24)

Gambar 17. Model rangkaian sinyal besar dari MOSFET kanal -n pada keadaan jenuh dengan adanya resistansi ro

Catatan: divais dengan kanal yang lebih pendek lebih terpengaruh dengan efek ‘channel-length modulation’.

(25)

‘Channel-length modulation’ menyebabkan adanya resistansi keluaran (tidak ∞), ro

D A o D o t GS n o v DS D o I V r I r V V L W k r v i r G S                        1 1 2 ' 1 2 k o n stan  

Dimana ID adalah arus drain tanpa memperhitungkan ‘channel-length modulation’

(26)

Karakteristik MOSFET kanal p

(27)

Untuk menginduksi sebuah kanal harus dipasang tegangan pada gate lebih kecil dari Vt.

vGS ≤ Vt (induced channel)

vSG ≥ |Vt|

Untuk bekerja di daerah trioda:

vDS ≥ vGS – Vt (continuous channel)  

o x p p DS DS t GS p D C k v v V v L W k i      ' 2 2 1 ' vGS, Vt dan vDS negatif µp = 0,25 – 0,5 µn

Untuk bekerja di daerah jenuh:

vDS ≤ vGS – Vt (pinched-off channel)

GS t

 

DS

p D v V v L W k i21 '  2 1

vGS, Vt, λ dan vDS negatif

(28)

Agar transistor PMOS bekerja, tegangan gate harus dibuat lebih rendah dari tegangan source sedikitnya sebesar |Vt|. Untuk bekerja di daerah trioda, tegangan drain harus lebih besar dari tegangan gate minimal sebesar |Vt|, jika tidak, PMOS bekerja di daerah jenuh.

Gambar 19. Level relatif tegangan terminal transistor PMOS yang beroperasi pada daerah trioda dan daerah jenuh.

(29)

Peranan substrate – the body effect Dalam banyak pemakaian:

– substrate dihubungkan dengan source

– pn junction antara substrate dan gate selalu ‘off’.

Pada keadaan ini substrate tidak berperan dalam kerja rangkaian.

Pada IC, banyak MOS menggunakan substrate yang sama. Agar junction antara substrate dan gate selalu ‘off’:

– Substrate dihubungkan ke tegangan yang paling negatif untuk rangkaian NMOS

– Substrate dihubungkan ke tegangan yang paling positif untuk rangkaian

PMOS

Akibatnya tegangan reverse-bias antara source dan body (VSB pada divais kanal n) akan mempengaruhi kerja divais.

Reverse bias ini akan:

– Memperlebar daerah ‘depletion’ – Mengurangi kedalaman kanal

(30)

Efek dari VSB pada kanal dinyatakan dengan perubahan Vt

f S B f

t

t V V

V0

2

  2

Vt0 = tegangan ambang untuk VSB = 0

φf = parameter fisik; biasanya f = 0,6 V

γ= parameter proses pembuatan

OX S A C qN    2 q= 1,6 x 10-19 C NA = konsentrasi doping εS = permitivitas silikon = 11,7 ε0 = 11,7 x 8,854 x 10-12

(31)

Pengaruh suhu

Vt dan k’ sensitif terhadap suhu – Vt turun 2 mV/°C

iD berkurang dengan naiknya suhu Breakdown dan proteksi input

• Breakdown terjadi jika tegangan drain naik mencapai harga dimana pn junction antara drain dan substrate mengalami breakdown avalanche.

• Akibatnya akan ada peningkatan arus.

• Keadaan ini terjadi pada tegangan 20 – 150 V. Punch-through adalah efek lain dari breakdown. • Terjadi pada tegangan yang lebih rendah (20V).

• Terjadi pada divais yang mempunyai kanal pendek yaitu pada saat tegangan drain naik ke suatu titik di mana daerah depletion sekitar drain melewati kanal dan mencapai source.

• Arus drain akan naik dengan cepat.

(32)

Breakdown oksida gate terjadi bila tegangan melebihi 30V.

• Breakdown ini menyebabkan kerusakan permanen pada divais

• Penyebabnya adanya akumulasi muatan statik pada kapasitor gate yang dapat melebihi tegangan breakdown-nya.

