フッ素化テクノロジー
CC-23
ダイキンのフッ素化テクノロジー
ダイキンでは、ユーザーのみなさまの新しい含フッ素材料の開発をお手伝いす るべく、さまざまなフッ素化剤を取り揃えています。また、将来の工業化のために 独自の工業用フッ素化テクノロジーを用意しています。ダイキンはホタル石から、
これら種々のフッ素化剤を製造していますフッ素の総合メーカーです。フッ素化 に関することは何なりとご相談ください。
1
1 1
新規化合物探索用フッ素化剤
クラス最高の有効フッ素含量を誇る強力な求電子フッ素化剤:MEC-31(バルク対応可能)
実験室で比較的、安全にお使いいただけるダイキンの各種フッ素化剤です。
MEC-01シリーズは試薬のみの販売ですが、MEC-31、MEC-81、MEC-82はバルク対応が可能です。
2 工業用フッ素化テクノロジー
上記の各種フッ素化剤により、有望な新規含フッ素化合物が開発されましたら、ご相談ください。
ダイキン独自の工業用フッ素化テクノロジーでお応えいたします。
もっとも安価なフッ素化方法のひとつです。ダイキンでは過激なフッ素ガスの反応性を コントロールするテクノロジーを有しています。
求核的および求電子的な反応位置の両方をフッ素化できるユニークなダイキン独自のテクノロジーです。
2 1
フッ素ガスによる直接フッ素化2 2
IF5 / Et3N・3HF 錯体によるフッ素化1 2
優れた反応選択性を示す求電子フッ素化剤:MEC-01シリーズ1 3
取り扱い易いFアニオンである求核フッ素化剤:MEC-81、MEC-82(バルク対応可能)N N F
F
MEC-31
MEC-01
MEC-81 MEC-82
MEC-02 MEC-03 MEC-04B MEC-05
+ +
2(BF4-)
N SO3- F
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+ CH3
H3C
CH3
F3C
F3C
CF3
F3C
CF
3CHFCF
2N(C
2H
5)
2(C
2H
5)
3N・ 3HF
○重量当たりの有効フッ素含量が最も高い強力なフッ素化剤です。分子内の2個のフッ素原子をほとんど同じ反応性で、
フッ素化に用いることができます。MEC-31の活性度はおよそMEC-03とMEC-04Bの間に位置します。
○自己反応性、爆発性のない室温で安定な結晶です。吸湿性もありませんので取り扱い易く、
ガラス容器を用いる通常の合成実験に問題なく使用できます。
○副生する2,2'-ビピリジルのHBF4塩は水溶性なので、希塩酸水溶液等による洗浄操作で取り除くことができ、
反応後の分離が容易です。
○触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムを添加剤として加えると、塩交換によりMEC-31の 有機溶媒への溶解度が上がり、反応時間が著しく短縮する場合があります。
1 1 求電子フッ素化剤:MEC-31(バルク対応可能)
特 徴
他の異性体との反応性の比較
化学名:N,N'-Difluoro-2,2'-bipyridinium Bis(tetrafluoroborate) 化学式:C10H8F10N2B2
分子量:367.79 外 観:白色結晶
融 点:166〜168℃(分解を伴う)
溶解度:CH3CN 4.7mg/ml(25℃)
有効フッ素含量:103g/kg CAS NO.:178439-26-4
MEC-31
N N
F 2(CF3SO3-) F
+ +
N N
F F
2(CF3SO3-)
+ +
2(CF3SO3-) N
N F
+ + F
2(CF3SO3-) N
N F
F + +
N F CF3SO3- +
N
F N
F 2(BF 4 - )
0 0 20 40 60 80 100
5 10 15 20 25
反応時間(hrs)
フッ素化体aの収率(%)
50℃でのジケトンのフッ素化速度の比較
FO O O
O
CD3CN
"F+"(0.5mmol)
1mmol 50℃ a
N F
CF3SO3- +
N N
F 2(CF3SO3-) F
+ +
2(CF3SO3-) N
N F
+ + F
2(CF3SO3-) N
N F
F + +
N N
F F
2(CF3SO3-)
+ +
MEC-31は空気中166℃付近で分解し始めます。この温度以上に加熱すると発熱的に分解反応を起こしますので、
高温になるところでの放置、保存は絶対に避けてください。このフッ素化剤の安定性は用いた試料の純度、保存状態、
その他の条件により変化する可能性があります。保存にあたっては、密閉し、冷蔵庫で行うようお願いします。
フッ素化反応例
O O F
COOEt O
F
COOEt O
F Ph Ph
O O F
Ph Ph
O O
F F
F
F
F
F
NHCOOEt
