PENGARUH SURFAKTAN TERHADAP PEMBENTUKAN
KOMPOSIT POLISTIREN/SILIKA
Yeni Stiadi, Rahmayeni dan Sartika Sari Jurusan Kimia FMIPA Universitas Andalas
Emai I : ye ni s tiadi@fmipa. unand. ic.
id
ABSTRAK
Komposit polistiren/silika dibuat dengan menggunakan
polistiren
(EPS dan GPPS) dan tetraetil ortosilikat
(TEOS) sebagai prekursor melalui proses sol gel, Surfaktan yang digunakanadalah triton
X-100, tween dan span 60. TEOS dicampur dengan surfaktandalam
suatu wadah kemudian dimasukanke
dalam larutan
polistirenberpelarut
toluen.
Sementaraitu
dibuat
campuranetanol
denganNH3
25
%. Campuranini
kernudian didispersikan ke dalam wadah yang berisiTEOS,
surfaktan, polistiren dan toluenlalu
diaduk dandisentrifus.
Endapan yang terbentuk dicuci,dikeringkan
untuk
selanjutnya dikarakterisasi denganFTIR dan
SEN4. SpektrumFTIR dari
komposit memperlihatkan munculnya puncakpada
1.102cm'l
y-angmerupakan regangan asimetris
dari
ikatan
siloksanSi-O-Si,
puncak3.433
cm-rmerupakan
pita
regangankelompok
hidroksil dalam
Si-OH
dan
air.
Analisismikrostruktur
komposit
dengan
SEM
memperlihatkan
bahwa
kompositpolistiren/silika yang dibuat dengan menggunakan surfaktan
triton X-100
memilikibentuk
partikel yang bulat
dengan ukuran
lebih
homogen dibanding
dengan menggunakan surfaktan yang lain.Key lvords:
Komposit polistirenlsilika, soi gel. surfaktan
1.
{'ENDAHULUAN
Sintesis komposit polimer organiVanorganik telah menar"ik perhatian karena partikel
ini
memiliki
sifat gabLrngan antara material anorganik dan polimer dasar. Berbagaimateriai
koloid
anorganik
telah
digunakan
dalam
pembuatan
kompositPartikel komposit sub mikron yang dibuat dari polimer organik dan silika mempunyai
aplikasi dalam
katalisis, pendukung
bioaktif,
cat,
tempat
pengiriman
obat,semikonduktor,
kromatografi,
optik,
material pengisi, tempat
kemasanproduk-produk hasil industri, sebagai sumber pembentukkan silika meso porous dan banyak lagi kegunaan lainnya. (Antonietti,
M.,2000,
Honda,F.,2002,Xu, X.,2001).
Berbagai metoda
telah
dikembangkanuntuk
pembuatan komposit polimer organik/silika antaralain
deposisi lapisan demi lapisan, polimerisasidari
monomer organik dengan permukaan yang dimodifikasi silana dan partikel lateks yangdiikuti
dengan polikondensasi si-alkoksida, polimerisasidari
monomer organik
dengan adanyapartikel silika,
penggabunganpartikel koloidal silika
padapartikel
lateks dengan metoda penyemprotankering
atau ikatan kovalen dan polimerisasi emulsi bebas sabun menggunakankoloid
silika. Tissot dan kawan-kawan melaporkan pada deposisi lapisan silika pada partikel late... polistiren digunakan coupling agent untuk menggabungkankulit
daninti
material. (Caruso, F,
1998, Pastoriza-Santos, I., 2001, Tissot, L, 2001).Salah satu langkah
maju
telah dibuktikan dalam sintesis komposit polimer organik/anorganik yaitu dalam pembuatankomposit
polistiren/silika dengan prosessol
gel.