• Untuk mencegah akumulasi muatan statik pada kapasitor gate, dipasang alat proteksi pada terminal masukan dari IC MOS yang terdiri dari rangkaian dioda penjepit (clamping diodes)

(33)

Summary Transistor NMOS: Simbol Tegangan overdrive: vOV = vGS – Vt vGS =Vt + vOV

Bekerja di daerah trioda:

•Kondisi:

vGS ≥ Vt ↔ vOV ≥ 0

(34)

 

2

2 1 DS DS t GS OX n D v V v v L W C i     • karakteristik i – v • Untuk vDS << 2(vGS – Vt) ↔ vGS << 2 vOV          n OX GS t D DS DS v V L W C i v r 1 

Bekerja di daerah jenuh:

• Kondisi: • vGS ≥ Vt ↔ vOV ≥ 0 vGD ≤ Vt ↔ vDS ≥ vGS – Vt ↔ vDS ≥ vOV • Karakteristik D n i – vOXvGS Vt   vDSL W C i  12   2 1 

(35)

Model rangkaian ekivalen sinyal besar   D A t GS OX n o I V V V L W C r        1 2 2 1   dimana

2 2 1 t GS OX n D V V L W C I    Tegangan ambang:

f S B f

t t V V V0

2

  2

(36)

Parameter proses:

V12

2 V 1 m V V A F/m 1 ' ' 2 OX S A A A A OX n n OX OX OX C qN V L V V C k t C            Konstanta: ε0 = 8,854 x 10-12 F/m εOX = 3,9 ε0 = 3,45 x 10-11 F/m εS = 11,7 ε0 = 1,04 x 10-10 F/m q = 1,602 x 10-19 C

(37)

Transistor PMOS

Simbol:

Tegangan overdrive:

vOV = vGS – Vt vSG =|Vt| + |vOV|

Bekerja di daerah trioda:

•Kondisi:

vGS ≤ Vt ↔ vOV ≤ 0 ↔ vSC ≥ |Vt|

(38)

Bekerja di daerah jenuh:

• Kondisi:

vGS ≤ Vt ↔ vOV ≤ 0 ↔ vSG ≥ |Vt|

vDG ≤ |Vt| ↔ vDS ≥ vGS – Vt ↔ vDS ≥ |vOV|

• Karakteristik i – v

Mempunyai hubungan yang sama seperti pada transistor NMOS kecuali:

µn, kn dan NA diganti dengan µp, kp dan ND

Vt, Vt0, VA, λ dan γ bernilai negatif •Model rangkaian ekivalen sinyal besar

  VA V V W C r      1 2 1  

(39)

Contoh soal:

Sebuah MOSFET mempunyai Lmin = 0,4μm, tOX = 8 nm, μn = 450 cm2/Vs

dan Vt = 0,7 V.

a. Carilah COX dan k’n.

b. Untuk MOSFET dengan W/L = 8 μm/0,8μm, hitunglah harga VGS dan

VDSmin yang diperlukan agar transistor bekerja di daerah jenuh dengan arus dc ID = 100 μA

c. Untuk MOSFET pada (b), carilah harga VGS yang diperlukan agar MOSFET bekerja sebagai resistor 1000 Ω untuk vDS yang sangat kecil Jawab: a. 2 6 -2 2 ' 2 2 3 9 11 A/V 194 (F/V.s ) 10 194 ) m (fF/ 4,32 V.s ) / (cm 450 m fF/ 4,32 F/m 10 32 , 4 10 8 10 45 , 3                      OX n n OX OX OX C k t C

(40)

Untuk bekerja di daerah jenuh:

V 32 , 0 V 02 , 1 V 32 , 0 7 , 0 7 , 0 8 , 0 8 194 100 mi n 2 2 1 2 ' 2 1             t GS DS GS GS GS t GS n D V V V V V V V v L W k I

Untuk MOSFET di daerah trioda dengan vDS sangat kecil:

0,7

10 10 194 1 1000 1 6 ' '                t GS n k ec i l v D DS DS DS t GS n D V V V L W k i v r v V v L W k i D S

(41)

Rangkaian MOSFET pada DC Contoh soal

Rancanglah rangkaian seperti pada gambar di samping ini sehingga transistor bekerja pada ID

= 0,4 mA dan VD = +0,5 V. Transistor NMOS mempunyai Vt = 0,7 V, μnCOX = 100 μA/V2, L =

1μm dan W = 32 μm. Abaikan pengaruh channel-length modulation (λ = 0)

(42)

Jawab:

VD = 0, 5 V > VG → NMOS bekerja pada daerah jenuh.