NHCOOEt NHCOOEt F
F
F
F AcO
F O
O
O
F F
F N
N
OAc AcO
OAc Et3SiO
+
F
F OH
OH
OH OH
OH
+ 20mol% NaOTf
20mol% TfOH
OH F
F OH F
conv. 82%
conv. 88%
50mol% NaHCO3
76% 73%
2BF4- 82%
76%
10%
39%
OCH3
+
OH
33%
OH
5%
O
5%
F
F F
32%
48%
51%
OCH3
(a/b=1/1.7)
OCH3 +
OCH3
(a/b=1/1.4) OAc
OAc
OAc
19%
in AcOH
+
F F
F
F +
50mol% NaHCO3 46%
82%
conv. 79%
+
72%
10%
+ +
+ reflux, 10min
in CH3CN reflux, 8h in CH3CN
reflux, 8h in CH3CN
in CH3CN reflux, 48h
70¡C, 10min in CH3CN in CH3CN r.t. 30min
in CH3CN in CH3CN
reflux, 8h
in CH3CN in CH3CN
r.t. 10min
conv. 85%
reflux, 9h
in HCOOH reflux, <5min
reflux, 48h
61%
18%
Diastereomer ratio 1:1
NHCOOEt
39%
O O
COOEt
O O COOEt
28% 6%
Ph Ph
O O
reflux, 15min
OH
OH
OH
MEC-31
Umemoto,T. ; Nagayosi,M.;Adachi,K.;Tomizawa,G. J.Org.Chem.,1998,63,3379 MEC-31の反応溶媒としては、アセトニトリルが最も適しています。また、 -プチロラクトンやギ酸は、
MEC-31をよく溶解し溶媒として適しています。塩化メチレンやジクロロエタン等の無極性ハロゲン溶媒には、
ほとんど溶解しませんが、触媒量のトリフルオロメタンスルホン酸ナトリウムを添加することにより、有効な場合があります。
DMSOやDMFはMEC-31と反応するため反応溶媒には適しません。
反応系に触媒量、または当量の酸等を添加することによって、フッ素化の反応性を高めることができます。
酸等としては、通常の酸(ブレンステッド酸)またはルイス酸が有効です。
フッ素化する化合物が、あるいはまたフッ素化された生成物が酸性条件下Fで不安定化する場合、
添加剤として当量の炭酸水素ナトリウムの共存下にフッ素化を行うことが効果的です。
○位置および立体選択性に優れた F+ の導入試薬。
特にフェノール類のオルト位を高選択的にフッ素化することができます。
○MEC-01シリーズの反応性は、
MEC-01<MEC-02<MEC-03<MEC-04B<MEC-05 の順に高くなります。
一般に反応性の低い基質には反応性の高いフッ素化剤が、反応性の高い基質には反応性の低いフッ素化剤が、
最適の収率をもたらします。フッ素化剤を選ぶことで、さまざまな基質のフッ素化が可能です。
○取り扱い易く、ガラス容器で反応が可能。
○反応後の分離が容易。
副生するピリジンスルホン酸は水溶性なので、水洗等の操作で容易に取り除くことができます。
○酸触媒添加により、反応性が高まります。
特 徴
1 2 求電子フッ素化剤:MEC-01シリーズ
MEC-01 MEC-02 MEC-03 MEC-04B MEC-05
N SO3- F
C7H8FNO3S Mw : 205.21 mp : 207~212℃
CAS No.147541-01-3
C6H6FNO3S Mw : 191.18 mp : 203~208℃
CAS No.147540-88-3
C6H3F4NO3S Mw : 245.15 mp : 225~234℃
CAS No.147541-08-0
C6H3F4NO3S Mw : 245.15 mp : 203~206℃
CAS No.231285-89-5
C7H2F7NO3S Mw : 313.15 mp : 172~174℃
CAS No.147541-03-5
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+
N SO3- F
+ CH3
H3C
CH3
F3C
F3C
CF3
F3C
OH OH OH
F
F
NHCO2Et NHCO2Et NHCO2Et
F
F MEC-04B +
Cl2CHCH2Cl, 100℃
(88%) (~0%)
+
MEC-04B
Cl2CHCH2Cl, reflux
(85%) (7%)
OCOCH3
i-Pr3SiO
OCOCH3
O
F
OCOCH3
O F MEC-02
CH2Cl2, r.t.