Proses
ini
telah
digunakan
dalam
pembuatan
partikel
kompositpolistiren/silika
dengan metoda monodispersisatu
tahap. Prosessol
gel
efektif
digunakan pada berbagaiteknologi
modern seperti pembuatannallopaitikel
yang cukup menarik dipelajari dan banyak penelitian telah diiakukanyaitu
nanoparrikei polistiren-ZnO. LapisanZnO
berpori atau bulatan-bulatan berongga terbentuk saatkomponen
organik dihilangkan
kemudianZnO
akan
terserappada
permukaanpolimer,
Hal
yang
samajuga
terjadi
pada pembuatankomposit
polistiredsilika.Di
dalam proses pembuatan komposit polistiren/silika digunakan surfaktan sebagai pengstabil emulsi campuran polistiren dan silika. Surfaktan merupakan bahan untuk menambah kemampuan kestabilan suatuzat
agar tetap terdipersi. Surfaktan adalah suatu senyawa yang mengandung gugushidrofilik
danlipofilik
sehingga dapat digunakan sebagai penghubung dua antar muka yang berbeda. Dalam pembentukan komposit pistirensilika,
surfaktan berindak sebagai penghubung antar muka antarapolimer polistiren
dengansilika
sehingga akan membentuk komposit dengan inti(polistriren) dan
kulit
(silika). (Jeongwoo L,20A6)'
Untuk
melihat
bagaimana
peranan surfaktan terhadap
pembentukkan komposit polistiren/silika maka telah dilakukan penelitian tentang pengaruh surfaktan terhadap pembentukkankomposit polistiren/silika
dengan prosessol
gel.
Dalam penelitianini
digunakan tigajenis
surfaktan yaitu tritonX-100,
tween, dan span 60 yang merllpakan surfaktan nonionik, sedangkan polistiren yang digunakan EpS dan GPPS.2.
METODE DAN BAHAN
Bahan
Bahan
yang
digunakan dalam penelitian
ini
adalah
poiimer
polistiren
EpS(Expandable polystyre;re). polistiren GPPS (General purpose polystyren), surfakran
(triton X-100,
span-60 dan tw'een), toluen, tetra etoksiorlo
silana (TEOS), etanol 98 %. amoninm hidoksida. sudanIII
dan aquabicies.Metode
Tetra
etoksi orto
silana(TEos)
sebanyak2
mL
dicampurkanke
dalam0,3
mLpolistiren-toluen. Sementara
itu
dibuat campuran larutan etanol dengan NH325
% yang perbandingan volume 5:
l.
Campuran larutan etanol dan NHaOH didispersikan ke dalam polistiren, toluen, TEOS dan surfaktan, kemudian distirer selama24
jam. Campuran larutan yang telah distirer, disentrifus selama 10 menit dengan kecepatan 6.000rpm.
Endapan yang terbentukdari hasil
sentrifusdicuci
dengan etanol dan aquabides dengan perbandingan volume I :1. Bubuk yang didapat dari hasil pencucian sebagian dikarakterisasi dengan FTIR, sebagian lainnya dikalsinasi pada suhu 5000Cselama 5
jam.
Hasil kalsinasi yang berupa bubuk putih dikarakterisasi dengan, FT1R, dan SEM.3.
HASIL DAN DISKUSI
Pada Gambar
1.
dapat
dilihat
spektrum
FTIR dari
polistiren
dan
kompositpolistiren/silika. Dalam spektrum polistiren (a) terlihat munculnya pita serapan pada bilangan gelombang 1.451, 1.497, 1.600, 2.919 d,an 3.022
cr,.-'.
untuk
kompositpolistiren/silika dengan surfaktan
triton x-100
sebelum kalsinasi
(b)
yangmemperlihatkan
pita
serapan pada 1.102cm-r
yang merupakan regangan asimelisdari
ikatan siloksan
si*o-si,
pada
pita
sekitar 1.390
cm-'
yang
menunjukan [image:4.595.17.585.27.787.2]keberadaan residu tidak terhidrolisis dari SiOCH2CH:, pita
ini
tidak diinginkan pada pengukuranFT-IR polistiren
setelah dikalsinasi karenamasih
terdapat senyawa-senyawa organik yang belum menglrap. Pita serapanFTIR
pad,a956 dan 3.433 cm-l merupakan regangankelompok hidroksil dalam
Si-OH
dan ikatan
-_OH akibat kontaminasi udara saat pengukuran. Puncak-puncak silika juga terlihat pada spektrum dari partikel setelah dikalsinasi(c)
dimanapita
serapan polistiren telah hilang dan puncak pada 1.634 cm-l adalah air yang terserap.Gambar
2.