 2 2 1 t GS OX n D V V L W C I    VGS – Vt = VOV; ID = 0,4 mA = 400 μA; μnCOX = 100 μA/V2 dan W/L = 32/1 2 2 1 1 32 100 400    VOV VOV = 0,5V VGS = Vt + VOV = 0,7 + 0,5 = 1,2 V VG = 0 → VS = - 1,2 V         k 25 , 3 4 , 0 ) 5 , 2 ( 2 , 1 D SS S S I V V R Untuk mendapatkan VD = +0,5 V:       5 , 0 5 2, I V V R D D DD D

(43)

Rancang rangkaian seperti gambar 21 untuk mendapatkan arus ID = 80 μA. Cari harga R dan tegangan DC VD.

Transistor NMOS mempunyai Vt = 0,6 V, μnCOX = 200 μA/V2, L = 0,8 μm dan

W = 4μ. (asumsikan λ=0)

(44)

Jawab:

VDG = 0 →VD = VG dan FET bekerja di daerah jenuh

                     k 25 080 , 0 1 3 V 1 V 1 4 , 0 6 , 0 V 4 , 0 8 , 0 4 200 80 2 2 21 2 2 2 1 D D DD G D OV t GS OX n D OV OV OX n t GS OX n D I V V R V V V V V L W C I V V L W C V V L W C I

(45)

Rancanglah rangkaian pada gambar 22 agar tegangan drain = 0,1V.

Berapakah resistansi antara drain dan source pada titik kerja ini ? Vt = 1 V dan kn’(W/L) = 1 mA/V2.

(46)

 

 

                    253 395 , 0 1 , 0 k 4 , 12 395 , 0 1 , 0 5 m A 0,395 01 , 0 1 , 0 1 5 1 21 2 2 1 ' D DS DS D D DD D D DS DS t GS n D I V r I V V R I V V V V L W k I Jawab:

VD = VG – 4,9 V dan Vt = 1 V → MOSFET bekerja di daerah trioda. Jadi arus ID :

(47)

Analisa rangkaian pada gamabr 23(a) untuk menentukan tegangan di semua node dan arus di semua cabang. Diketahui Vt = 1 V dan kn’(W/L) = 1 mA/V2. (asumsikan λ = 0)

(48)

Gambar 23 (b) Rangkaian dengan analisis terinci

Jawab:

Karena arus gate = 0, tegangan gate:

V 5 10 10 10 10 1 2 2       G G G DD G R R R V V

(49)

VG > 0 → transistor NMOS bekerja.

Asumsikan transistor bekerja di daerah jenuh.

VG = 5 V VS = ID x RS = ID (mA) x 6 kΩ = 6 ID VGS = VG – VS = 5 – 6ID     V 7 5 , 0 6 10 V 2 3 5 V 3 6 5 , 0 m A 5 , 0 : Jadi off' ' trans is tor V 34 , 5 89 , 0 6 m A 89 , 0 m A 5 , 0 m A; 89 , 0 0 8 25 18 1 6 5 1 1 2 1 2 2 2 1 2 ' 2 1                                 D GS S D G S S D D D D D D t GS n D V V V I V V V I I I I I I V V L W k I

(50)

Rancang rangkaian seperti pada gambar 24 sehingga transistor bekerja di daerah jenuh dengan ID = 0,5 mA dan VD = +3 V. Transistor PMOS jenis ‘enchancement’ mempunyai Vt = -1 V dan kp’(W/L) = 1 mA/V2. Asumsikan λ = 0.

Berapa harga terbesar RO agar tetap bekerja di daerah jenuh?