(93%, α /β =1/4) (~0%)
N SO3- F
+ R
H+(たとえば、 CF3SO3H)
-SO3H 基は強い電子求引性)
N SO3H F
+ R N SO3-
F N SO3H
求核性基質
フッ素化生成物
+
+
R R
(
これらのフッ素化剤 MEC-01シリーズは、塩化メチレンやジクロロメタン等の無極性ハロゲン系溶剤には見かけ上、ほ とんど溶解しませんがこれらを溶媒として使用すると、フッ素化剤の活性度を低下させることなく、選択性の高いフッ素化が できます。THFやEt2O等のエーテル系溶媒は、フッ素化剤の活性度を著しく低下させますが、反応性の高い化合物の反応や、
MEC-05のような活性度の高いフッ素化剤を用いる場合には有効です。アセトニトリル等のニトリル系溶媒には比較的よく 溶解するため短時間で反応が完結します。
一方、極性溶媒であるDMSOやDMFについては、MEC-01,02はよく溶解するため好ましい溶媒となりますが、活性度の高い MEC-03,04B,05とは激しく反応するため使用できません。また、酸性のヘキサフルオロイソプロパノール(CF3)2CHOHは溶 解度が高く、しかも反応活性を高める好適な反応溶媒として使用できます。
+ -
MEC-01 MEC-02 MEC-03 MEC-04B MEC-05
R1,3=CH3, R2,4=H R1,2,4=H, R3=CH3 R1,3,4=H, R2=CF3 R1=CF3, R2,3,4=H R1,3=CF3, R2,4=H
N R3
R4 SO3 R1
R2
F Me3SiO
OAc
MEC-02 MEC-03 AcO
OAc O
F O
O
F F
主生成物 少量
78%
MEC-04B
6a+6b
6F 4F
O
COOEt F
85%
MEC-03 MEC-04B MEC-05
OH F
COOEt O
OH
OH F
OMe OMe
NHCOOEt NHCOOEt
F
F
F OH
OMe
NHCOOEt
CH2COOMe MEC-04B
MEC-05 MEC-04B
MEC-05 MEC-04B
MEC-05
CH2COOMe
F CH3
O O CH3
O O
F MEC-04B
MEC-05 MEC-01
MEC-01 Ph-S-CH2F
Ph-S-CH3 O
COOEt
O- Na+ COOEt F
83%
80%
30% : 53%
( conv. 81%) 69%
r.t. , 1 h in THF
CH2Cl2 CH3CN DMF
r.t.
r.t.
r.t.
30 hr 11 hr 3.5hr
84%
94%
〜 100%
17 / 1 7.5 / 1 8 / 1 6F / 4F 反応溶媒 温度 時間 収率 (NMR)
NaHCO3 in CH3CN, reflux, 2.2 h
(a/b) (1/2.9)
in CH3CN,
reflux, 20 min in CH3CN:CH2Cl2 (1:1),
r.t., 1.5 h
CH3CN THF
reflux r.t.
20 min 1 hr
86%
83%
反応溶媒 温度 時間 収率 (NMR) MEC-04B
MEC-05
Cl2CHCH2Cl ClCH2CH2Cl
reflux reflux
反応溶媒 温度 時間 収率 (NMR) MEC-04B
MEC-05
85%
58%
7%
9%
I II
OH
OH F
O F F
CH3CN CH2Cl2
reflux r.t.
1 min 5 min
反応溶媒 温度 時間 収率 (NMR) MEC-04B
MEC-05
I II
+
55%
63%
7%
3%
I II
+
I II
conv.
85%
87%
8 hr 2 hr
TfOH
in CH2Cl2
reflux, 5.5 h in Cl2CHCH2Cl
reflux, 10 h
100℃
100℃
reflux 18 hr 15.5 hr 2 hr MEC-03
MEC-04B MEC-05
Cl2CHCH2Cl Cl2CHCH2Cl CH2Cl2
反応溶媒 温度 時間 conv. 収率 (NMR) 59%
88%
80%
<1%
<1%
2%
I II
OH
F +
I II
71%
89%
88%
+ +
T.Umemoto and G.Tomizawa, J.Org.Chem.,1995,60,6563
○MEC-81はDAST(DiethylaminosulfurTrifluoride)と同様の反応性を示すFアニオンの求核的フッ素化剤です。
CF3CHFCF2N(C2H5)2とCF3CF=CFN(C2H5)2との約3:1の混合物ですが、反応条件下では 両者ともフッ素化に有効です。温和な条件で水酸基をフッ素に置換できます。
○MEC-82は、無水フッ酸に比べ非常に取り扱い易いHF源で、高沸点の液体です。
○MEC-81、MEC-82ともにバルク対応が可能です。
MEC-81; A. Takaoka, H.Iwakiri and N.Ishikawa, Bull.Chem.Soc.Jpn.,1979,52,3377.