memperlihatkan spektmmFTIR dari
komposit polistiren/silikaini
puncak-puncaksilika
juga
terlihat
padapartikel komposit
setelah dikalsinasiseperti yang diuraikan pada Gambar 1., sedangkan puncak pada 1.634 cm-l adalah air yang terserap.
(b)
(c) ,: l
:
,!
iz rD
.,:
inq i(i a?l
(at
3000 2000 1500
1000 450 c*-l [image:5.595.11.586.29.822.2]Gambar 1. Spektrum FTIR a) polistiren b) PS/silika dengan surfaktan triton
X
i 00 sebelum dikalsinasi, c) PS/silika dengan surfaktan tritonX
100 sesudah dikalsinasi.Gambar spektrum
ini
memperlihatkanpita
serapanyang
tidakjauh
berbeda satu dengan yang lain. Serapan polistiren dan zat organik lainnya telah hiiang dan puncak1'ang tidak diinginkan dari residu terhidrolisis SiOCHzCH3,
juga
ticlak muncr-rl pada spektrunr tersebut. Pita serapan3.464 dan3.436 cm-' merupakan regangan kelompokhidroksil dalam
si*oH.
Pita
serapan pad.a 1.102clan
1.103"m-,
menunjukkanregangan asimetris dari ikatan siloksan
Si-O-Si.
Pita serapan pada puncak 1639 dan 1.636cm-l
merupakan air yang terserap.berbentuk bulatan (spherik)
denganmemperlihatkan adanya penumpukan.
ukuran yang
lebih
homogen
dan
tidak{c)
[image:6.595.11.588.25.783.2]450 cm'
Gambar
2.
Spektrum
FT-IR
untuk
polistiren dengan surfaktan
setelahdikalsinasi: a) triton X-100, b) span 60, c) tween.
Bentuk partikel komposit yang lebih homogen
ini
disebabkan karena surfaktanyang
digunakanberat molekulnya lebih ringan,
rantainyalebih
pendek dengan struktur yangtidak
banyak cabang.Hal
ini
memudahkan interaksi antara polistiren dengansilika
sehinggaketika
dikalsinasisilika
akan menempel pada permukaan polistiren dengan baik saat zat organik yang terdapat pada komposithilalg
sewaktu dipanaskan. Surfaktan berfungsi sebagai jembatan penghubung antara poiistiren yang bersifathidrofob
dengansilika
yang bersifathidrofil.
Semakin panjang rantai akan mempengaruhi pembentukan bulatan partikel komposit.Gambar
4.
adalahfoto
SEM komposit polistiren/silika yang dibuat
dariprekusor EPS dan surfaktan tween setelah dikalsinasi pada shu 5000C. Terlihat disini partikel berbentuk bulatan tetapi sedikit kurang homogen
jika
dibandingkan dengankomposit
yang dibuat
dengan
menggunakansurfaktan
triton
X-100.
Hal
inidisebabkan surfaktan tween mempunyai rantai yang lebih panjang dibanding triton x- I 00 sehingga berpengaruh terhadap pembentukan komposit.
[image:7.595.11.588.15.801.2]a\ b)
Gambar
3.
Foto
SEM
kompositsurfaktan triton
X-100 20000 kaliyang pada
dibuat
dengan prekusorEpS
dan perbesarana)
10000kali
dan b)Garnbar 4.