(51)

ID = 0,5 mA dan kp’W/L = 1 mA/V2 maka:

VOV = -1 V

(untuk PMOS Vt negatif)

VGS = Vt + VOV = - 1 – 1 = - 2 V

VS =+5 V → VG = +3 V

VG = +3 V dapat diperoleh dengan memilih harga RG1 dan RG2. Salah satu kemungkinan RG1 = 2 MΩ dan RG2 = 3 MΩ     6k 5 , 0 3 D D D I V R

Bekerja pada mode jenuh: VD harus lebih besar dari VG sebanyak |Vt|

VDmax= 3 + 1 = 4 V

RD = 4/0,5 = 8 kΩ

Jawab:

MOSFET bekerja di daerah jenuh:

2 ' 2 1 2 ' 2 1 p OV t GS p D V L W k V V L W k I   

(52)
(53)

53

Transistor NMOS dan PMOS mempunyai kesesuaian dengan kn’(W/L) = kp’(W/L) = 1 mA/V2, V

tn = -Vtp = 1 V.

Asumsikan λ = 0 untuk kedua transistor. Carilah arus drain iDN dan iDP dan

vO untuk vI = 0 V, +2,5V dan -2,5V

Jawab:

Gambar (b) menunjukkan bila vI = 0V. Kedua transistor ‘matched’ dan

bekerja pada |VGS| = 2,5V → vO = 0V

Jadi QN dan QP bekerja dengan |VGD| = 0 V → bekerja pada daerah jenuh. IDN = IDP = ½ x 1 x (2,5 – 1)2 = 1,125 mA

Gambar (c) menunjukkan bila vI = 2,5V. Transistor QP mempunyai VGS = 0 V → ‘cutoff’ → vOnegatif → VGD > Vt → bekerja pada daerah trioda.

IDN = kn’ (Wn/Ln)(VGS – Vt)VDS

= 1[(2,5 – (-2,5) – 1][vO – (-2,5)]

IDN (mA) = (0 – vO)/10 (kΩ) IDN = 0,244 mA ; vO = -2,44 V

VDS = -2,44 – (-2,5) = 0,06 V

Gambar (d) menunjukkan bila vI = -2,5 V. Kasus ini kebalikan dari kasus gambar (c). Transistor QN akan ‘cutoff’ → IDN = 0. QP bekerja pada daerah trioda dengan I = 2,44 mA dan v =+2,44 V

(54)

MOSFET sebagai Penguat dan Saklar

MOSFET sebagai penguat:

– Bekerja di daerah jenuh

– Berperan sebagai sumber arus yang dikendalikan oleh tegangan

(VCCS). Perubahan pada tegangan

v

GS

akan mengubah arus

drain

i

D

.

MOSFET yang bekerja di daerah jenuh dapat dipakai untuk

membuat penguat transkonduktansi (transconductance amplifier).

Yang diinginkan penguat linier; jadi harus ada

‘bias dc’ agar

MOSFET bekerja pada

V

GS

dan

I

D

tertentu, kemudian ditumpangkan

tegangan

v

gs

yang akan diperkuat pada tegangan dc

V

GS

. Dengan

menjaga

v

gs

kecil arus drain,

i

d

dapat dibuat sebanding dengan

v

gs

(55)

Cara kerja Sinyal Besar – Karakteristik Transfer

Gambar 26(a) Struktur dasar rangkaian penguat ‘common source’

(b) Grafik yang digunakan untuk menentukan karakteristik transfer penguat pada gambar (a)

(56)
(57)

Penurunan karakteristik transfer secara grafis.

Pada rangkaian CS drain dihubungkan ke catu daya VDD melalui RD,

sehingga diperoleh hubungan iD dan vDS sebagiai berikut:

DS D D DD D D D DD DS v R R V i i R V v 1    

Secara kuantitatif,rangkaian bekerja sebagai berikut:

vI = vGS.

Untuk vI < Vt → transistor ‘cutoff’, iD = 0, vO = vDS = VDD. Transistor bekerja pada titik A.

vI > Vt → transistor ‘on’, iD meningkat, vO menurun. Karena vO bermula dengan harga yang tinggi, transistor bekerja dalam keadaan jenuh. Keadaan ini ditunjukkan oleh garis beban antara titik A dan B.