反応例
1 3 求核フッ素化剤:MEC-81、MEC-82
化学名:1,1,2,3,3,3-Hexafluoro-1-diethylamino-propane 化学式:C7H11F6N 分子量:223.16
外 観:無色透明液体
沸 点:56℃ / 58mmHg 比 重:1.23 CAS No.309-88-6
MEC-81
化学名:Triethylamine trishydrofluorides 化学式:C6H18F3N 比 重:161.21 外 観:無色液体
沸 点:70℃ / 15mmHg 比 重:0.989 CAS No.73602-61-6
MEC-82 (C
2H
5)
3N・ 3HF CF
3CHFCF
2N(C
2H
5)
2MEC-81 n-C
6H
13F
n-C6H13 OH
+ Octene
PhCOF
PhCOOH
PhCHCOOEt
F
PhCHCOOEtOH
PhCH2CH2-OH
PhCH
2CH
2-F
n-C
8H
17-F
n-C8H17-OHn-C6H13COOH
n-C
6H
13COF
p-HOC6H4COOH
p-HOC
6H
4COF
(87%) (89%)
(66%)
(62%)
(25%)
(73%)
(75%)
(86%)
Et2O, rt, 20h Et2O, rt, 2h
Et2O, rt, 2h Et2O, rt, 2h
Et2O, rt, 20h
Et2O, rt, 20h Et2O, rt, 20h
C8H17 F
MeS OH
OH F
Br
Ph(CH2)3OMs
Ph(CH
2)
3F
CF3CFHCF2OCH2ClCF
3CFHCF
2OCH
2F
NBS in CH2Cl2, 0℃ , 2h Et3N in CH3CN, 80℃ , 20h
MeSS+Me2 BF4- in CH2Cl2, 0℃
90℃ , 8h (81%)
(96%) (96%)
(60%)
CF
3CHFCF
2N(C
2H
5)
2MEC-82
(C
2H
5)
3N・ 3HF
フッ素ガス(F2)は反応性や腐食性が極めて高く、その取り扱いには特殊な技術を必要とします。
フッ素ガスの工業生産を長年行っているダイキンでは、その取り扱いと反応性の制御に関して 豊富な経験を蓄積しております。
一般にはフッ素ガスは、酸化されやすい官能基を含む複雑な化合物のフッ素化には不適切ですが、
比較的簡単な化合物で活性点(反応点)も明確な場合は工業的にも有用なフッ素化剤として使用することができます。
下記にダイキンが保有するフッ素ガスを用いたフッ素化の技術を紹介します。
ダイキン特許(USP 5569778)
ダイキン特許(特公昭 63-25570)
ダイキン特許(特公平 4-78638)
ダイキン特許(特公昭 62-52749)
2 1 フッ素ガスによる直接フッ素化
F
2O N HN
O
RCOO Br O
RCOO O
N HN
O
RCOO Br O RCOO
F
1) F
2/N
2in HF 2) Et
3N in MeOH
NH N
NH2
O N
H N
NH2
O
1) F
2/N
2 Fin AcOH 2) Et
3N in MeOH
Ph COOEt O
Ph COOEt O
F
F
2/N
2in CH
3CN/
CCl
2FCClF
2COOEt O
COOEt
O O O
F F
O O
Ph Ph
O O
Ph Ph
O O
F F
F
2/N
2F
2/N
2F
2/N
2in CHCl
3/H
2SO
4in CHCl
3in CHCl
3(71%)
(66%) (96%)
O O
F
F
2/N
2in CHCl
3/H
2SO
4(87%)
CO2Et CO2Et
0℃ 0℃
0 ℃
○5フッ化ヨウ素(IF5)は、その反応性の制御が難しく、これまで通常の有機化合物のフッ素化にはほとんど 使われてきませんでした。しかしながら、IF5をEt3N・3HF塩と組み合わせて用いることにより反応の選択性が 格段に向上し、さまざまな有機化合物のフッ素化に適用できることが、北海道大学米田教授により見い出されました。
ダイキン工業では、この方法を安価で汎用な工業用フッ素化テクノロジーと位置づけ、
さまざまな含フッ素有機材料の工業的合成に応用しています。
○IF5 / Et3N・3HF塩を用いたフッ素化において、非常にユニークな点は、下記に示すとおり
有機化合物の求核的な反応位置と求電子的な反応位置の両方で、フッ素化反応が進行することです。
2 2 新規工業用フッ素化テクノロジー ―IF
5/Et
3N・3HF錯体によるフッ素化―
IF / Et
5 3N ・ 3HF
IF
5/Et
3N-3HF
CH3(CH2)13CO2H
CH
3(CH
2)
13COF
ArCH2OH
ArCH
2F
CH3(CH2)9OH
CH
3(CH
2)
9F
(84%)
(~83%)
(32%)
CH
3(CH
2)
9CHFCH
2I
NNH2 F F
R1 R2 NNHR3
R1 R2 F N=NR3
CH3(CH2)9CH=CH2 , I2 O
OH F
(70%)
(~80%) (75%)
(~50%)
S O
F F (~82%)
ArSCH3
ArSCHF
2(~50%) OH
R R
F
OH R R
(~50%)
OR
O O
OR
O O
F (70%) S S
C6H13 F F
C6H13 (64%)
O R R
F F
Zn, HCl Ar
S O Ar
求電子的な反応位置
求核的な反応位置
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