Mikrograf
SEM dengan prekusor EpS dan surfaktantween
pada pembesaran a) 10000 kali dan b) 20000 kaiiGambar 5. menunjukkan
foto
SEM permukaan komposit yang dibuat dengan perkttsor EPS dan surfaktan span 60. Terlihat dari partikel sebagianGambar 6. memperlihatkan bentuk morfologi komposit pS/silika yang dibuat dengan dengan prekursor GPPS dan surfaktan tween setelah dikalsinasi pada
suhu 5000C, terlihat adanya bongkahan-bongkahan dan bentuk partikelnya tidak bulat atau
tidak
teratur.Jika
dibandingkan dengankomposit
PS/silika yangdibuat
dengan prekursor EPS dan surfaktan tween, powder yang didapat tidak berupa bulatan, lebih halus tetapi ukuran partikel tidak homogen dan adanya tumpukan. perbedaan beratmolekul polistiren yang digunakan akan memberikan pengaruh terhadap komposit yang dihasilkan. Komposit yang dibuat
dari
polistiren dengan beratmolekul
lebih ringan bentuknya lebih homogen dan teratur.a)
Gambar 5. Mikrograf SEM dengan prekusor EpS dan surfaktan span-60 pada pembesaran a) 10.000 kali dan b) 20.000 kali
b)
Gambar 6.
Mikrograf
SEM dengan prekusor GppS dan surfaktan tween pembesaran a) 10.000 kali dan b) 20.000 kali4,
KESIMPULAN
Dari
penelitian yang telah dilakukan dapat disimpulkan bahwakomposit pS/silika
yang dibuat melalui
prosessol gel
menggunakan surfaktan sebagai penghubung. SpektrumFTIR
dari komposit memperlihatkan munculnya puncak pada 1.102 cm-ryang merupakan regangan asimetris dari ikatan siloksan
Si-O-Si,
puncak 3.433 cm-l merupakan
pita
regangankelompok
hidroksil
dalam
Si-OH
dan
air.
Analisismikrostruktur komposit dengan
SEM
memperlihatkan bahwa komposit polistiren/silika
yang dibuat dengan menggunakan polistiren EPS dan surfaktantriton
X-l00
memiliki
bentuk
partikel yang
bulat
denganukuran
lebih
homogen dibanding menggunakan surfaktan yang lain.DAFTAR PUSTAKA
Antonietti,M.;
c
,Goltner.;H.p
Hentze. 199g, 'phase Behavior And polymerization Of Lyotropic Phases.II
A. Adv. Mater., 10, 154.caruso, F.: R.
A,
caruso.;H,
Mohwald._l99g,.,preparationof uniform
cd
se/polyelectrolyte Multilayers on the Surface
of
Sio2 spheres,,.,science,2g2,1.111.
Iskandar,F.;
o'
K,
Mikrajuddin. 2001 "Fabrication
of
Silika/polystyreneNano composite Microspheres by y-Ray Irradiation', . Nano
Let.,
l.23r.
Honda,
F;,
H Honda.; M, koishi.; T.J, Matsuno. Cltromctogr.r9g7,775,
13.Jeongwoo Lee, chang
Kook
Hong, Soonjachoe,
Sang EunShim,
2006,., synthesisof
PS/Si Composite Parlicleby
Soap-Free Emulsion poll,meri|,atioi
Using Positively ChargedColloidal Silica",
J.Colloiclantl
interfcrce Science.,,ll,
pp.008.Pastoriza-Santos,
I.; B,
Scholer.;F,
Caruso. 2001, ..Fligiremitting Polymer Diodes
via
Anode Modification Monolayer". Adv. Eng.Mater.,
ll,
I22.-
Brightness Blue Light-Using
a
Self-
AsembiedShibata, S.;
T,
Taniguchi.;T, yano.; A,
yasumori.;M,
yamane, 1994 ,,Structureof
Hybrid
Silica Gel Incorporatedwith
Hydrophobro by MolecLrles,,.I
Sot-Gel.Sci. Technol.,2,755.
Tissot,
I.;
c
,Novat.;F,
Lefebvre.;E,
Bougeat-Larni. 20a1, Macrontoleculelus,lT, s737.