(58)

vI < Vt → vDS = vGS – Vt → MOSFET memasuki daerah kerja trioda. Pada

kurva ditunjukkan dengan titik B yang memotong garis beban dengan kurva garis terputus yang mendefinisikan batas antara daerah jenuh dan daerah trioda. Ttitk B didefinisikan sebagai:

VOB = VIB – Vt

Untuk vI > VIB, transistor makin masuk ke daerah trioda. Pada titik C, vI= VDD, vOC biasanya kecil sekali.

Titik-titik pada kurva hubungan iD – vDS di gambar 26(b) menghasilkan kurva transfer pada gambar 26(c)

(59)

MOSFET Bekerja Sebagai Saklar

.

Jika MOSFET dipakai sebagai saklar, MOSFET bekerja pada titik-titik ekstrim dari kurva transfer.

MOSFET off bila vI < Vt → bekerja pada titiik antara X dan A dengan vO = VDD. Saklar ‘on’ dengan vI mendekati VDD → bekerja mendekati titik C dengan vO

sangat kecil.

Jadi CS MOS dapat digunakan sebagai inverter logik dengan level tegangan ‘low’ mendekati o dan’high’ mendekati VDD.

MOSFET Bekerja Sebagai Penguat Linier

MOSFET sebagai penguat → bekerja di daerah jenuh.

MOSFET diberi bias dc pada titik di tengah-tengah kurva. Titik ini disebut titik kerja atau quiescent point.

Sinyal tegangan yang akan diperkuat, ditumpangkan pada tegangan dc VIQ. (lihat gambar 26(c)).

Syarat linier:

(60)

Faktor penguatan: i IQ V v i o v dv dv A  

Cara memilih titik kerja.

VDSQ harus lebih kecil dari VDD dan lebih besar dari VOB sehingga dapat mengakomodasi harga simpangan maksimum dan simpangan minimum dari tegangan keluaran.

Jika VDSQ terlalu dekat dengan VDD, harga simpangan maksimum sinyal keluaran akan ‘terpotong’ (clipped off). Pada keadaan ini dikatakan penguat tidak mempunyai cukup ‘headroom’.

Jika VDSQ terlalu dekat dengan batas trioda, harga simpangan minimum sinyal keluaran akan terdistorsi. Pada keadaan ini dikatakan penguat tidak mempunyai cukup ‘legroom’.

(61)

Gambar 27. Dua garis beban dan titik kerjanya.

Titik Q1 terlalu dekat dengan VDD, dan titik Q2 terlalu dekat dengan batas daerah trioda.

Gambar

Gambar 1. Struktrur fisik transistor NMOS jenis enhancement
Gambar 3. Transistor NMOS dengan v GS  &gt; V t  dengan tegangan v DS  terpasang
Gambar 4. Karakteristik i D  – v DS  dari MOSFET
Gambar 5. Cara kerja transistor NMOS jenis enhancement dengan  meningkatnya v DS
+7

Referensi

Dokumen terkait

Kom*tensi yan+ diuji: Menjelaskan cara kerja kepala silinder dan.. mekanisme katup sesuai literatur .. Indikator: Siswa mampu menjelaskan tentang

Komposisi asam amino essensial dari rumput laut seringkali dipelajari dan dikaitkan dengan komposisi asam amino essensial pada produk makanan lain yang berprotein tinggi

Dalam melaksanakan kegiatan investigasi kecelakaan tranportasi, Ketua KNKT menugaskan Sub Komite Investigasi Kecelakaan Perkeretaapian, Sub Komite Investigasi

Dengan demikian dapat disimpulkan bahwa penerapan metode Picture and Picture dapat meningkatkan keterampilan menulis narasi pada siswa kelas IV SDN 1 Talunombo Wonogiri

$onduksi dan kon#eksi pada hean poikiloterm yang hidup bergantung pada keseimbangan suhu tubuhnya dengan kondisi air di sekelilingnya. $enaikan suhu tubuh akan

• Pengembalaan bergilir (rotation grassing), merupakan tata laksana padang rumput yang intensif yang dilakukan pada padang pengembalaan permanen. Ternak dimasukan se-

Apa usaha yang ibu lakukan agar pelaksanaan pembelajaran fiqih kelas VIII betul-betul dapat dilaksanakan guru dengan sebaik-baiknya?.?. Untuk Guru Mata Pelajaran Fiqih Kelas VII