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SiC の表面分解によるカーボンナノチューブ生成過程の 分子動力学解析

Molecular Dynamics Study on Synthesis Process of Carbon Nanotubes from Surface Decomposition of SiC

機正 * 山口 浩樹 (東大,名大) 伝正 丸山 茂夫 (東大)

Hiroki Yamaguchi

†‡

, Shigeo Maruyama

Dept. of Mech. Eng., The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo, Tokyo 113-8656

Dept. of Micro-Nano Systems Eng., Nagoya University, Furo-cho, Chikusa, Nagoya 464-8603

The carbon nanotube is a state of the art topic for both industrial and academic point of view and is now found the way for applications. But still the controlling of the diameter and/or the chirality is a big problem. There is a carbon nanotube synthesis method that the SiC crystal is heated in the vacuum condition to make the surface decomposition and form the carbon nanotube. Using this method, a carbon nanotube film with highly aligned and without any catalytic metals can be obtained, and these characteristics are a large advantage for applications of carbon nanotubes. It is also reported that most synthesized carbon nanotubes using a 6H-SiC crystal are the zigzag type. Still the mechanism of this process has not been revealed. The synthesis process of carbon nanotubes from surface decomposition of SiC has investigated using the classical Molecular Dynamics method.

Key Words : Molecular Dynamics, Carbon Nanotube, SiC, Surface Decomposition

1. 背景

カーボンナノチューブ(CNT)の合成手法に関する研究は非 常に盛んに行なわれており,アーク放電法,レーザー蒸発法,

CVD法,ACCVD法などが広く知られている.これらによっ て,大量合成による工業応用も現実味を帯びてきている.し かし,直径やカイラリティ(巻き方)に関して制御することは 出来ていない.CNTはそのカイラリティによって金属的にも 半導体的にも振舞うことが知られている.そのため,直径や カイラリティの制御がCNTの応用における重大な制約とな ることが危ぶまれている.

3C 4H 6H Fig.1 Polytypes of SiC.

近年開発された合成手法の一つに,SiCを真空中で加熱す ることによってCNTを合成するSiC表面分解法(1,2,3)がある.

このSiC表面分解法を用いることにより,配向の揃った高密 度のCNT膜を得ることが可能であり,また触媒金属を用いな いため,不純物がCNT膜に含まれないということが報告され ている.また,大部分のCNTは二層になっていることも示さ れている.さらに,SiC表面分解法において6H-SiCを基板と して用いることにより,大部分がジグザグ型のCNTとするこ とができる(4)ことが示された.なお,“6H-”SiCとは,図1に示 すような結晶多形(ポリタイプ)を表わしている.SiCは化学的 組成が同じでも,積層方向に対する自由度があり,いくつか の配置をとることが可能である.そのため,積層順序によっ て異なる構造をとり,それに従って大きく異なる物性をも示 すことが知られている.6H-は6層周期の六方晶系であること を意味している.この手法で用いられている6H-SiCは高温安 定であり,比較的容易にバルク結晶の作成が可能なポリタイ プになっており,このこともCNT膜の大量合成に対して有利 であると言える.

しかし,このSiC表面分解法によるCNT膜の生成機構に関 しては,機構のモデルは存在するものの,他のCNT生成機構 同様,十分に明らかになっているとは言い切れない.そこで,

本研究では,CNT生成機構の解析(5)においても広く利用され ている分子動力学法を用いた数値シミュレーションにより,

SiC表面分解法によるCNT膜の生成機構を解析する.

2. 計算系及び手法

本研究においてはSiC表面分解法を以下のプロセスに基づ くものと仮定して解析した.そのプロセスとは,6H-SiC の 基板表面に対し気体分子が入射してSiCのSi原子と結合し て離脱することにより,基板上に残るC同士が結合し,CNT を生成する,というものである.

この系の数値解析を実現するため,数値計算手法としては 古典分子動力学法を用いた.分子間ポテンシャルには,SiC に対してTersoffポテンシャル(6)を採用した.計算領域のSiC のc軸に垂直なxy方向には周期境界条件を課すことにより,

無限に続く薄膜を再現した.簡単のため,入射する気体分子 は酸素(O2)の物性を持った単原子Lennard-Jones(LJ)粒子とし た.そして,表面に入射した際,一定距離内にSi原子が入る と,結合して離脱し,基板表面とは相互干渉しないものとし てそのSi原子と単原子LJ粒子の両方を計算系から取り除い た.そして続けて,新しい単原子LJ粒子が計算系の上部から 入射してくるものとした.そのため,単原子LJ粒子の入射速 第43回日本伝熱シンポジウム講演論文集 (2006-5)

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度及び方向は実験を模擬していると言えるが,入射頻度に関 しては無関係になっていることに注意が必要である.また,

表面分解によってSiが減少していくことになるが,その際に 周期境界をまたいで影響を及ぼさないよう,広い計算領域を 取った.SiC薄膜の最下層原子は理想的な配置で固定した.

入 射 す る 単 原 子LJ粒 子 は 基 板 温 度 と 同 じ 温 度 に 対 す る Maxwell分布に従う並進速度を持ち,方向はランダムに入射 するものとした.時間進行には速度ベルレ法を採用し,時間 刻みはΔt=0.01fs.とした.

Fig.2 Schematic image of the simulated system;

Black ball: Si, Gray ball: C.

Fig.3 Schematic image of the 6H-SiC surface after the surface decomposition process for 25ps;

Black ball: Si, Gray ball: C.

3. 数値解析結果

まず,最初に6H-SiCの薄膜を再現した.そして,その薄 膜に対して,単原子LJ粒子を入射することにより,表面分 解法の過程を再現した.

3.1 6H-SiC薄膜 まず,Tersoffポテンシャルの確認のため,

3C-SiC結晶を三次元周期境界により再現し,格子定数が文献 6と一致することを確認した.その際の格子定数の関数とし

ての 3C-SiC結晶のポテンシャルエネルギーは図 3のように

な っ た . 実 験 値(3.081Å) (7)や 第 一 原 理 計 算 値(3.084Å(8), 3.033Å(9), 3.062Å(10))などとも比較的良い一致をしていること が分かる.

その後,6H-SiC の薄膜を準備するため,まず理想的な結 晶構造位置にSiおよびC原子を配置した.そして,0Kから

100 000ステップかけて目的の基板温度まで加熱し,その後

その温度を維持するように制御した.温度制御は速度スケー リング法によって行なった.この結果,基板温度を1000K及

び 1773K としても薄膜は安定して結晶構造を維持している

ことを確認した.

3.2 SiC表面分解法 前項の手順に従って作成した 6H-SiC

薄膜に対し,SiC表面分解法の解析を行なった.なお,個々 では基板温度を1000Kとしたものの結果を示す.最初の単原 子LJ粒子を入射し始めてから25ps後のSiC結晶表面の様子を 図3に示す.この段階では13 Si原子が脱離している.それ によりC原子同士の結合が現れ,結晶状態が崩れていること が見て取れる.しかし,SiC表面には未だに多くのSi原子が 存在しており,更に長時間の解析を進めることにより,更に 多くのSi原子を脱離させる必要がある.CCVDにおけるCNT 生成機構の解析(5)においてもnsオーダーの解析が必要不可欠 であることが明らかである.また,よりSi原子の脱離が進ん だ段階において,6員環が構成されるか,などの検証が必要 である.

さらに,M. Kusunokiら(1,2,3,4)の提案しているメカニズムに 従っているかどうかの検証を行なう必要がある.

4. まとめ

SiC分解法によるCNTの生成機構について,古典分子動力 学法を用いて検討した.CNT生成を確認するためには更に長 時間の解析が必要であり,また既に提案されているモデルに 対する検証を行なう必要がある.

Fig.2 Relation between the lattice constant and the potential energy of 3C-SiC crystal.

参考文献

(1) M. Kusunoki, et al., Appl. Phys. Lett., 71(1997) 2620.

(2) M. Kusunoki, et al., Philos. Magn. Lett., 79(1999) 153.

(3) M. Kusunoki, et al., Appl. Phys. Lett., 77(2000) 531.

(4) M. Kusunoki, et al., Chem. Phys. Lett., 366(2002) 458.

(5) Y. Shibuta, et al., Chem. Phys. Lett., 382(2003) 381.

(6) J. Tersoff, Phys. Rev. B, 39(1989) 5566.

(7) A. Bauer, et al., Phys. Rev. B, 57(1998) 2647.

(8) C. Raffy, et al., Mater. Sci. Forum, 353-356(2001) 111.

(9) P. Käckell, et al., Phys. Rev. B, 50(1994) 17037.

(10) F. Bechstedt, et al., Phys. Stat. Sol. B, 202(1997) 35.

第43回日本伝熱シンポジウム講演論文集 (2006-5)

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